【技术实现步骤摘要】
一种导电金属氧化物靶材制备工艺
[0001]本专利技术涉及一种靶材制备工艺,尤其是涉及一种导电金属氧化物靶材的制备工艺,属于靶材
技术介绍
[0002]目前,在低辐射玻璃的镀膜工艺中,普遍采用金属锌锡靶材进行反应溅射,以制备氧化锌锡涂层,该工艺涉及到反应溅射,膜层沉积低,生产效率慢,同时为了防止反应溅射过程中工艺气体对其他溅射镀膜环节的干扰,在工艺腔体两侧均需要留出缓冲空间,从而影响了镀膜产线的产能提升。为此,业内亟需一种能够提高产品的全新靶材材料。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的在于克服上述不足,提供一种能够采用磁控溅射制备氧化锌锡膜层的导电金属氧化物靶材的制备工艺,从而提高其镀膜工艺效率至三倍以上。
[0004]本专利技术的目的是这样实现的:一种导电金属氧化物靶材制备工艺,所述工艺步骤为:步骤1、选料:准备好Zn锭和Sn锭;步骤2、融化:Zn锭和Sn锭加热升温至400
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500℃融化,并采用电磁搅拌技术搅拌1
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2小时;步骤3、金属雾化:采用金属雾化工艺将步骤2中的熔融的金属合金制备成粉末状颗粒,粉末状颗为表面为氧化锌锡涂层、中心为ZnSn合金的球形颗粒;步骤4、筛分:从步骤3中的粉末状颗粒筛选出粒径为40~120um的球形颗粒作为粉料;步骤5、喷涂:采用等离子喷涂工艺,将步骤4中的粉料喷涂形成靶材。
[0005]优选的,步骤1中,Zn锭和Sn锭按照重量比分别为:Sn占比45~55%,Zn占比45~55%。
[000 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种导电金属氧化物靶材制备工艺,其特征在于:所述工艺步骤为:步骤1、选料:准备好Zn锭和Sn锭;步骤2、融化:Zn锭和Sn锭加热升温至400
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500℃融化,并采用电磁搅拌技术搅拌1
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2小时;步骤3、金属雾化:采用金属雾化工艺将步骤2中的熔融的金属合金制备成粉末状颗粒,粉末状颗为表面为氧化锌锡涂层、中心为ZnSn合金的球形颗粒;步骤4、筛分:从步骤3中的粉末状颗粒筛选出粒径为40~120um的球形颗粒作为粉料;步骤5、喷涂:采用等离子喷涂工艺,将步骤4中的粉料喷涂形成靶材。2.根据权利要求1所述一种导电金属氧化物靶材制备工艺,其特征在于:步骤1中,Zn锭和Sn锭按照重量比分别为:Sn占比45~55%,Zn占比45~...
【专利技术属性】
技术研发人员:蔺裕平,韩刚库,
申请(专利权)人:梭莱镀膜工业江阴有限公司,
类型:发明
国别省市:
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