【技术实现步骤摘要】
一种籽晶上置改进型热交换法生长高温氧化物晶体装置及方法
[0001]本专利技术涉及高温氧化物晶体生长的
,特别涉及一种籽晶上置改 进型热交换法生长高温氧化物晶体装置及方法。
技术介绍
[0002]目前,现有的高温氧化物晶体生长方法常用主要有五种:提拉法、热交换 法、坩埚下降法、温度梯度法和泡生法。提拉法方法的缺点是:1、同等坩埚 条件下,晶体较小,直径不超过坩埚50%,2、由于梯度较大,生长界面过分 的凸起,热应力大、位错增值引起位错密度过大,单晶性不好;3、温度梯度 大,能耗高。热交换法的缺点是:设备条件要求高,整个工艺复杂,晶体生 长周期长、需要大量氦气作冷却剂,成本高,温度梯度分布与重力场相反, 不利于排杂,晶体与坩埚接触,晶体的应力大,并容易寄生成核引起多晶, 晶体生长不能实时控制和观察及生长界面过凸,热应力和位错过大。坩埚下 降法的缺点是:不宜用于负膨胀系数的材料,以及液体密度大于固体密度的 材料,由于坩埚作用,容易形成应力,寄生成核和污染,不易于观察及下降 机构存在机械扰动;温度梯度法的缺点温度梯度分布与重 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种籽晶上置改进型热交换法生长高温氧化物晶体的装置,其特征在于,包括:提拉机构(101)、与所述提拉机构(101)固接的旋转机构(102)、与所述旋转机构(102)固接的称重机构(103)及与所述称重机构(103)固接的水冷晶杆(104),所述水冷晶杆(104)远离提拉机构(101)的一端设置有真空腔室(301),所述真空腔室(301)内设置有支撑平台(204),所述支撑平台(204)侧面均设置有保温层(305),支撑平台(204)的中间部位设置有下保温层(307),所述下保温层(307)上设置有U型发热体(303),所述U型发热体(303)内设置有坩埚(304),所述坩埚(304)上设置有上保温层(302),且水冷晶杆(104)远离提拉机构(101)的一端设置于上保温层(302)中。2.如权利要求1所述的一种籽晶上置改进型热交换法生长高温氧化物晶体的方法,其特征在于,所述真空腔室(301)上端开设有进气口(201),真空腔室(301)的下端开设有抽气口(202)。3.如权利要求1或2所述的一种籽晶上置改进型热交换法生长高温氧化物晶体的方法,其特征在于,包括下步骤:S1、将原料装入晶体炉的坩埚(304)内,将籽晶固定在的水冷晶杆(104)的底端部,盖上晶体炉的上炉盖,将晶体腔室炉内抽成1.0
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10
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1Pa;S2、用(惰性气体和还原气体)混合气体流动气氛充入炉内,保持炉内真空度合适范围(1~500Pa),坩埚(304)壁上的U型发热体(303)通电,以1500~5000W/h的速率加热,直到坩埚(30...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄鼎雯,黄小卫,邵明国,田化民,
申请(专利权)人:上海欣黎机电科技有限公司黄小卫,
类型:发明
国别省市:
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