一种真空镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜设备，包括操作准备箱，所述操作准备箱的底端的两侧均安装有支撑腿，所述操作准备箱内部的中间位置处安装有支撑板，所述气相沉积箱的一端安装有拉门，所述操作准备箱的一端安装有仪表盘。本实用新型专利技术通过将极板先进行一定的安装处理，在其第一磁铁和第二磁铁的相互配合下使其产生了一个磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率，从而使其在溅射的过程中具有更好的镀膜效果，从而很好的提高了其整体的镀膜效率，并且很好的提高了气体的离化率，在靶原子产生动能进行高速溅射的过程中，使其基片达到一定的镀膜效果，从而提高了其整体稳定的镀膜的效果。体稳定的镀膜的效果。体稳定的镀膜的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜设备


[0001]本技术涉及真空镀膜
，具体为一种真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]随着社会的不断发展，经济水平的不断提高，人们的工业水平也得到了显著的发展，随着科技的发展人们的工业技术也得到了明显的提高，在工业生产的过程中常常需要进行一定的镀膜处理，为了降低镀膜过程中的含杂质量，人们研究出了真空镀膜的方法，真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，其具体手法包括很多种，其中就包括真空离子蒸发、磁控溅射等多种方法，其主要思路即为蒸发和溅射的方法，在实际使用的过程中使用到了物理气相沉积的原理，由于其镀膜过程中不易附着较多的杂质，因此现今真空镀膜技术也被人们所广泛使用；
[0003]然而传统的此类真空镀膜设备在使用的过程中仍然存在着一些问题，例如在其使用的过程中其内部的附着能力较差，其磁控溅射在实际应用的过程中难以进行较好的附着，因此易影响镀膜的实际使用。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种真空镀膜设备，以解决上述
技术介绍
中提出溅射能力差的问题。
[0005]为实现上述目的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备，包括操作准备箱(1)，其特征在于：所述操作准备箱(1)的底端的两侧均安装有支撑腿(5)，所述操作准备箱(1)内部的中间位置处安装有支撑板(4)，所述支撑板(4)顶端的一侧安装有裂化罐(2)，所述裂化罐(2)的内部设置有汽化结构(3)，所述裂化罐(2)的一侧设置有低压处理箱(14)，所述操作准备箱(1)一侧的底端安装有动力箱(6)，所述动力箱(6)内部的一侧安装有真空泵(8)，所述真空泵(8)的一侧设置有驱动电机(7)，所述动力箱(6)的顶端安装有气相沉积箱(11)，所述气相沉积箱(11)内部的中间位置处安装有隔板(12)，所述隔板(12)的顶端设置有磁控溅射结构(13)，所述磁控溅射结构(13)包括极板(1301)，所述极板(1301)安装在隔板(12)的顶端，所述极板(1301)顶端的两侧均安装有第一磁铁(1302)，所述极板(1301)顶端的中间位置处安装有第二磁铁(1304)，所述第二磁铁(1304)的顶端安装有背板(1303)，所述背板(1303)的顶端安装有靶材板(1306)，所述气相沉积箱(11)内部的顶端安装有基片(1305)，所述驱动电机(7)输出端皮带的一端安装有驱动轴(9)，所述驱动轴(9)的内部设置有冷却结构(10)，所述气相沉积箱(11)的一端安装有拉门(15)，所述操作准备箱(1)的一端安装有仪表盘(16)。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：佘晓劲，吴东，
申请(专利权)人：南京基诚电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：