一种微蚀刻液电解提铜装置制造方法及图纸

技术编号:32386242 阅读:15 留言:0更新日期:2022-02-20 09:19
本实用新型专利技术公开了一种微蚀刻液电解提铜装置,包括电解槽,所述电解槽下端安装有若干个支撑腿,所述电解槽外表面中部固定套接有加强筋,所述电解槽上端安装有安装环面,所述安装环面上端固定安装有两个左右对称的把手,所述安装环面上端左部安装有阳极端,所述安装环面上端右部安装有阴极端,所述电解槽内腔上方设置有四个密封盖,四个所述密封盖呈线性阵列分布,所述电解槽内腔上部安装有三个隔板,所述隔板位于两个左右相邻的密封盖之间。本实用新型专利技术所述的一种微蚀刻液电解提铜装置,通过设置加药机构、控制器和铜离子浓度检测器共同配合实现自动加药的功能,提高了工作效率,且有效避免工人接触氨水,保障工人的身体健康,实用性强。用性强。用性强。

【技术实现步骤摘要】
一种微蚀刻液电解提铜装置


[0001]本技术涉及碱性微蚀刻液
,特别涉及一种微蚀刻液电解提铜装置。

技术介绍

[0002]蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻工艺常应用于PCB板生产,其中蚀刻工序是PCB生产流程中比重最大的一部分,当蚀刻液由于溶解的物质太多而使蚀刻指标(包括速度、侧蚀系数、表面洁净性等)低于工艺要求时,即成为蚀刻废液,该废液中含有铜离子“100

170g/L”、氨、盐酸及氯化铵等物。
[0003]为回收碱性蚀刻废液中的铜离子大多通过直接电解法和或萃取电解法,其中直接电解法是将用后的碱性蚀刻液收集后直接电解,电解出高纯度的紫铜板,经电解后的蚀刻液添加适量氨水、蚀刻盐和补充剂后,还原成再生蚀刻液重新投入蚀刻过程中,实现循环利用,但现有的微蚀刻液电解提铜装置中,大多需要人工进行添加氨水、蚀刻盐等,效率低,且氨水的气味较为刺鼻,影响工人的身体健康,实用性较差。

技术实现思路

[0004]本技术的主要目的在于提供一种微蚀刻液电解提铜装置,可以有效解决
技术介绍
中的问题。
[0005]为实现上述目的,本技术采取的技术方案为:
[0006]一种微蚀刻液电解提铜装置,包括电解槽,所述电解槽下端安装有若干个支撑腿,所述电解槽外表面中部固定套接有加强筋,所述电解槽上端安装有安装环面,所述安装环面上端固定安装有两个左右对称的把手,所述安装环面上端左部安装有阳极端,所述安装环面上端右部安装有阴极端,所述电解槽内腔上方设置有四个密封盖,四个所述密封盖呈线性阵列分布,所述电解槽内腔上部安装有三个隔板,所述隔板位于两个左右相邻的密封盖之间,所述安装环面上端后部安装有安装板,所述安装板上端左部安装有直流电源,所述直流电源与阳极端、阴极端均电性连接,所述安装板上端中部设置有加药机构,所述加药机构延伸至电解槽内腔,所述安装板上端右部安装有控制器。
[0007]优选的,所述安装环面上端安装有四个矩形卡环,所述矩形卡环上端前部和上端后部均开有卡槽,两个所述卡槽共同活动卡接有卡条,所述卡条下端安装有铜板,所述铜板下端延伸至电解槽内腔。
[0008]优选的,所述电解槽内腔下壁安装有钛板,所述电解槽内腔右壁安装有铜离子浓度检测器。
[0009]优选的,所述加药机构包括加药箱,所述加药箱下端安装有水泵,所述水泵下端安装有T形主管,所述T形主管外表面下部安装有四个L形喷头。
[0010]优选的,所述水泵、T形主管和L形喷头均内嵌于安装板内部和电解槽后壁,所述L形喷头前端贯穿电解槽后壁。
[0011]优选的,所述控制器与铜离子浓度检测器、水泵均电性连接。
[0012]与现有技术相比,本技术具有如下有益效果:
[0013]1、本技术一种微蚀刻液电解提铜装置通过设置加药机构、控制器和铜离子浓度检测器共同配合实现自动加药的功能,其中,通过铜离子浓度检测器检测电解槽中电解完成后碱性微蚀刻液中铜离子浓度,若铜离子浓度低于设定值,则向控制器传输电信号,控制器接收电信号后判断微蚀刻液电解完成,再通过加药机构添加适量氨水、蚀刻盐和补充剂,相比于传统工序,本装置减少人工加药的步骤,提高了工作效率,且有效避免工人接触氨水,保障工人的身体健康;
[0014]2、本技术一种微蚀刻液电解提铜装置通过设置密封盖密封电解槽,避免氨水的气味外泄,提高本装置的实用性;
[0015]3、本技术一种微蚀刻液电解提铜装置通过设置卡槽和卡条便于放置和拿取铜板,提高本装置的实用性。
附图说明
[0016]图1为本技术一种微蚀刻液电解提铜装置的整体结构示意图;
[0017]图2为本技术一种微蚀刻液电解提铜装置的部分结构示意图;
[0018]图3为本技术一种微蚀刻液电解提铜装置的电解槽的剖面结构示意图;
[0019]图4为本技术一种微蚀刻液电解提铜装置的铜板的安装结构示意图;
[0020]图5为本技术一种微蚀刻液电解提铜装置的加药机构的整体结构示意图。
[0021]图中:1、电解槽;2、支撑腿;3、加强筋;4、安装环面;5、把手;6、阳极端;7、阴极端;8、密封盖;9、隔板;10、安装板;11、直流电源;12、加药机构;13、控制器;21、矩形卡环;22、卡槽;23、卡条;24、铜板; 31、钛板;32、铜离子浓度检测器;41、加药箱;42、水泵;43、T形主管; 44、L形喷头。
具体实施方式
[0022]为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本技术。
[0023]在本技术的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0024]在本技术的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“设置有”、“连接”等,应做广义理解,例如“连接”,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0025]如图1

5所示,一种微蚀刻液电解提铜装置,包括电解槽1,电解槽1下端安装有若干个支撑腿2,电解槽1外表面中部固定套接有加强筋3,电解槽 1上端安装有安装环面4,安装环面4上端固定安装有两个左右对称的把手5,安装环面4上端左部安装有阳极端6,安装
环面4上端右部安装有阴极端7,电解槽1内腔上方设置有四个密封盖8,四个密封盖8呈线性阵列分布,电解槽1内腔上部安装有三个隔板9,隔板9位于两个左右相邻的密封盖8之间,安装环面4上端后部安装有安装板10,安装板10上端左部安装有直流电源 11,直流电源11与阳极端6、阴极端7均电性连接,安装板10上端中部设置有加药机构12,加药机构12延伸至电解槽1内腔,安装板10上端右部安装有控制器13。
[0026]安装环面4上端安装有四个矩形卡环21,矩形卡环21上端前部和上端后部均开有卡槽22,两个卡槽22共同活动卡接有卡条23,卡条23下端安装有铜板24,铜板24下端延伸至电解槽1内腔,卡条23上端面与矩形卡环21上端面齐平,矩形卡环21与密封盖8相匹配。
[0027]电解槽1内腔下壁安装有钛板31,电解槽1内腔右壁安装有铜离子浓度检测器32,钛板31的设置便于铜板24在阴阳极电场作用下吸附铜离子。
[0028]加药机构12包括加药箱41,加药箱本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微蚀刻液电解提铜装置,包括电解槽(1),其特征在于:所述电解槽(1)下端安装有若干个支撑腿(2),所述电解槽(1)外表面中部固定套接有加强筋(3),所述电解槽(1)上端安装有安装环面(4),所述安装环面(4)上端固定安装有两个左右对称的把手(5),所述安装环面(4)上端左部安装有阳极端(6),所述安装环面(4)上端右部安装有阴极端(7),所述电解槽(1)内腔上方设置有四个密封盖(8),四个所述密封盖(8)呈线性阵列分布,所述电解槽(1)内腔上部安装有三个隔板(9),所述隔板(9)位于两个左右相邻的密封盖(8)之间,所述安装环面(4)上端后部安装有安装板(10),所述安装板(10)上端左部安装有直流电源(11),所述直流电源(11)与阳极端(6)、阴极端(7)均电性连接,所述安装板(10)上端中部设置有加药机构(12),所述加药机构(12)延伸至电解槽(1)内腔,所述安装板(10)上端右部安装有控制器(13)。2.根据权利要求1所述的一种微蚀刻液电解提铜装置,其特征在于:所述安装环面(4)上端安装有四个矩形卡环(21),所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:郭套龙
申请(专利权)人:深圳市龙德兴业科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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