本实用新型专利技术公开了光刻机刻蚀用精准定位装置，包括工作台，所述工作台的底端固定连接有支架，所述工作台内部的两侧分别设置有一组空腔，所述空腔的内部设置有定位板，所述工作台的内部设置有内腔，所述定位板的一侧固定连接有限位套，所述限位套的内部活动连接有压板。该光刻机刻蚀用精准定位装置通过设置有挡板、限位套、通槽和压板，在对硅片进行定位时，定位板向中间运动挤压硅片时，推动挡板带动压板向一侧运动，使压板压在硅片的顶端，可以防止硅片受挤压导致弯曲，限位套可以对压板限位，防止压板出现倾斜，挡板可以防止压板脱离通槽的内部，解决的是进行定位时挤压硅片易导致硅片弯折，影响刻蚀工作的正常进行的问题。影响刻蚀工作的正常进行的问题。影响刻蚀工作的正常进行的问题。
【技术实现步骤摘要】
光刻机刻蚀用精准定位装置
[0001]本技术涉及定位装置
，具体为光刻机刻蚀用精准定位装置。
技术介绍
[0002]光刻机的刻蚀是一种半导体加工的工艺，是利用溶液等特殊材料将硅片上的多余部分去除，是非常关键的一道步骤，在刻蚀时是需要对硅片进行定位的，现有的光刻机刻蚀时用的定位装置在使用时，对硅片进行定位时挤压硅片易导致硅片弯折，影响刻蚀工作的正常进行，且定位后硅片依然有可能出现偏移，导致定位效果不佳，对硅片进行定位时也无法方便的进行微调，所以现在需要一种新型的光刻机刻蚀用精准定位装置以解决上述提出的缺陷。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于提供光刻机刻蚀用精准定位装置，以解决上述
技术介绍
中提出对硅片进行定位时挤压硅片易导致硅片弯折，影响刻蚀工作的正常进行的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：光刻机刻蚀用精准定位装置，包括工作台，所述工作台的底端固定连接有支架，所述工作台内部的两侧分别设置有一组空腔，所述空腔的内部设置有定位板，所述工作台的内部设置有内腔；
[0005]所述定位板的一侧固定连接有限位套，所述限位套的内部活动连接有压板，所述定位板的一侧镶嵌有通槽，所述压板贯穿通槽并延伸至定位板的一侧，所述压板的一侧固定连接有挡板。
[0006]优选的，所述挡板与限位套构成活动连接，所述压板和通槽构成滑动连接，所述限位套内部的高度小于挡板的高度。
[0007]优选的，所述工作台的一端固定连接有伺服电机，所述伺服电机的输出端贯穿工作台的一侧并延伸至内腔的内部固定连接有对向丝杆，所述对向丝杆外部的两端分别螺纹连接有一组螺纹套筒，所述螺纹套筒的外部固定连接有连接板，所述工作台顶部的两端分别镶嵌有一组第一滑槽，所述连接板贯穿第一滑槽固定连接有夹板，所述内腔的内部固定连接有限位板，所述限位板与连接板滑动连接。
[0008]优选的，所述内腔与对向丝杆构成活动连接，所述内腔内部的高度大于连接板的高度。
[0009]优选的，所述工作台顶端的两侧分别镶嵌有一组第二滑槽，所述第二滑槽与空腔的内部相连通，所述定位板的两端分别镶嵌有一组侧槽，所述侧槽与第二滑槽滑动连接，所述侧槽的两端分别镶嵌有一组凹槽，所述凹槽内部的两侧分别活动连接有一组滚轮，所述定位板一侧的底端活动铰接有第一拉杆，所述第一拉杆内部的一侧活动连接有连接轴，所述连接轴的外部活动连接有第二拉杆，所述连接轴的外部活动连接有拉板，所述工作台底端的两侧分别镶嵌有一组通孔，所述拉板贯穿通孔并延伸至工作台的外部固定连接有升降板，所述支架内部的底端固定连接有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆与升降板固定连接，所述
空腔内部的两侧分别固定连接有一组限位横梁，所述限位横梁与拉板滑动连接。
[0010]优选的，所述空腔与第二拉杆构成活动铰接，所述空腔内部的宽度大于连接轴的宽度。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果是：该光刻机刻蚀用精准定位装置不仅实现了防止硅片弯曲，实现了防止硅片偏移，而且实现了可以方便的微调对不同尺寸的硅片进行定位；
[0012](1)通过设置有挡板、限位套、通槽和压板，在对硅片进行定位时，定位板向中间运动挤压硅片时，推动挡板带动压板向一侧运动，使压板压在硅片的顶端，可以防止硅片受挤压导致弯曲，限位套可以对压板限位，防止压板出现倾斜，挡板可以防止压板脱离通槽的内部，实现了可以防止对硅片定位时硅片发生弯曲；
[0013](2)通过设置有内腔、连接板、限位板、夹板、第一滑槽、对向丝杆、螺纹套筒和伺服电机，当两侧对硅片进行夹持固定之后，再启动一端的伺服电机带动内腔内部的对向丝杆转动，对向丝杆转动的同时带动外部两端的连接板向中间运动，两端连接板顶端的夹板分别贴合在硅片的两端后，关闭伺服电机可以对硅片进行固定，而限位板可以对连接板限位，保证连接板和夹板运动稳定，实现了可以防止硅片向两端偏移；
[0014](3)通过设置有空腔、定位板、侧槽、第二滑槽、滚轮、凹槽、第一拉杆、连接轴、拉板、限位横梁、第二拉杆、电动伸缩杆、升降板和通孔，在对硅片进行定位之前，将需要刻蚀的硅片放置在工作台的顶端，再启动电动伸缩杆推动顶端的升降板上升，升降板上升的同时带动两侧的拉板上升，拉板上升的同时推动连接轴上升，连接轴再拉动第一拉杆一侧升起，第一拉杆的一侧升起会同时拉动另一侧的定位板向连接轴一侧运动，定位板两端的侧槽在第二滑槽的内部运动，可以对定位板限位，且凹槽内部的滚轮贴合在工作台的顶端运动，保证定位板运动稳定，当定位板贴合在硅片的两侧后便可以对硅片定位，实现了可以方便的微调对不同尺寸的硅片进行定位。
附图说明
[0015]图1为本技术的正视剖面结构示意图；
[0016]图2为本技术的对向丝杆侧视剖面结构示意图；
[0017]图3为本技术的图1中A处局部剖面放大结构示意图；
[0018]图4为本技术的定位板侧视结构示意图。
[0019]图中：1、工作台；2、挡板；3、限位套；4、通槽；5、压板；6、内腔；7、连接板；8、限位板；9、夹板；10、第一滑槽；11、对向丝杆；12、螺纹套筒；13、空腔；14、定位板；15、侧槽；16、第二滑槽；17、滚轮；18、凹槽；19、第一拉杆；20、支架；21、连接轴；22、拉板；23、限位横梁；24、第二拉杆；25、电动伸缩杆；26、升降板；27、通孔；28、伺服电机。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]实施例1：请参阅图1
‑
4，光刻机刻蚀用精准定位装置，包括工作台1，工作台1的底端固定连接有支架20，工作台1内部的两侧分别设置有一组空腔13，空腔13的内部设置有定位板14，工作台1的内部设置有内腔6；
[0022]定位板14的一侧固定连接有限位套3，限位套3的内部活动连接有压板5，定位板14的一侧镶嵌有通槽4，压板5贯穿通槽4并延伸至定位板14的一侧，压板5的一侧固定连接有挡板2；
[0023]挡板2与限位套3构成活动连接，压板5和通槽4构成滑动连接，限位套3内部的高度小于挡板2的高度；
[0024]具体地，如图1、图3和图4所示，在对硅片进行定位时，定位板14向中间运动挤压硅片时，推动挡板2带动压板5向一侧运动，使压板5压在硅片的顶端，可以防止硅片受挤压导致弯曲，限位套3可以对压板5限位，防止压板5出现倾斜，挡板2可以防止压板5脱离通槽4的内部，实现了可以防止对硅片定位时硅片发生弯曲。
[0025]实施例2：工作台1的一端固定连接有伺服电机28，伺服电机28的输出端贯穿工作台1的一侧并延伸至内腔6的内部固定连接有对向丝杆本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.光刻机刻蚀用精准定位装置，包括工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)的底端固定连接有支架(20)，所述工作台(1)内部的两侧分别设置有一组空腔(13)，所述空腔(13)的内部设置有定位板(14)，所述工作台(1)的内部设置有内腔(6)；所述定位板(14)的一侧固定连接有限位套(3)，所述限位套(3)的内部活动连接有压板(5)，所述定位板(14)的一侧镶嵌有通槽(4)，所述压板(5)贯穿通槽(4)并延伸至定位板(14)的一侧，所述压板(5)的一侧固定连接有挡板(2)。2.根据权利要求1所述的光刻机刻蚀用精准定位装置，其特征在于：所述挡板(2)与限位套(3)构成活动连接，所述压板(5)和通槽(4)构成滑动连接，所述限位套(3)内部的高度小于挡板(2)的高度。3.根据权利要求1所述的光刻机刻蚀用精准定位装置，其特征在于：所述工作台(1)的一端固定连接有伺服电机(28)，所述伺服电机(28)的输出端贯穿工作台(1)的一侧并延伸至内腔(6)的内部固定连接有对向丝杆(11)，所述对向丝杆(11)外部的两端分别螺纹连接有一组螺纹套筒(12)，所述螺纹套筒(12)的外部固定连接有连接板(7)，所述工作台(1)顶部的两端分别镶嵌有一组第一滑槽(10)，所述连接板(7)贯穿第一滑槽(10)固定连接有夹板(9)，所述内腔(6)的内部固定连接有限位板(8)，所述限位板(8)与连接板(7)滑动连接。4.根据权利要求1所述的光刻机刻...
【专利技术属性】
技术研发人员：佘晓劲，吴东，
申请(专利权)人：南京基诚电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。