本实用新型专利技术属于反应釜技术领域，具体为一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，其包括底座，所述底座的顶部固定安装有保温箱，保温箱的内壁底部固定安装有多个均匀分布的伸缩柱，伸缩柱的顶部固定安装有放置板，伸缩柱的表面活动套接有弹簧，放置板的顶部放置有炉体，保温箱的内壁表面设置有保温层，底座位于保温箱两侧的顶部均活动插接有螺杆，螺杆的上表面螺纹套接有顶板，顶板的底部固定安装有主体杆，主体杆的底部固定安装有盖板，主体杆与盖板之间的表面固定套接有箱盖，本实用新型专利技术不仅可以避免反应釜表面的热量丢失，而且可以在反应釜反应完成后直接打开，无需等到反应釜冷却。却。却。
【技术实现步骤摘要】
一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置
[0001]本技术属于反应釜
，具体为一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置。
技术介绍
[0002]反应釜的广义理解即有物理或化学反应的容器，通过对容器的结构设计与参数配置，实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能。反应釜广泛应用于石油、化工、橡胶、农药、染料、医药和食品等领域，是用来完成硫化、硝化、氢化、烃化、聚合、缩合等工艺过程的压力容器，例如反应器、反应锅、分解锅、聚合釜等；材质一般有碳锰钢、不锈钢、锆、镍基合金及其它复合材料。
[0003]反应釜在使用的时候表面会产生大量的热量，现有的反应釜不能将表面的热量进行保留，从而导致了大量的热量流失，造成资源的浪费，而且现有的反应釜由于表面温度过高，导致工作人员只能等反应釜冷却后才能将其打开，严重拖慢了工作的进度，因此，需要一种反应釜用温场平衡装置。
技术实现思路
[0004]针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本技术提供一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，有效的解决了上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，包括底座，所述底座的顶部固定安装有保温箱，所述保温箱的内壁底部固定安装有多个均匀分布的伸缩柱，所述伸缩柱的顶部固定安装有放置板，所述伸缩柱的表面活动套接有弹簧，所述放置板的顶部放置有炉体，所述保温箱的内壁表面设置有保温层，所述底座位于保温箱两侧的顶部均活动插接有螺杆，所述螺杆的上表面螺纹套接有顶板，所述顶板的底部固定安装有主体杆，所述主体杆的底部固定安装有盖板，所述主体杆与盖板之间的表面固定套接有箱盖。
[0006]进一步的，所述底座的内壁底部安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端固定安装有第一主动锥齿轮，所述第一主动锥齿轮的表面啮合有两个相互远离的第一从动锥齿轮，两个所述第一从动锥齿轮的内部均固定插接有相互远离的连接杆，所述连接杆远离第一从动锥齿轮的一端固定安装有第二主动锥齿轮。
[0007]进一步的，两个所述螺杆的底部均固定安装有第二从动锥齿轮，且所述第二从动锥齿轮分别与两个第二主动锥齿轮互相啮合。
[0008]进一步的，所述放置板的顶部开设有与炉体底部相匹配的放置槽。
[0009]进一步的，所述盖板的底部开设有与炉体顶部相匹配的环形槽。
[0010]进一步的，所述螺杆的顶部固定安装有限位块。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0012]1)、本技术操作简便，而且可以避免工作人员直接触碰到反应釜，避免了烫伤
等情况，具体操作为，正方向启动驱动电机，驱动电机会带动第一主动锥齿轮转动，第一主动锥齿轮会带动两个第一从动锥齿轮17转动，进而带动两个第二主动锥齿轮转动，进而带动螺杆转动，螺杆转动即可带动顶板向下移动，进而盖板会向下盖住炉体，盖住之后盖板继续向下压炉体，将炉体压至最底部，此时在弹簧和伸缩柱的作用下，即便该装置出现晃动，炉体也不会出现较大的晃动，箱盖和盖盖之间存在一定的距离，进而当盖板完全压住炉体时，箱盖正好对保温箱进行密封，此时打开炉体，即可对光学晶体进行加工，加工完成后，反向启动驱动电机即可将盖板和箱盖打开；
[0013]2)、本技术可以进行有效的保温，具体操作为，炉体表面的热量会在保温层的作用下，在保温箱内存留，避免由于热量的流失从而引起的光学晶体反应不充分的情况。
附图说明
[0014]附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：
[0015]图1为本技术正视的剖面结构示意图；
[0016]图2为本技术保温箱俯视的结构示意图；
[0017]图3为本技术盖板仰视的结构示意图；
[0018]图4为本技术图1中A放大的结构示意图；
[0019]图5为本技术图1中B放大的结构示意图；
[0020]图中：1、底座；2、放置板；3、保温箱；4、保温层；5、螺杆；6、炉体；7、顶板；8、限位块；9、主体杆；10、箱盖；11、盖板；12、驱动电机；13、伸缩柱；14、弹簧；15、环形槽；16、第一主动锥齿轮；17、第一从动锥齿轮；18、连接杆；19、第二主动锥齿轮；20、第二从动锥齿轮。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例；基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0022]实施例一，由图1
‑
5给出，本技术公开了一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，包括底座1，底座1的顶部固定安装有保温箱3，保温箱3的内壁底部固定安装有多个均匀分布的伸缩柱13，伸缩柱13的顶部固定安装有放置板2，伸缩柱13的表面活动套接有弹簧14，放置板2的顶部放置有炉体6，保温箱3的内壁表面设置有保温层4，底座1位于保温箱3两侧的顶部均活动插接有螺杆5，螺杆5的上表面螺纹套接有顶板7，顶板7的底部固定安装有主体杆9，主体杆9的底部固定安装有盖板11，主体杆9与盖板11之间的表面固定套接有箱盖10。
[0023]实施例二，在实施例一的基础上，底座1的内壁底部安装有驱动电机12，驱动电机12的输出端固定安装有第一主动锥齿轮16，第一主动锥齿轮16的表面啮合有两个相互远离的第一从动锥齿轮17，两个第一从动锥齿轮17的内部均固定插接有相互远离的连接杆18，连接杆18远离第一从动锥齿轮17的一端固定安装有第二主动锥齿轮19。
[0024]实施例三，在实施例一的基础上，两个螺杆5的底部均固定安装有第二从动锥齿轮
20，且第二从动锥齿轮20分别与两个第二主动锥齿轮19互相啮合。
[0025]实施例四，在实施例一的基础上，放置板2的顶部开设有与炉体6底部相匹配的放置槽。
[0026]实施例五，在实施例一的基础上，盖板11的底部开设有与炉体6顶部相匹配的环形槽15，保证炉体6的密封效果。
[0027]实施例六，在实施例一的基础上，螺杆5的顶部固定安装有限位块8，防止顶板7在移动的过程中从螺杆5上脱离。
[0028]工作原理：首先将该装置放至平稳的地面，将光学晶体放至炉体6内，然后正方向启动驱动电机12，驱动电机12会带动第一主动锥齿轮16转动，第一主动锥齿轮16会带动两个第一从动锥齿轮17转动，进而带动两个第二主动锥齿轮19转动，进而带动螺杆5转动，螺杆5转动即可带动顶板7向下移动，进而盖板11会向下盖住炉体6，盖住之后盖板11继续向下压炉体6，将炉体6压至最底部，此时在弹簧14和伸缩柱13的作用下，即便该装置出现晃动，炉体6也不会出现较大的晃动，箱盖10和盖本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的顶部固定安装有保温箱(3)，所述保温箱(3)的内壁底部固定安装有多个均匀分布的伸缩柱(13)，所述伸缩柱(13)的顶部固定安装有放置板(2)，所述伸缩柱(13)的表面活动套接有弹簧(14)，所述放置板(2)的顶部放置有炉体(6)，所述保温箱(3)的内壁表面设置有保温层(4)，所述底座(1)位于保温箱(3)两侧的顶部均活动插接有螺杆(5)，所述螺杆(5)的上表面螺纹套接有顶板(7)，所述顶板(7)的底部固定安装有主体杆(9)，所述主体杆(9)的底部固定安装有盖板(11)，所述主体杆(9)与盖板(11)之间的表面固定套接有箱盖(10)。2.根据权利要求1所述的一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，其特征在于：所述底座(1)的内壁底部安装有驱动电机(12)，所述驱动电机(12)的输出端固定安装有第一主动锥齿轮(16)，所述第一主动锥齿轮...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘硕，
申请(专利权)人：长春市贝格特晶体材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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