本实用新型专利技术提供一种坩埚吸料用保护装置，用于保护吸料工件，包括：载体；和与所述载体相对设置的盖体；所述盖体与所述载体围成一用于放置所述吸料工件的内腔；所述盖体能够在所述吸料工件被置于所述内腔时与所述载体一起被悬空吊装以使所述吸料工件在单晶炉主室内静置并完成对石英坩埚内剩余硅料的吸取，再与所述载体一起配合使载有硅料的所述吸料工件同步驶离所述副室。本实用新型专利技术可保护吸料工件不被磕碰或损伤，防止吸料工件因被吸硅料在凝固过程中的热膨胀而炸裂；还可保证吸料工件在密封的环境中吸取硅料和保存硅料，并可使硅料在吸料工件内凝固过程中保证吸料工件安全且平稳地悬空于单晶炉内。稳地悬空于单晶炉内。稳地悬空于单晶炉内。
【技术实现步骤摘要】
一种坩埚吸料用保护装置
[0001]本技术属于单晶棒拉制中吸取锅底废料工艺的
，尤其是涉及一种坩埚吸料用保护装置。
技术介绍
[0002]当前为提高单晶硅棒拉制的产量，降低生产成本，常采用多次取段复投的方式进行拉制。而多次取段复投容易导致在石英坩埚内的剩余硅料出现金属杂质的聚集，使得下颗单晶硅棒中含有金属杂质较多，从而会降低其少子寿命，进而影响单晶品质及有效产量。而一旦出现少子寿命异常，需停炉清除石英坩埚内的锅底剩料，进而会增加开炉成本增加，延长拉制时间，亦需要多人配合清理锅底剩料。为降低单晶硅棒中的金属含量，提高被拉单晶硅棒的少子寿命，需在每次复投之前将锅底剩余硅料全部被吸取移走，即使用吸料工件将锅底省略吸干。
[0003]中国公开专利CN112538653A提出一种用于在线清理单晶炉内杂质底料的方法，直接是一体式的单层吸料装置，但这种结构极易在吊装过程中，容易与单晶炉主副室内腔壁磕碰出现裂纹，导致吸取后的硅料出现漏硅现象。同时由于吸料装置在下行从副室到主室途径两个温差范围较大的空间，容易导致吸管所受温差变化幅度大，当熔硅液流经吸管进入主腔中后极易造成腔室热胀冷缩，导致连接吸管或主腔出现爆裂，严重影响吸料效果，亦会使得主腔内收集到的硅料溅射，使吸料装置整体无法受到保护。
[0004]故，需要在吸取硅料的工件外部设置一防护装置，以保护内腔结构的安全性，并消化收集硅料的内腔产生的膨胀挤压压力，以降低其由热胀冷缩产生的压力变形，是本案专利技术的重点。
技术实现思路
[0005]本技术提供一种坩埚吸料用保护装置，用于放置吸料工件，解决了现有吸料装置结构设计不合理导致吸料过程中容易产生漏硅或爆裂的技术问题。
[0006]为解决上述技术问题，本技术采用的技术方案是：
[0007]一种坩埚吸料用保护装置，用于保护吸料工件，包括：
[0008]载体；和
[0009]与所述载体相对设置的盖体；
[0010]所述盖体与所述载体围成一用于放置所述吸料工件的内腔；
[0011]所述盖体能够在所述吸料工件被置于所述内腔时与所述载体一起被悬空吊装以使所述吸料工件在单晶炉主室内静置并完成对石英坩埚内剩余硅料的吸取，再与所述载体一起配合使载有硅料的所述吸料工件同步驶离所述副室。
[0012]进一步的，所述盖体与所述载体可拆卸连接，所示盖体下端口与所述载体上端口配合；
[0013]当所述盖体与所述载体配合后形成的所述内腔为封闭结构。
[0014]进一步的，所述盖体与所述载体配合形成一直壁式圆柱体结构。
[0015]优选地，所述盖体包裹于所述载体配合；或者
[0016]内嵌于所述载体设置。
[0017]进一步的，在所述盖体上端面设有与所述副室中的重锤相适配的配置槽；
[0018]所述配置槽为阶梯式结构；
[0019]且所述配置槽下端面距离所述内腔在所述盖体中的位置有一定距离。
[0020]进一步的，所述内腔的高度大于其横截面直径。
[0021]优选地，所述内腔直径是其高度的3/4
‑
4/5。
[0022]进一步的，所述内腔结构与所述吸料工件外壁相适配；
[0023]所述内腔壁厚相同且小于所述内腔底部壁厚。
[0024]优选地，所述载体靠近所述吸料工件的吸料口处的转角处为圆弧角，其壁厚大于所述载体下端面厚度。
[0025]进一步的，所述吸料工件中的吸料口置于所述内腔下端，并贯穿所述载体下端面设置。
[0026]采用本技术设计的保护装置，可保护吸料工件不被磕碰或损伤，防止吸料工件因被吸硅料在凝固过程中的热膨胀而炸裂；还可保证吸料工件在密封的环境中吸取硅料和保存硅料，亦可防止硅料飞溅出吸料工件外；同时还可使硅料在吸料工件内凝固过程中保证吸料工件安全且平稳地悬空于单晶炉内。
附图说明
[0027]图1是本技术实施例一的一种坩埚吸料用保护装置的结构示意图；
[0028]图2是本技术实施例二的一种坩埚吸料用保护装置的结构示意图；
[0029]图3是本技术实施例三的一种坩埚吸料用保护装置的结构示意图；
[0030]图4是本技术实施例三的一种坩埚吸料用保护装置的结构示意图。
[0031]图中：
[0032]10、载体
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
20、盖体
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
30、内腔
[0033]40、配置槽
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
50、通孔
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
60、吸料工件
具体实施方式
[0034]下面结合附图和具体实施例对本技术进行详细说明。
[0035]本实施例提出一种坩埚吸料用保护装置，用于保护吸料工件60，如图1所示，包括：载体10和与载体10相对设置的盖体20；其中，盖体20与载体10围成一用于放置吸料工件60的内腔30；盖体20能够在吸料工件60被置于内腔30时与载体10一起被悬空吊装以使吸料工件60在单晶炉主室内静置并完成对石英坩埚内剩余硅料的吸取，再与载体10一起配合使载有硅料的吸料工件60同步驶离副室。也即是载有吸料工件60的保护装置被悬吊至主室中静置保护吸料工件60，吸料工件60中的吸管进入熔硅液中进行吸取，此时，载有吸料工件60的保护装置可位于主室内的任一所要求的位置悬吊，在此不具体限制。
[0036]进一步的，盖体20与载体10为可拆卸连接，目的是使在吸料之前先将吸料工件60预置放入内腔30中，使吸料工件60的吸料管贯穿载体10的下端面的通孔50，平稳放置在盖
体20和载体10共同围成空腔30内。其中，盖体20的下端口与载体10的上端口配合；并要求当盖体20与载体10配合后形成的内腔30为封闭式结构。
[0037]这一结构可保证吸料工件60的吸料管进入石英坩埚中的剩余熔硅液中形成一密闭的吸料腔，控制石英坩埚内的压力可使吸料腔内外形成一定的压力差，使熔硅液进入吸料腔中并储存，且不会流出吸料腔外，也即是密封的内腔30可保证被吸入至吸料工件60中的硅料不会溢流至内腔30中；同时内腔30亦可保证吸料工件60因热胀冷缩造成的变形变化，并可防止吸料工件60在上下移动过程中或在吸料过程中不会被磕碰或损坏，保证吸料工件60的完整性和气密性，为完全吸料奠定基础。
[0038]进一步的，盖体20与载体10配合形成一直壁式圆柱体结构，因为单晶炉副室内壁及主室内石英坩埚上方的通道均为圆筒形结构，直壁式圆柱体结构不仅有利于保护装置进出入副室至主室内。尤其是其在主室内时，保护装置带动吸料工件60刚从低温区域的副室进入高温区域的主室内，并静置在热场温度较高的石英坩埚上方，会受到强高温的气流冲击，而直壁式圆柱体可使其外壁周缘受气流冲击均匀且可分散从石英坩埚内壁向保护装置一侧飘动的气压流，使气压流不宜在保护装置的外壁任何位置集聚，以使其可平稳地且安本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种坩埚吸料用保护装置，用于保护吸料工件，其特征在于，包括：载体；和与所述载体相对设置的盖体；所述盖体与所述载体围成一用于放置所述吸料工件的内腔；所述盖体能够在所述吸料工件被置于所述内腔时与所述载体一起被悬空吊装以使所述吸料工件在单晶炉主室内静置并完成对石英坩埚内剩余硅料的吸取，再与所述载体一起配合使载有硅料的所述吸料工件同步驶离副室。2.根据权利要求1所述的一种坩埚吸料用保护装置，其特征在于，所述盖体与所述载体可拆卸连接，所示盖体下端口与所述载体上端口配合；当所述盖体与所述载体配合后形成的所述内腔为封闭结构。3.根据权利要求1或2所述的一种坩埚吸料用保护装置，其特征在于，所述盖体与所述载体配合形成一直壁式圆柱体结构。4.根据权利要求3所述的一种坩埚吸料用保护装置，其特征在于，所述盖体包裹于所述载体配合；或者内嵌于所述载体设置。5.根据权利要求4所述的一种坩埚吸料用保护装置，其特征在于，在所述盖体上端面设有与所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：项龙，刘振宇，赵子龙，王林，杨志，刘有益，王建平，
申请(专利权)人：内蒙古中环协鑫光伏材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。