本实用新型专利技术提供一种pvd镀膜厚度调节控制装置，涉及一种通过旋转速度变化，控制镀膜厚度的调节控制装置，属于材料加工领域。提供的一种通过控制电极辊回转速度，进行镀膜厚度调节的镀膜调剂控制结构，包括主体固定装置、镀膜调节装置，主体固定装置包括箱体、隔板、放置台、连通管、保持架、驱动轴，隔板置于箱体内顶面，放置台置于箱体内底面且位于隔板正下方，保持架通过驱动轴置于箱体内，两个连通管置于箱体上，连通管分别位于隔板两侧，且对应和隔板两侧的区域连通，镀膜调节装置包括金属垫板、导线、靶材、铜辊、磁铁、冷却管、电极辊、端部密封条，能够连续滚动镀膜，通过旋转速度进行镀膜厚度的控制。镀膜厚度的控制。镀膜厚度的控制。
【技术实现步骤摘要】
一种pvd镀膜厚度调节控制装置
[0001]本技术提供一种pvd镀膜厚度调节控制装置，涉及一种通过旋转速度变化，控制镀膜厚度的调节控制装置，属于材料加工领域。
技术介绍
[0002]目前，镀膜工艺用于工业生产已经十分广泛，但在镀膜过程中，需要对镀膜厚度进行控制，保证基材各处的镀膜厚度一致，现有的结构调节控制效率低，均匀性差；
[0003]公开号CN210570514U公开了一种用于镀膜机上自动检测镀膜厚度的调节机构，包括底座，所述底座内腔的中心处转动连接有螺纹柱，所述螺纹柱的表面固定连接有蜗轮，所述底座内腔的左侧固定连接有固定块，所述固定块的右侧转动连接有传动杆，上述结构通过侧移进行调节，传动结构复杂，容易卡滞；
[0004]公开号CN204325490U公开了一种用于镀膜机上的镀膜厚度调节机构，包括壳体，设于壳体内的镀膜源，以及转动配合在壳体内且位于镀膜源上方用于安装待镀膜产品的镀膜盘，还包括设于壳体内的调节板，所述的调节板的一端通过连接杆与壳体固定，调节板的另一端延伸至近镀膜盘几何中心所在的位置，且调节板的中间部分沿竖直方向位于镀膜源和镀膜盘之间，不能够形成连续的镀膜操作。
技术实现思路
[0005]本技术一种pvd镀膜厚度调节控制装置，提供的一种通过控制电极辊回转速度，进行镀膜厚度调节的镀膜调剂控制结构。结构简单，使用方便。
[0006]本技术一种pvd镀膜厚度调节控制装置是这样实现的，本技术一种pvd镀膜厚度调节控制装置：包括主体固定装置、镀膜调节装置，主体固定装置包括箱体、隔板、放置台、连通管、保持架、驱动轴，隔板置于箱体内顶面，放置台置于箱体内底面且位于隔板正下方，保持架通过驱动轴置于箱体内，两个连通管置于箱体上，连通管分别位于隔板两侧，且对应和隔板两侧的区域连通；
[0007]镀膜调节装置包括金属垫板、导线、靶材、铜辊、磁铁、冷却管、电极辊、端部密封条，电极辊置于保持架上，电极辊的外壁等角度设置有多个磁铁，所述磁铁的磁极相反，铜辊套置于磁铁上，铜辊和电极辊之间设置有多组冷却管，所述冷却管位于磁铁之间，多个靶材等距套置于铜辊上，靶材沿铜辊轴向分布，铜辊的两端设置有端部密封条，端部密封条和箱体侧壁贴合，隔板端部和铜辊表面贴合，金属垫板居中置于放置台上；
[0008]所述驱动轴外接驱动电机，所述驱动电机设置控制器；
[0009]所述靶材为环形结构，且采用两个半圆结构拼合而成；
[0010]所述放置台为绝缘结构，且设置有磁铁；
[0011]所述冷却管内设置蓄热材料；
[0012]所述隔板端部设置有胶垫，所述胶垫贴合置于铜辊、靶材表面；
[0013]所述金属垫板为弧形板，且和电极辊共轴。
[0014]有益效果：
[0015]一、能够连续滚动镀膜，通过旋转速度进行镀膜厚度的控制；
[0016]二、能够旋转调节能够快速进行控制调节；
[0017]三、结构简单，使用方便。
附图说明
[0018]图1为本技术一种pvd镀膜厚度调节控制装置的结构示意图。
[0019]图2为本技术一种pvd镀膜厚度调节控制装置铜辊的结构示意图。
[0020]附图中：
[0021]1、箱体；2、隔板；3、驱动轴；4、靶材；5、铜辊；6、保持架；7、金属垫板；8、放置台；
[0022]9、冷却管；10、电极辊；11、连通管；12、磁铁；13、端部密封条。
具体实施方式
[0023]下面结合附图对本技术进一步说明。
[0024]根据图1
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2所示：本技术一种pvd镀膜厚度调节控制装置是这样实现的，本技术一种pvd镀膜厚度调节控制装置：包括主体固定装置、镀膜调节装置，主体固定装置包括箱体1、隔板2、放置台8、连通管11、保持架6、驱动轴3，隔板2置于箱体1内顶面，放置台8置于箱体1内底面且位于隔板2正下方，保持架6通过驱动轴3置于箱体1内，两个连通管11置于箱体1上，连通管11分别位于隔板2两侧，且对应和隔板2两侧的区域连通；
[0025]镀膜调节装置包括金属垫板7、导线、靶材4、铜辊5、磁铁12、冷却管9、电极辊10、端部密封条13，
[0026]电极辊10置于保持架6上，电极辊10的外壁等角度设置有多个磁铁12，所述磁铁12的磁极相反，铜辊5套置于磁铁12上，铜辊5和电极辊10之间设置有多组冷却管9，所述冷却管9位于磁铁12之间，多个靶材4等距套置于铜辊5上，靶材4沿铜辊5轴向分布，铜辊5的两端设置有端部密封条13，端部密封条13和箱体1侧壁贴合，隔板2端部和铜辊5表面贴合，金属垫板7居中置于放置台8上；
[0027]所述驱动轴3外接驱动电机，所述驱动电机设置控制器，能够形成驱动轴3转速的控制调节，进而控制靶材4相对金属垫板7的回转速度；
[0028]所述靶材4为环形结构，且采用两个半圆结构拼合而成，能够对靶材进行快速的拆卸更换；
[0029]所述放置台8为绝缘结构，且设置有磁铁12，能够将金属垫板7进行吸附固定；
[0030]所述冷却管9内设置蓄热材料，能够配合铜辊5对靶材4热量进行吸收；
[0031]所述隔板2端部设置有胶垫，所述胶垫贴合置于铜辊5、靶材4表面，能够形成密封，通过隔板2和铜辊5之间的贴合形成密闭；
[0032]所述金属垫板7为弧形板，且和电极辊10共轴，能够使用弧形基板进行镀膜；
[0033]使用时，将带镀膜板置于金属垫板7上，将金属垫板7接电，将电极辊10接电，连通管11分别接保护气、真空泵，通过真空泵抽真空，保护气进行保护，然后进行气相沉积，通过驱动轴3的旋转控制电极辊10的旋转，进而进行成膜厚度的控制，达到调节成膜厚度的目的。
[0034]以上对本技术及其实施方式进行了描述，这种描述没有限制性，附图中所示的也只是本技术的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。总而言之如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本技术创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本技术的保护范围。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种pvd镀膜厚度调节控制装置，其特征在于：包括主体固定装置、镀膜调节装置，主体固定装置包括箱体(1)、隔板(2)、放置台(8)、连通管(11)、保持架(6)、驱动轴(3)，隔板(2)置于箱体(1)内顶面，放置台(8)置于箱体(1)内底面且位于隔板(2)正下方，保持架(6)通过驱动轴(3)置于箱体(1)内，两个连通管(11)置于箱体(1)上，连通管(11)分别位于隔板(2)两侧，且对应和隔板(2)两侧的区域连通；所述镀膜调节装置包括金属垫板(7)、导线、靶材(4)、铜辊(5)、磁铁(12)、冷却管(9)、电极辊(10)、端部密封条(13)，电极辊(10)置于保持架(6)上，电极辊(10)的外壁等角度设置有多个磁铁(12)，所述磁铁(12)的磁极相反，铜辊(5)套置于磁铁(12)上，铜辊(5)和电极辊(10)之间设置有多组冷却管(9)，所述冷却管(9)位于磁铁(12)之间，多个靶材(4)等距套置于铜辊(5)上，靶材(4)沿铜辊(5)轴向分布，铜辊(5)的两端设...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭维伟，
申请(专利权)人：南京准非晶真空技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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