涂层及其制备方法和器具技术

本发明专利技术公开了一种涂层及其制备方法和器具，其中涂层包括用于与基底接触的第一涂层以及层叠在第一涂层之上的第二涂层，其中，第一涂层的组分以原子数量百分比含量计包括47％～53％的Cr以及47％～53％的N；第二涂层的组分以原子数量百分比含量计包括25％～40％的Cr、4％～15％的Si、1％～15％的B、1％～10％的Ni以及45％～55％的N，非晶α

【技术实现步骤摘要】
涂层及其制备方法和器具


[0001]本专利技术涉及金属合金材料领域，特别是涉及一种涂层及其制备方法和器具。

技术介绍

[0002]刀具切削加工技术的发展对刀具的材料和性能提出了更高的要求，干式、高速以及高精度切削已成为刀具切削发展的重要方向。传统方法通过在刀具表面沉积硬质涂层成为改善和提高刀具切削性能的重要途径。CrN镀膜作为常用的硬质涂层具有高硬度、抗氧化性以及耐腐蚀等特性。而利用电弧离子镀制备的CrN膜内应力低、韧性好以及耐磨性好的同时，还具有精细晶粒结构、结合力强、化学稳定性高以及700℃以下良好的热稳定性。虽然CrN膜不但可作为耐磨涂层和切削工具的表面强化，而且在表面防腐和装饰等许多工业领域也有重要用途，但是CrN的使用温度一般在900℃左右，刀具在干式高速切削会带来刀具表面温度达到950℃甚至1000℃以上，限制了该涂层刀具的使用。

技术实现思路

[0003]基于此，有必要提供一种具有良好的抗高温氧化性、高温稳定性以及高温耐磨性的涂层及其制备方法和器具。
[0004]本专利技术提供一种涂层，包括用于与基底接触的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涂层，其特征在于，包括用于与基底接触的第一涂层以及层叠在所述第一涂层之上的第二涂层，所述第二涂层包括非晶α
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Si3N4相、非晶α
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BN相、纳米晶CrN相与金属Ni相，所述非晶α
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Si3N4相、非晶α
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BN相与金属Ni相包裹所述纳米晶CrN相；其中，所述第一涂层的组分以原子数量百分比含量计包括47％～53％的Cr以及47％～53％的N；所述第二涂层的组分以原子数量百分比含量计包括25％～40％的Cr、4％～15％的Si、1％～15％的B、1％～10％的Ni以及45％～55％的N。2.如权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述第一涂层的厚度为0.2μm～1μm。3.如权利要求1或2所述的涂层，其特征在于，所述第二涂层的厚度为1.5μm～10μm。4.一种如权利要求1～3任一项所述的涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S10：按照所述第一涂层的组分配制原料，在所述基底上制备第一涂层；S20：按照所述第二涂层的组分配制原料，在所述第一涂层的表面上制备第二涂层，其中，所述第二涂层包括非晶α
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Si3N4相、非晶α
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BN相、CrN相与金属Ni相，所述非晶α
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Si3N4相、非晶α
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BN相与金属Ni相包裹所述CrN相。5.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，制备第一涂层的方法与制备第二涂层的方法各自独立地选自电弧离子镀和磁控...

【专利技术属性】
技术研发人员：林海天，李立升，郑礼伟，陈松，杨恺，
申请(专利权)人：东莞市华升真空镀膜科技有限公司，
类型：发明
国别省市：