一种半导体加工用ITO玻璃电极图形酸洗蚀刻设备制造技术

技术编号:32339571 阅读:17 留言:0更新日期:2022-02-16 18:47
本发明专利技术涉及蚀刻设备的技术领域,特别是涉及一种半导体加工用ITO玻璃电极图形酸洗蚀刻设备,包括两个呈上下相对放置的半球面罩,所述半球面罩球面内壁上连通安装有多个散液管,所述散液管上连通安装有多个喷头,所述半球面罩内部开设有散料腔室;还包括两个转动管,两个转动管均位于两个半球面罩之间,并且两个转动管呈前后相对设置,所述半球面罩端面壁上开设有豁口;该设备可实现对ITO玻璃进行动态冲洗酸性蚀刻处理工作,有效提高玻璃表面未遮挡区域内的ITO材料去除速度,提高蚀刻速度,方便使蚀刻后的溶液快速脱离玻璃,同时方便使溶液与玻璃进行全面接触,有效避免玻璃上杂质残留,提高玻璃的蚀刻质量。提高玻璃的蚀刻质量。提高玻璃的蚀刻质量。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体加工用ITO玻璃电极图形酸洗蚀刻设备


[0001]本专利技术涉及蚀刻设备的
,特别是涉及一种半导体加工用ITO玻璃电极图形酸洗蚀刻设备。

技术介绍

[0002]众所周知,ITO玻璃是指在玻璃基材表面涂抹一层ITO导电材料,其主要用于液晶显示屏、电脑显示屏等设备的制作,ITO玻璃电机图形的制作是借用酸性溶解对经过曝光显影处理的ITO玻璃表面显露的ITO材料进行去除,从而使玻璃表面未去除的ITO材料形成固定图形,该过程通常称为蚀刻处理。
[0003]现有的蚀刻方式是将经过曝光显影处理的ITO玻璃直接放入酸性溶液中,通过溶液对玻璃进行直接蚀刻处理,然而此种处理方式的工作效率较低,由于溶液与玻璃均处于静止状态,蚀刻溶解后的溶液容易在玻璃表面形成隔离层,导致酸性溶液无法快速与玻璃进行全面接触,影响蚀刻速度和玻璃蚀刻工作的全面性。

技术实现思路

[0004]为解决上述技术问题,本专利技术提供一种半导体加工用ITO玻璃电极图形酸洗蚀刻设备。
[0005]为了达到上述目的,本专利技术所采用的技术方案是:半导体加工用ITO玻璃电极图形酸洗蚀刻设备,包括两个呈上下相对放置的半球面罩,所述半球面罩球面内壁上连通安装有多个散液管,所述散液管上连通安装有多个喷头,所述半球面罩内部开设有散料腔室;还包括两个转动管,两个转动管均位于两个半球面罩之间,并且两个转动管呈前后相对设置,所述半球面罩端面壁上开设有豁口;其中,所述转动管上设置有夹持机构。
[0006]进一步地,两个所述半球面罩的外侧套设有圆形导料槽板,所述圆形导料槽板内转动安装有环形封板,所述圆形导料槽板与所述环形封板组成密闭空间,所述圆形导料槽板内部左右两侧均设置有分割板,并且两个分割板将所述圆形导料槽板内部分割成上侧腔体和下侧腔体;所述半球面罩的外壁上连通安装有第一导料套管,所述第一导料套管的外壁上滑动套设有第二导料套管,所述第二导料套管的外端穿过所述环形封板并与所述圆形导料槽板内部连通;所述半球面罩球面内壁上开设有多个料孔;所述圆形导料槽板底部连通设置有循环机构,所述循环机构的输出端与所述圆形导料槽板内部上侧腔体连通。
[0007]进一步地,所述转动管朝向两个半球面罩之间中心点的端面的上下两侧均设置为斜面,所述转动管的两个斜面上均滑动安装有夹板,两个所述半球面罩的外侧设置有弓形
底架,所述弓形底架上安装有两个立杆,所述立杆的顶部固定在所述圆形导料槽板的底部,所述转动管的外端转动安装在所述弓形底架内侧壁上;所述转动管朝向两个半球面罩之间中心点的端面竖向开设有导向口所述弓形底架上安装有第一气缸,所述第一气缸的输出端穿过所述弓形底架并伸入至所述转动管内,所述第一气缸的输出端部转动安装有转盘,所述转盘上转动安装有两个推拉杆,所述推拉杆的外端穿过所述导向口并转动安装在所述夹板上。
[0008]进一步地,所述转动管的外壁上转动安装有支撑盘,所述支撑盘上转动安装有第二气缸,所述转动管的外壁上滑动套装有滑套,所述第二气缸的输出端转动安装在滑套的外壁上,所述滑套的外壁上转动安装有推拉板,所述推拉板的外端转动安装在所述半球面罩的外壁上。
[0009]进一步地,所述支撑盘的侧壁上安装有内齿环,所述内齿环转动安装在所述弓形底架的内侧壁上,所述转动管的外壁上安装有外齿环,所述外齿环位于所述内齿环的内侧,所述内齿环与所述外齿环之间啮合设置有齿轮,所述弓形底架的外侧壁上安转有电机,所述电机输出端与所述齿轮传动连接。
[0010]进一步地,所述半球面罩的外壁上安装有两组支撑机构,每组所述支撑机构包括两个支撑板,两个支撑板相互铰接,两个支撑板的外端分别转动安装在半球面罩外壁和环形封板内壁上,两个支撑板之间安装有板簧。
[0011]进一步地,所述循环机构包括料箱,所述料箱安装在所述弓形底架内壁底部,所述料箱顶部安装有料泵,所述料泵的输入端与所述料箱内部连通,所述料泵的输出端安装有三通管,所述三通管的两个输出端均与所述圆形导料槽板内部上侧腔体连通;所述圆形导料槽板内部下侧腔体的底部连通设置有回流管,所述回流管与所述料箱内部连通。
[0012]进一步地,所述料箱内倾斜安装有滤板。
[0013]与现有技术相比本专利技术的有益效果为:通过两个半球面罩组成封闭空间,半球面罩与ITO玻璃进行进行相对反向转动,半球面罩内的喷头对玻璃进行动态酸液冲洗蚀刻处理,从而方便对玻璃进行全面蚀刻处理,该设备可实现对ITO玻璃进行动态冲洗酸性蚀刻处理工作,有效提高玻璃表面未遮挡区域内的ITO材料去除速度,提高蚀刻速度,方便使蚀刻后的溶液快速脱离玻璃,同时方便使溶液与玻璃进行全面接触,有效避免玻璃上杂质残留,提高玻璃的蚀刻质量。
附图说明
[0014]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0015]图1是本专利技术的结构示意图;图2是图1中半球面罩前侧剖视结构示意图;图3是图1中半球面罩右视剖视结构示意图;图4是图3中电机放大结构示意图;
图5是图3中A处局部放大结构示意图;图6是图4中转动管右视放大结构示意图;附图中标记:1、半球面罩;2、散液管;3、喷头;4、转动管;5、圆形导料槽板;6、环形封板;7、分割板;8、第一导料套管;9、第二导料套管;10、料孔;11、弓形底架;12、立杆;13、第一气缸;14、转盘;15、推拉杆;16、夹板;17、支撑盘;18、第二气缸;19、滑套;20、推拉板;21、内齿环;22、外齿环;23、齿轮;24、电机;25、支撑板;26、板簧;27、料箱;28、料泵;29、三通管;30、回流管;31、滤板;32、散料腔室。
具体实施方式
[0016]下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。
[0017]在本专利技术的描述中,需要说明的是,属于“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或者位置关系,仅是为了便于描述本专利技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0018]在本专利技术的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体式连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接连接,也可以是通过中间媒介间接连接,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。本实施例采用递进的方式撰写。
[0019]如图1至图6所示,本专利技术的一种半导体加工用ITO玻璃电极图形酸本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体加工用ITO玻璃电极图形酸洗蚀刻设备,其特征在于,包括两个呈上下相对放置的半球面罩(1),所述半球面罩(1)球面内壁上连通安装有多个散液管(2),所述散液管(2)上连通安装有多个喷头(3),所述半球面罩(1)内部开设有散料腔室(32);还包括两个转动管(4),两个转动管(4)均位于两个半球面罩(1)之间,并且两个转动管(4)呈前后相对设置,所述半球面罩(1)端面壁上开设有豁口;其中,所述转动管(4)上设置有夹持机构。2.根据权利要求1所述的一种半导体加工用ITO玻璃电极图形酸洗蚀刻设备,其特征在于,两个所述半球面罩(1)的外侧套设有圆形导料槽板(5),所述圆形导料槽板(5)内转动安装有环形封板(6),所述圆形导料槽板(5)与所述环形封板(6)组成密闭空间,所述圆形导料槽板(5)内部左右两侧均设置有分割板(7),并且两个分割板(7)将所述圆形导料槽板(5)内部分割成上侧腔体和下侧腔体;所述半球面罩(1)的外壁上连通安装有第一导料套管(8),所述第一导料套管(8)的外壁上滑动套设有第二导料套管(9),所述第二导料套管(9)的外端穿过所述环形封板(6)并与所述圆形导料槽板(5)内部连通;所述半球面罩(1)球面内壁上开设有多个料孔(10);所述圆形导料槽板(5)底部连通设置有循环机构,所述循环机构的输出端与所述圆形导料槽板(5)内部上侧腔体连通。3.根据权利要求2所述的一种半导体加工用ITO玻璃电极图形酸洗蚀刻设备,其特征在于,所述转动管(4)朝向两个半球面罩(1)之间中心点的端面的上下两侧均设置为斜面,所述转动管(4)的两个斜面上均滑动安装有夹板(16),两个所述半球面罩(1)的外侧设置有弓形底架(11),所述弓形底架(11)上安装有两个立杆(12),所述立杆(12)的顶部固定在所述圆形导料槽板(5)的底部,所述转动管(4)的外端转动安装在所述弓形底架(11)内侧壁上;所述转动管(4)朝向两个半球面罩(1)之间中心点的端面竖向开设有导向口所述弓形底架(11)上安装有第一气缸(13),所述第一气缸(13)的输出端穿过所述弓形底架(11)并伸入至所述转动管(4)内,所述第一气缸(13)的输出端部转动安装有转盘(14),所述转盘(14)上转动安装有两个推拉杆(...

【专利技术属性】
技术研发人员:商智健
申请(专利权)人:深圳祺芯通半导体有限公司
类型:发明
国别省市:

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