一种用于纳米乳剂的均质模块制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于纳米乳剂的均质模块，包括相嵌套的第一模块和第二模块，第一模块的底面上开设有第一接口，第二模块的底面上开设有与第一模块的顶部相嵌合的槽体，第二模块的顶面上开设有第二接口，第一模块内设有呈一列排布的分散腔和乳化腔，分散腔和第一接口之间通过分散流道相连通，分散腔和乳化腔之间通过第一连接流道相连通，第二模块上设有连通第二接口和乳化腔的第二连接流道，第二模块上槽体的内底面上开设有环绕第二连接流道设置的密封槽，密封槽内设有套设在第二连接流道外的密封垫片，分散流道的长度大于第一连接流道或者第二连接流道的长度；本实用新型专利技术提供了一种提高乳剂效率的用于纳米乳剂的均质模块。一种提高乳剂效率的用于纳米乳剂的均质模块。一种提高乳剂效率的用于纳米乳剂的均质模块。

【技术实现步骤摘要】
一种用于纳米乳剂的均质模块


[0001]本技术涉及一种乳化设备，尤其涉及一种用于纳米乳剂的均质模块。

技术介绍

[0002]乳化是一种液体以极微小液滴均匀地分散在与它不相混溶的另一种液体中的作用，所形成的混合物称为乳状液。乳化时液
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液界面增加，体系的界面自由能增加，因此乳化需要外界对体系做功。乳化技术广泛地应用在各个领域，比如制药、化工、食品和化妆品等。乳状液的稳定性与乳状液的成分以及微液滴的大小(分散性)有很大的关系。
[0003]传统的乳化方法主要有搅拌乳化装置、高压均质机、高剪切均质机、胶体磨等。对物料进行剪切、分散、撞击，实现分散乳化，促使油水相溶。
[0004]目前市面上的乳化装置：搅拌乳化机、高压均质机、高剪切均质机、胶体磨。
[0005]目前市面上的制备纳米乳的设备存在以下缺点：
[0006]1、高速剪切机一般是用来制备一定粒度分布的初乳，要想得到纳米乳液，用时非常长。
[0007]2、高压均质机，压力不是很高，需要处理很多次才能达到所要的效果。
[0008]3、微射流均质机，流量较小，设备价格昂贵，成本非常高。
[0009]4、超声波乳化效果还好，但仅仅适用于小批量生产。
[0010]有鉴于上述的缺陷，本设计人，积极加以研究创新，以期创设一种通过一次处理就能达到乳化效果，还能省去高速剪切流程的用于纳米乳剂的均质模块，使其更具有产业上的利用价值。

技术实现思路

[0011]为解决上述技术问题，本技术的目的是提供一种能够提高乳剂效率的用于纳米乳剂的均质模块。
[0012]本技术的用于纳米乳剂的均质模块，包括相嵌套的第一模块和第二模块，所述第一模块的底面上开设有第一接口，所述第二模块的底面上开设有与所述第一模块的顶部相嵌合的槽体，所述第二模块的顶面上开设有第二接口，所述第一模块内设有呈一列排布的分散腔和乳化腔，所述分散腔和第一接口之间通过分散流道相连通，所述分散腔和乳化腔之间通过第一连接流道相连通，所述第二模块上设有连通所述第二接口和乳化腔的第二连接流道，所述第二模块上槽体的内底面上开设有环绕所述第二连接流道设置的密封槽，所述密封槽内设有套设在所述第二连接流道外的密封垫片，所述分散流道的长度大于所述第一连接流道或者第二连接流道的长度。
[0013]对本技术提供的一种用于纳米乳剂的均质模块进行进一步的改进，所述分散流道、第一连接流道和第二连接流道均为管状流道。
[0014]对本技术提供的一种用于纳米乳剂的均质模块进行进一步的改进，分散腔和乳化腔均为圆柱形腔体。
[0015]对本技术提供的一种用于纳米乳剂的均质模块进行进一步的改进，所述第一接口和第二接口均为螺纹接口。
[0016]对本技术提供的一种用于纳米乳剂的均质模块进行进一步的改进，所述螺纹接口是耐高压的螺纹接口。
[0017]对本技术提供的一种用于纳米乳剂的均质模块进行进一步的改进，所述第一连接流道和第一接口的相接处以及所述第二连接流道和第二接口的相接处均设有喇叭状接口。
[0018]借由上述方案，本技术至少具有以下优点：
[0019]提供了一种通过一次处理就能达到乳化效果，还能省去高速剪切流程的用于纳米乳剂的均质模块。
[0020]1、能高效制备纳米乳的高压均质模块，能快速达到所要粒径的纳米乳；
[0021]2、与普通均质阀联合使用，1
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2次处理即可达到普通均质机8
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10次处理的效果；
[0022]3、成本较小；
[0023]4、用在均质上，可以大量生产纳米乳。
[0024]上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
[0025]图1是用于纳米乳剂的均质模块的剖视图。
[0026]图中各附图标记的含义如下。
[0027]1 第一模块
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2 第二模块
[0028]3 第一接口
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4 槽体
[0029]5 第二接口
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6 分散腔
[0030]7 乳化腔
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8 分散流道
[0031]9 第一连接流道
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10 第二连接流道
[0032]11 密封垫片
具体实施方式
[0033]下面结合附图和实施例，对本技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本技术，但不用来限制本技术的范围。
[0034]如图1的用于纳米乳剂的均质模块，包括相嵌套的第一模块1和第二模块2，第一模块1的底面上开设有第一接口3，第二模块2的底面上开设有与第一模块1的顶部相嵌合的槽体4，第二模块2的顶面上开设有第二接口5，第一模块1内设有呈一列排布的分散腔6和乳化腔7，分散腔6和第一接口3之间通过分散流道8相连通，分散腔6和乳化腔7之间通过第一连接流道9相连通，第二模块2上设有连通第二接口5和乳化腔7的第二连接流道10，第二模块2上槽体的内底面上开设有环绕第二连接流道10设置的密封槽，密封槽内设有套设在第二连接流道10外的密封垫片11，分散流道8的长度大于第一连接流道9或者第二连接流道10的长度。
[0035]对本技术提供的一种用于纳米乳剂的均质模块进行进一步的改进，分散流道8、第一连接流道9和第二连接流道10均为管状流道。
[0036]对本技术提供的一种用于纳米乳剂的均质模块进行进一步的改进，分散腔6和乳化腔7均为圆柱形腔体。
[0037]对本技术提供的一种用于纳米乳剂的均质模块进行进一步的改进，第一接口3和第二接口5均为螺纹接口。
[0038]对本技术提供的一种用于纳米乳剂的均质模块进行进一步的改进，螺纹接口是耐高压的螺纹接口。
[0039]对本技术提供的一种用于纳米乳剂的均质模块进行进一步的改进，第一连接流道9和第一接口3的相接处以及第二连接流道10和第二接口5的相接处均设有喇叭状接口。
[0040]本技术提供的用于纳米乳剂的均质模块的原理如下：
[0041]利用第一接口引入物料后，先通过高速分散单元，即分散流道和分散腔，对流速达到25～45m/s的流体进行强力分散，再经过乳化腔，此时流速可达100～300m/s，从而进行强力乳化，应用在纳米乳剂乳化过程中，可极大提升乳化效率，达到一次处理达到乳化效果的目的，可以省去高速剪切的流程，用于乳剂。
[0042]本技术提供的一种用于纳米乳剂的均质模块的优势如下：
[0043]1、模块：第一模块和第二模块都是合金模块，可以支撑保护里面的分散腔和乳化腔；本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于纳米乳剂的均质模块，其特征在于：包括相嵌套的第一模块(1)和第二模块(2)，所述第一模块(1)的底面上开设有第一接口(3)，所述第二模块(2)的底面上开设有与所述第一模块(1)的顶部相嵌合的槽体(4)，所述第二模块(2)的顶面上开设有第二接口(5)，所述第一模块(1)内设有呈一列排布的分散腔(6)和乳化腔(7)，所述分散腔(6)和第一接口(3)之间通过分散流道(8)相连通，所述分散腔(6)和乳化腔(7)之间通过第一连接流道(9)相连通，所述第二模块(2)上设有连通所述第二接口(5)和乳化腔(7)的第二连接流道(10)，所述第二模块(2)上槽体的内底面上开设有环绕所述第二连接流道(10)设置的密封槽，所述密封槽内设有套设在所述第二连接流道(10)外的密封垫片(11)，所述分散流道...

【专利技术属性】
技术研发人员：童舸，汪茂强，
申请(专利权)人：安拓思纳米技术苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：