曝光装置及其组合光罩制造方法及图纸

本申请实施例公开了一种曝光装置及其组合光罩，其中，组合光罩包括：第一金属层，所述第一金属层上开设有多个第一透光孔；第二金属层，与所述第一金属层相对设置，所述第二金属层上开设有多个第二透光孔，所述第二透光孔沿光轴与所述第一透光孔对应设置。本申请通过多层金属层滤除光束中的斜向光，保证光束内各光线均沿光轴方向传播，增加了光束内各光线的平行度，使得激光光束的分散性更低，进而使得激光光束在大间隙下也能进行精准刻蚀。解决了现有技术中目前接近式曝光机的光路平行度不高，导致形成的激光光束较为分散，需要使用较低间隙的技术问题。隙的技术问题。隙的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置及其组合光罩


[0001]本申请涉及显示领域，具体涉及一种曝光装置及其组合光罩。

技术介绍

[0002]光刻蚀加工是对薄膜表面或金属进行精密、微小和复杂图形加工的技术，尤其在半导体制造工业中，更是一项极为重要的制造技术。光刻蚀工艺流程是一个较为复杂的过程，其中曝光是光刻蚀技术中最重要的工艺环节。曝光需要光罩、光源和基底等材料。
[0003]在光刻蚀过程中，要求光线穿过光罩后，集中照射到光刻胶上，形成的光路需要较高的平行度。随着工艺能力要求不断提高，光刻蚀的区域精度的要求也越高。但由于目前接近式曝光机的光路平行度不高，导致形成的激光光束较为分散，此时需要使用较低的间隙，使光罩更靠近基板进行刻蚀，以减小光束分散。一个曝光动作内，需要间隙从大到小变化，越小移动越缓慢，若间隙过小，会导致在制备过程中，制备时间延长40％左右，产能损失大，同时，间隙过小，光罩被划伤的风险也更高。

技术实现思路

[0004]本申请实施例提供一种曝光装置及其组合光罩，可以解决现有技术中目前接近式曝光机的光路平行度不高，导致形成的激光光束较为分散本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种组合光罩，其特征在于，包括：第一金属层，所述第一金属层上开设有多个第一透光孔；第二金属层，与所述第一金属层相对设置，所述第二金属层上开设有多个第二透光孔，所述第二透光孔沿光轴与所述第一透光孔对应设置。2.如权利要求1所述的组合光罩，其特征在于，所述组合光罩包括：第一光罩，所述第一光罩包括第一透光层和所述第一金属层，所述第一金属层贴合于所述第一透光层的一侧；第二光罩，贴合于所述第一透光层背离所述第一金属层的一侧，所述第二光罩包括第二透光层和所述第二金属层，所述第二金属层贴合于所述第二透光层的一侧，并与所述第一透光层贴合。3.如权利要求2所述的组合光罩，其特征在于，所述第一光罩和所述第二光罩之间还设有粘胶层，所述粘胶层将所述第一光罩和所述第二光罩粘接。4.如权利要求3所述的组合光罩，其特征在于，所述粘胶层包括：固胶层，粘贴于所述第二金属层背离所述第二透光层的一面；液胶层，涂敷于所述固胶层背离所述第二金属层的一面。5.如权利要求1所述的组合光罩，其特征在于，所述第一透光孔的...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈都，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：