掩膜板组件、紫外处理用掩膜板及其制备方法技术

本申请实施例提供了一种掩膜板组件、紫外处理用掩膜板及其制备方法。掩膜板组件包括：第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板；每个掩膜板包括图案区和位于图案区周围的周边遮光区，周边遮光区用于与显示面板的边框区对应；图案区包括用于与显示面板的有效显示区对应的第一图案区、以及与位于有效显示区周围的虚设像素区对应的第二图案区；第一掩膜板的第一透光区、第二掩膜板的第二透光区和第三掩膜板的第三透光区，分布在所属掩膜板的第一图案区和第二图案区中。本申请实施例的掩膜板组件能够用于在显示面板的有效显示区和虚设像素区制备色阻，也能够用于制备紫外处理用掩膜板，扩大了掩膜板组件的应用场景。扩大了掩膜板组件的应用场景。扩大了掩膜板组件的应用场景。

【技术实现步骤摘要】
掩膜板组件、紫外处理用掩膜板及其制备方法


[0001]本申请涉及显示
，具体而言，本申请涉及一种掩膜板组件、紫外处理用掩膜板及其制备方法、以及紫外处理用掩膜基板及其制备方法。

技术介绍

[0002]薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay，简称TFT
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LCD)因其体积小、功耗低、无辐射等特点，在当前平板显示器市场占据主导地位。TFT
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LCD主要包括对盒设置的彩膜基板和阵列(Array)基板，以及在彩膜基板和阵列基板之间填充的液晶层。彩膜基板包括CF(ColorFilter，彩色滤光层)。
[0003]阵列基板制备之后，需将阵列基板与彩膜基板对盒设置以形成液晶显示面板，在对盒工艺通过紫外处理边框区的封框胶的过程中，如果紫外光照射到有效显示区和虚设像素区，可能会对有效显示区和虚设像素区内的结构的性质产生不良影响，因此，需要使用紫外处理用掩膜板对有效显示区进行物理遮挡。但是，紫外处理用掩膜板需要使用阵列掩膜板进行生产，而阵列掩膜板在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板组件，其特征在于，包括：第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板；每个掩膜板包括图案区和位于所述图案区周围的周边遮光区，所述周边遮光区用于与显示面板的边框区对应；所述图案区包括用于与显示面板的有效显示区对应的第一图案区、以及与位于所述有效显示区周围的虚设像素区对应的第二图案区；所述第一掩膜板的第一透光区、所述第二掩膜板的第二透光区和所述第三掩膜板的第三透光区，分布在所属掩膜板的所述第一图案区和所述第二图案区中；所述第一透光区、所述第二透光区和所述第三透光区，分别用于与所述显示面板的第一色阻、第二色阻、第三色阻所占区域对应。2.根据权利要求1所述的掩膜板组件，其特征在于，包括：至少部分所述第一透光区贯穿所述第一图案区；至少部分所述第二透光区贯穿所述第一图案区；至少部分所述第三透光区贯穿所述第一图案区。3.根据权利要求1所述的掩膜板组件，其特征在于，所述第一透光区的第二侧边缘与所述第二透光区的第一侧边缘在紫外处理参考基板上的投影重叠或接触；所述第二透光区的第二侧边缘与所述第三透光区的第一侧边缘在所述参考基板上的投影重叠或接触。4.一种基于如权利要求1
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3中任一项所述的掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板的方法，其特征在于，包括：在基板的一侧制备一层遮光层；分别基于所述掩膜板组件的第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，对所述遮光层进行图案化处理，得到遮光结构；所述紫外处理用掩膜板包括所述遮光结构和所述基板，所述基板包括与所述遮光结构对应的中央区域和位于所述中央区域周围的透光周边区，所述中央区域用于与显示面板的有效显示区和虚设像素区对应，所述透光周边区用于与所述显示面板的边框区对应。5.根据权利要求4所述的制备紫外处理用掩膜板的方法，其特征在于，在基板的一侧制备一层遮光层，包括在所述基板的一侧制备树脂遮光层，所述树脂遮光层的材料包括负性光刻胶；以及，分别基于所述掩膜板组件的第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，对所述遮光层进行图案化处理，得到遮光结构，包括：依次基于所述第一掩膜板、所述第二掩膜板、所述第三掩膜板，对所述树脂遮光层进行曝光；对经过三次所述曝光的所述树脂遮光层进行显影，得到树脂遮光结构；所述遮光结构包括树脂遮光结构。6.根据权利要求5所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王洋清，杨雪鑫，陈芸，童俊海，庄珍珍，黄骏，周晖，岳彬，张千，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：