本实用新型专利技术公开了一种带盖离心管理料装置，属于试管灌料技术领域。它包括振动盘、排列机构和上料机构，排列机构包括第一气缸、单通道槽、活动块、限位块和离心管拨叉，单通道槽设置在振动盘的下料口处，活动块上开设有单管槽，单管槽与单通道槽相对应，活动块与第一气缸的活动杆固定连接，限位块设置在活动块的移动方向上，且限位块上开设有用于限制离心管盖位置的限位槽，离心管拨叉设置在限位块的一侧，用于将带盖离心管准确推入限位槽内。本实用新型专利技术的单通道槽能够保证每次一个离心管进入活动块，同时活动块和限位块的配合使用能够使得离心管的盖子被限制在指定方向，从而有规律的被放置在定位工装中，有利于后续工艺的继续进行。续进行。续进行。
【技术实现步骤摘要】
一种带盖离心管理料装置
[0001]本技术涉及一种带盖离心管理料装置，属于试管灌料
技术介绍
[0002]离心管在生物科学，特别是生物化学和分子生物学研究领域，已得到十分广泛的应用，离心管主要用于各种生物样品的分离和制备，生物样品悬浮液盛放在离心管中在高速旋转下，由于巨大的离心力作用，使悬浮的微小颗粒（如细胞器、生物大分子的沉淀等）以一定的速度沉降，从而与溶液得以分离。
[0003]现有的带盖离心管的自动设备上，理料一直都是一个难题，虽然能将离心管进行顺序排列，但是离心管的盖子方向却不能够很好的控制，从而影响后续的压盖工艺。
技术实现思路
[0004]本技术所要解决的技术问题在于：提供一种带盖离心管理料装置，它解决了离心管的盖子方向却不能够很好的控制，从而影响后续的压盖工艺的问题。
[0005]本技术所要解决的技术问题采取以下技术方案来实现：
[0006]一种带盖离心管理料装置，包括振动盘、排列机构和上料机构，所述排列机构包括第一气缸、单通道槽、活动块、限位块和离心管拨叉，所述单通道槽设置在振动盘的下料口处，所述活动块上开设有单管槽，所述单管槽与单通道槽相对应，所述活动块与第一气缸的活动杆固定连接，所述限位块设置在活动块的移动方向上，且限位块上开设有用于限制离心管盖位置的限位槽，所述离心管拨叉设置在限位块的一侧，用于将带盖离心管准确推入限位槽内。
[0007]作为优选实例，所述上料机构包括支撑架、第二气缸、旋转气缸和真空吸盘，所述第二气缸沿重力方向设置在支撑架上，所述旋转气缸与第二气缸的活塞杆连接，所述真空吸盘设置在旋转气缸上，且与单管槽相对应。
[0008]作为优选实例，所述支撑架上设置有水平方向的滑轨，所述第二气缸设置在滑轨上。
[0009]作为优选实例，所述活动块的一侧设置有竖直设置的第三气缸和横移气缸，第三气缸与横移气缸的活塞杆连接，离心管拨叉与第三气缸的活塞杆连接。
[0010]作为优选实例，所述离心管拨叉设置有两个长度不同的圆柱体。
[0011]作为优选实例，还包括定位工装。
[0012]本技术的有益效果是：本技术的单通道槽能够保证每次一个离心管进入活动块，同时活动块和限位块的配合使用能够使得离心管的盖子被限制在指定方向，从而有规律的被放置在定位工装中，有利于后续工艺的继续进行。
附图说明
[0013]图1为本技术的俯视结构示意图；
[0014]图2为本技术的立体结构示意图；
[0015]图3为排列机构的结构示意图；
[0016]图4为排列机构工作时的机构示意图。
[0017]图中：振动盘1、第三气缸2、第一气缸3、定位工装4、旋转气缸5、第二气缸6、滑轨7、真空吸盘8、活动块9、单管槽91、限位块10、单通道槽11、行程开关12。
具体实施方式
[0018]为了对本技术的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本技术。
[0019]如图1
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4所示，一种带盖离心管理料装置，包括振动盘1、排列机构和上料机构，排列机构包括第一气缸3、单通道槽11、活动块9、限位块10和离心管拨叉12，单通道槽11设置在振动盘1的下料口处，活动块9上开设有单管槽91，单管槽91与单通道槽11相对应，活动块9与第一气缸3的活动杆固定连接，限位块10设置在活动块9的移动方向上，且限位块10上开设有用于限制离心管盖位置的限位槽，离心管拨叉12设置在限位块10的一侧，用于将带盖离心管准确推入限位槽内。
[0020]上料机构包括支撑架、第二气缸6、旋转气缸5和真空吸盘8，第二气缸6沿重力方向设置在支撑架上，旋转气缸5与第二气缸6的活塞杆连接，真空吸盘8设置在旋转气缸5上，且与单管槽91相对应。
[0021]活动块9的一侧设置有竖直设置的第三气缸2和横移气缸，横移气缸与该装置所连接的机架进行固定，第三气缸2与横移气缸的活塞杆连接，离心管拨叉12与第三气缸2的活塞杆连接，且与单管槽91相对应，离心管拨叉12设置有两个长度不同的圆柱体，分别与带盖离心管的管体和盖子相对应，当带盖离心管将要进入活动块9时，离心管拨叉12通过第三气缸2的带动分别插入带盖离心管的管体和盖子，随后通过横移气缸带动带盖离心管准确到位；该装置还包括光电检测电眼、支架等组成，通过检测带盖离心管在活动块9和限位块10中的位置决定上料机构的相应动作。
[0022]支撑架上设置有水平方向的滑轨7，第二气缸6设置在滑轨7上，滑轨7的移动与旋转气缸5配合使用，适用于多规格的设备，均能够准确的将离心管放入定位工装4内。
[0023]工作原理：在使用时，离心管从振动盘1中依次排列进行单通道槽11中，随后一个离心管在推动下进入活动块9上的单管槽91内，此时第一气缸3启动，推动活动块9向限位块10方向移动，由于限位块10上弧形限位槽的设置，离心管的盖子沿着限位槽的内壁滑动，直至在预设位置处，随后第二气缸6、旋转气缸5将真空吸盘8移动至离心管管口处将其吸住，放入定位工装4中。
[0024]以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种带盖离心管理料装置，包括振动盘（1）、排列机构和上料机构，其特征在于：所述排列机构包括第一气缸（3）、单通道槽（11）、活动块（9）、限位块（10）和离心管拨叉（12），所述单通道槽（11）设置在振动盘（1）的下料口处，所述活动块（9）上开设有单管槽（91），所述单管槽（91）与单通道槽（11）相对应，所述活动块（9）与第一气缸（3）的活动杆固定连接，所述限位块（10）设置在活动块（9）的移动方向上，且限位块（10）上开设有用于限制离心管盖位置的限位槽，所述离心管拨叉（12）设置在限位块（10）的一侧，用于将带盖离心管准确推入限位槽内。2.根据权利要求1所述的一种带盖离心管理料装置，其特征在于：所述上料机构包括支撑架、第二气缸（6）、旋转气缸（5）和真空吸盘（8），所述第二气缸（6...
【专利技术属性】
技术研发人员：顾怀龙，周国梅，
申请(专利权)人：上海迅腾机械制造有限公司，
类型：新型
国别省市：
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