一种制备胶体二氧化硅的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及制备二氧化硅的设备技术领域，尤其是涉及一种制备胶体二氧化硅的装置。一种制备胶体二氧化硅的装置，包括反应釜、冷凝器、收集罐和真空发生器，所述收集罐和所述真空发生器连通，所述反应釜设有排气口和回气口，所述冷凝器设有气体入口和气体冷凝液出口，所述排气口与所述气体入口通过第一管道连通，所述气体冷凝液出口与所述回气口通过第二管道连通，所述气体冷凝液出口与所述收集罐通过第三管道连通。本实用新型专利技术的装置将多个相互独立的工艺流程进行一体化集成，使得胶体二氧化硅的合成反应、浓缩反应和置换反应得到有机结合，实现了同一反应釜内高效制备胶体二氧化硅的工业化制备，缩短了工艺流程，降低了工艺难度。难度。难度。

【技术实现步骤摘要】
一种制备胶体二氧化硅的装置


[0001]本技术涉及制备二氧化硅设备
，尤其是涉及一种制备胶体二氧化硅的装置。

技术介绍

[0002]胶体二氧化硅，又称硅溶胶，是二氧化硅微粒分散于水中的分散液，被广泛用于催化剂、涂料、精密铸造等，近年来更是被广泛用于化学机械抛光(CMP)等领域。近来，随着半导体技术的不断发展，技术节点的不断降低，互连层数的不断增加和新材料新工艺的应用，对胶体二氧化硅磨料提出了更高的质量要求，尤其是纯度要求，需求一种包含极少量金属杂质的超高纯硅溶胶，用于晶圆的抛光以及半导体器件的CMP步骤中，这是因为它不会污染如硅晶圆等材料。超高纯硅溶胶一般采用Stober法来制备，在碱催化下，使硅酸烷基酯(正硅酸甲酯或正硅酸乙酯等)水解的同时，进行缩合、颗粒生长，获得二氧化硅颗粒。二氧化硅的纯度除了受工艺和原料的影响外，如何减少制备装置的金属沾污也非常重要。此外，Stober法制备二氧化硅涉及到反应合成、浓缩及溶剂置换等多个关键工艺步骤，各工艺步骤之间不能有机结合，从而导致效率降低、成本增加。

技术实现思路

>[0003]鉴于以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种制备胶体二氧化硅的装置，其特征在于，包括反应釜、冷凝器、收集罐和真空发生器，所述收集罐和所述真空发生器连通，所述反应釜设有排气口和回气口，所述冷凝器设有气体入口和气体冷凝液出口，所述排气口与所述气体入口通过第一管道连通，所述气体冷凝液出口与所述回气口通过第二管道连通，所述气体冷凝液出口与所述收集罐通过第三管道连通。2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述反应釜的内壁设有不锈钢层，所述不锈钢层的外表面设有聚四氟乙烯层；和/或，所述冷凝器的内壁设有不锈钢层，所述不锈钢层的外表面设有聚四氟乙烯层；和/或，所述第一管道的内壁设有不锈钢层，所述不锈钢层的外表面设有聚四氟乙烯层；和/或，所述第二管道的内壁设有不锈钢层，所述不锈钢层的外表面设有聚四氟乙烯层。...

【专利技术属性】
技术研发人员：孔慧，魏斯奇，苏秀继，刘卫丽，宋志棠，
申请(专利权)人：浙江新创纳电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：