抛光方法技术

脱水干燥方法脱水和干燥衬底。在不旋转的情况下脱水和干燥衬底（１５）同时衬底（１５）容纳在用来在用于执行一些处理的装置间承载衬底（１５）的载体（１０）中。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
,以及衬底处理装置的制作方法
本专利技术涉及脱水干燥方法、脱水干燥装置和用于脱水和干燥用在半导体制作工艺等等中，在湿处理中处理过的衬底的衬底处理装置。
技术介绍
迄今为止，在半导体制做中，已经习惯通过旋转-干燥处理或N2气流处理来脱水和干燥在湿处理中处理过的衬底，在该旋转-干燥处理中，由旋转式脱水机以高速旋转衬底以便在离心力的作用下去除附着在衬底表面的水分将N2气体吹到衬底上以便干燥衬底。近年来，当半导体设备的处理速度变得更高时，已经将所谓的低k薄膜用作将形成在衬底上的绝缘膜。由于它们的生产工艺，许多这样的低k薄膜具有多孔结构以及亲水性和吸水特性。在半导体制作工艺中，当在湿处理，诸如使用超纯水等等的清洗处理中处理其上具有这种低k薄膜的衬底，然后通过如上所述的旋转-干燥工艺或N2气流工艺进行脱水和干燥，水分子易于留在低k膜中。留在低k膜中的这种水分子的问题在于剩余的水分子使得低k薄膜膨胀，因此变形。另外，当在高真空或超真空的情况下执行衬底的后续处理时，由于留在低k薄膜中的水分子，不能实现在后续处理中所需的真空度。
技术实现思路
鉴于上述缺陷，而提出了本专利技术。因此，本专利技术的目的是提供能去除留在用作为在衬底上形成的绝缘膜的具有吸水性的薄膜，诸如低k薄膜中的水、且干燥这种薄膜和衬底的脱水干燥方法、脱水干燥装置以及衬底处理装置。为实现上述目的，根据本专利技术的一个方面，提供一种用于脱水和干燥衬底的脱水干燥方法，包括脱水和干燥衬底，同时将衬底容纳在用来承载衬底的载体中。在本专利技术的优选方面中，在不旋转的情况下，脱水和干燥容纳在载体中的衬底。在本专利技术的优选方面中，载体用来在用于执行一些处理的装置间承载衬底。由于在不旋转的情况下脱水和干燥衬底，在这种情况下，衬底容纳在用来在装置间承载衬底的载体中，与衬底的其他处理分开地，脱水和干燥衬底，因此，通过这种脱水和干燥处理，不影响衬底处理装置的衬底处理时间。另外，在衬底其上包括具有吸水性的多孔膜，诸如低k膜的情况下，例如，能充分地去除存在于多孔膜中的水，因此，能防止多孔膜膨胀从而变形。另外，当在高真空或超高真空的情况下，执行衬底的后续处理，由于充分脱水和干燥衬底，能实现在这一过程中所需的真空度。在本专利技术的优选方面中，通过暴露于真空，脱水和干燥容纳在载体中的衬底。在本专利技术的优选方面中，通过暴露于干燥气体，脱水和干燥容纳在载体中的衬底。在本专利技术的优选方面中，通过加热，或通过暴露于真空和/或干燥气体并结合加热，脱水和干燥容纳在载体中的衬底。由于通过暴露于真空，或暴露于干燥气体，或暴露于真空和/或干燥气体结合加热，脱水和干燥容纳在载体中的衬底，能有效地移除存在于衬底上形成的、具有吸水性的多孔膜诸如低k膜中的水。在本专利技术的优选方面中，脱水干燥方法进一步包括在将衬底容纳在载体中前，初步干燥衬底。在本专利技术的优选方面中，通过旋转干燥处理初步干燥衬底。由于在将衬底容纳在载体中前，初步干燥(例如旋转干燥)衬底，通过初步干燥过程去除附着在衬底的表面上的水。其余的水，例如存在于形成在衬底上、具有吸水性的多孔膜诸如低k膜中的水被有效地去除，同时衬底在载体中被脱水和干燥。另外，由于通过初步干燥过程，已经从衬底去除大多数水，能降低载体中的脱水和干燥负担。在本专利技术的优选方面中，衬底包含具有吸水性的薄膜。在具有吸水性的薄膜形成在衬底上的情况下，特别是在具有吸水性的薄膜暴露在衬底的表面上的情况下，通过旋转干燥过程，不能易于去除存在于这种薄膜中的水。在本专利技术中，由于脱水和干燥衬底同时衬底容纳在用来承载装置间的衬底的载体中，在不影响衬底处理装置的衬底处理时间的情况下，能脱水和干燥衬底，因此能有效地去除存在于具有吸水性的薄膜中的水。另外，当在高真空或超高真空的情况下执行衬底的后续处理时，由于已经充分地脱水和干燥衬底，能实现这一过程中所需的真空度。根据本专利技术的另一方面，提供一种用于脱水和干燥衬底的脱水干燥装置，包括脱水干燥设备，用于脱水和干燥衬底，同时将衬底容纳在用来承载衬底的载体中。在本专利技术的优选方面中，在不旋转的情况下，脱水和干燥容纳在载体中的衬底。在本专利技术的优选方面中，载体用来在用于执行一些处理的装置间承载衬底。在本专利技术的优选方面中，脱水干燥设备通过使衬底暴露于真空，脱水和干燥容纳在载体中的衬底。在本专利技术的优选方面中，脱水干燥设备通过使衬底暴露于干燥气体，脱水和干燥容纳在载体中的衬底。在本专利技术的优选方面中，脱水干燥设备通过加热衬底，或通过使衬底暴露于真空和/或干燥气体并结合加热衬底，脱水和干燥容纳在载体中的衬底。由于在不旋转的情况下，由脱水干燥设备脱水和干燥衬底，同时衬底容纳在用来承载装置间的衬底的载体中，能与衬底的其他处理分开地脱水和干燥衬底，因此，通过这种脱水和干燥过程，能不影响衬底处理装置的衬底处理时间。另外，在衬底其上包含具有吸水性的多孔膜，诸如低k膜的情况下，例如，能充分地去除存在于多孔膜中的水，因此，能防止多孔膜膨胀，从而变形。另外，当在高真空或超高真空的情况下执行衬底的后续处理时，由于充分地脱水和干燥衬底，能实现这一过程中所需的真空度。因为通过暴露于真空，或通过暴露于干燥气体，或加热，或暴露于真空和/或干燥气体结合加热，能脱水和干燥容纳在载体中的衬底，能有效地去除存在于在衬底上形成的、具有吸水性的多孔膜中，诸如低k膜中的水。根据本专利技术的另一方面，提供一种用于处理衬底的衬底处理装置，包括脱水干燥装置，用于脱水和干燥在一过程中处理过的衬底；其中，脱水干燥装置包括脱水干燥设备，用于脱水和干燥衬底。同时衬底容纳在用来承载衬底的载体中。在本专利技术的优选方面中，在不旋转的情况下，脱水和干燥容纳在载体中的衬底。在本专利技术的优选方面中，载体用来在用于执行一些处理的装置间承载衬底。在本专利技术的优选方面中，脱水干燥设备通过使衬底暴露于真空，脱水和干燥容纳在载体中的衬底。在本专利技术的优选方面中，脱水干燥设备通过使衬底暴露于干燥气体，脱水和干燥容纳在载体中的衬底。在本专利技术的优选方面中，脱水干燥设备通过加热衬底，或通过使衬底暴露于真空和/或干燥气体并结合加热衬底，脱水和干燥容纳在载体中的衬底。如上，由于通过脱水干燥装置脱水和干燥已经处理过的衬底，通过这种脱水和干燥过程不影响衬底处理装置的衬底处理时间。另外，能有效地去除残留在具有吸水性的多孔膜，诸如低k膜中的水以便脱水和干燥衬底。根据本专利技术的另一方面，提供一种抛光方法，包括抛光衬底以便形成抛光的衬底；清洗和干燥所抛光的衬底以便形成清洁和干燥的衬底；以及通过真空干燥设备，脱水和干燥清洁和干燥的衬底。在本专利技术的优选方面中，衬底包含具有吸水性并用作绝缘材料的薄膜。根据本专利技术的另一方面，提供一种抛光方法，包括抛光衬底以形成抛光的衬底；清洗和干燥所抛光的衬底以便形成清洁和干燥的衬底；以及通过加热干燥设备，脱水和干燥清洁和干燥的衬底。在本专利技术的优选方面中，衬底包含具有吸水性并用作绝缘材料的薄膜。根据本专利技术的另一方面，提供一种抛光方法，包括抛光包含具有吸水性并用作绝缘材料的薄膜的衬底以便形成抛光的衬底；清洗和干燥所抛光的衬底以便形成清洁和干燥的衬底；以及去除残留在薄膜中的水以便脱水和干燥清洁和干燥的衬底。附图说明图1A是根据本专利技术的第一实施例，通过止回阀将其载体本体连接到真空源以便在载体中逐渐形本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于脱水和干燥衬底的脱水干燥方法，包括：脱水和干燥衬底，同时将衬底容纳在用来承载衬底的载体中。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：阿藤浩司，户川哲二，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]