真空监控器及蒸镀设备制造技术

本发明专利技术公开一种真空监控器及蒸镀设备，涉及蒸镀技术领域，以减小更换真空监控器所造成的蒸镀空间内的真空度波动，减少不良品产出，提高良品率。该真空监控器包括真空监控组件和抽真空组件。其中，真空监控组件内设有真空腔，且真空监控组件上设有连通真空腔的进样口和出气口。进样口用于连接蒸镀设备的蒸镀机；抽真空组件与出气口连接，用于对真空腔进行抽真空。本发明专利技术用于监控蒸镀机的蒸镀空间内的真空度。度。度。

【技术实现步骤摘要】
真空监控器及蒸镀设备


[0001]本公开涉及蒸镀
，尤其涉及一种真空监控器及蒸镀设备。

技术介绍

[0002]有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，简称OLED)显示装置具有对比度高、产品薄、能耗小等诸多优点，在市场上受到了广大消费者的喜爱。蒸镀是OLED显示装置必不可少的制程，而蒸镀工艺需要在高真空环境中进行。
[0003]目前，多采用真空监控器对蒸镀空间内的真空度进行监控。
[0004]但是，在蒸镀的过程中，当真空监控器出现异常进行更换后，蒸镀空间内的真空度会产生异常波动，从而导致不良品产出，良品率下降。

技术实现思路

[0005]本公开提供一种真空监控器及蒸镀设备，能够避免更换真空监控器造成蒸镀空间内的真空度产生异常波动，减少不良品产出，提高良品率。
[0006]为达到上述目的，本公开采用如下技术方案：
[0007]一方面，提供一种真空监控器，所述真空监控器包括真空监控组件和抽真空组件。其中，所述真空监控组件内设有真空腔，且所述真空监控组件上设有连通所述真空腔的进样口和出气口。所述进样口用于连接蒸镀设备的蒸镀机，所述抽真空组件与所述出气口连接，用于对所述真空腔进行抽真空。
[0008]在一些实施例中，所述抽真空组件包括第一控制阀和抽真空装置，所述第一控制阀包括第一阀体和设置于所述第一阀体上的第一控制开关。其中，所述第一阀体设有第一端口和第二端口，所述第一端口与所述出气口连接，所述第二端口与所述抽真空装置连接。/>[0009]在一些实施例中，所述抽真空装置包括压力检测仪，所述压力检测仪用于检测所述真空腔的压力。
[0010]在一些实施例中，所述第一控制阀为单向阀，所述第一控制阀的第一端口为进气端，所述第一控制阀的第二端口为出气端。
[0011]在一些实施例中，所述抽真空装置为真空泵。
[0012]在一些实施例中，所述真空监控组件包括四级杆和电控盒，所述真空腔设置于所述四级杆内，且所述四级杆上设有所述进样口和所述出气口。所述电控盒与所述四级杆电连接。
[0013]在一些实施例中，所述真空监控器还包括真空管，所述真空管的一端与所述出气口连接，另一端与所述第一端口连接。其中，所述真空管靠近所述出气口的一端的孔径，大于所述真空管靠近所述第一端口的一端的孔径。
[0014]本公开实施例提供的真空监控器包括真空监控组件和抽真空组件，且抽真空组件能够对真空监控组件的真空腔进行抽真空。基于此，在蒸镀过程中，当真空监控器出现异常时，不仅可以对真空监控器进行更换，以实现对蒸镀空间的真空状态的持续监控；并且，在
更换后，还可以对真空监控器的真空腔进行抽真空，以使真空腔内的真空度达到蒸镀机的蒸镀空间内的真空度。这样的话，在后续将真空监控器的真空腔和蒸镀机的蒸镀空间连通后，能够避免更换真空监控器造成蒸镀空间内的真空度产生异常波动，减少不良品产出，提高良品率。
[0015]另一方面，还提供一种蒸镀设备，所述蒸镀设备包括真空监控器和蒸镀机。其中，所述真空监控器为上述任一实施例所述的真空监控器。所述蒸镀机内设有蒸镀空间，所述蒸镀机上设有连通所述蒸镀空间的出样口，所述出样口与所述进样口连接。
[0016]在一些实施例中，所述蒸镀设备还包括第二控制阀，所述第二控制阀包括第二阀体和设置于所述第二阀体上的第二控制开关。其中，所述第二阀体设有第三端口和第四端口，所述第三端口与所述出样口连接，所述第四端口与所述进样口连接。
[0017]在一些实施例中，所述第四端口与所述进样口法兰连接。
[0018]本公开实施例提供的蒸镀设备的有益效果与上述技术方案提供的真空监控器的有益效果相同，在此不做赘述。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本公开中的技术方案，下面将对本公开一些实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例的附图，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。此外，以下描述中的附图可以视作示意图，并非对本公开实施例所涉及的产品的实际尺寸、方法的实际流程、信号的实际时序等的限制。
[0020]图1为根据一些实施例的蒸镀设备的示意图；
[0021]图2为根据一些实施例的抽真空组件的示意图；
[0022]图3为根据一些实施例的真空监控器的示意图；
[0023]图4为根据另一些实施例的真空监控器的示意图；
[0024]图5为根据一些实施例的蒸镀机和第二控制阀的示意图。
具体实施方式
[0025]下面将结合附图，对本公开一些实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开所提供的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
[0026]除非上下文另有要求，否则，在整个说明书和权利要求书中，术语“包括(comprise)”及其其他形式例如第三人称单数形式“包括(comprises)”和现在分词形式“包括(comprising)”被解释为开放、包含的意思，即为“包含，但不限于”。在说明书的描述中，术语“一些实施例(some embodiments)”、“示例(example)”或“一些示例(some examples)”等旨在表明与该实施例或示例相关的特定特征、结构、材料或特性包括在本公开的至少一个实施例或示例中。上述术语的示意性表示不一定是指同一实施例或示例。此外，所述的特定特征、结构、材料或特点可以以任何适当方式包括在任何一个或多个实施例或示例中。
[0027]以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者
隐含地包括一个或者更多个该特征。在本公开实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
[0028]在描述一些实施例时，可能使用了“连接”及其衍伸的表达。例如，描述一些实施例时可能使用了术语“连接”以表明两个或两个以上部件彼此间有直接物理接触或电接触。
[0029]本文参照作为理想化示例性附图的剖视图和/或平面图描述了示例性实施方式。在附图中，为了清楚，放大了层和区域的厚度。因此，可设想到由于例如制造技术和/或公差引起的相对于附图的形状的变动。因此，示例性实施方式不应解释为局限于本文示出的区域的形状，而是包括因例如制造而引起的形状偏差。
[0030]参见图1，本公开的一些实施例提供一种真空监控器100，真空监控器100包括真空监控组件1和抽真空组件2。其中，真空监控组件1内设有真空腔11，且真空监控组件1上设有连通真空腔11的进样口12和出气口13。进样口12用于连接蒸镀设备200的蒸镀机300，抽真空组件2与出气口13连接，用于对真空腔11进行抽真空。
[0031]需要说明的是，抽真空组件2既可本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空监控器，应用于蒸镀设备，其特征在于，包括：真空监控组件，所述真空监控组件内设有真空腔，所述真空监控组件上设有连通所述真空腔的进样口和出气口；所述进样口用于连接所述蒸镀设备的蒸镀机；抽真空组件，与所述出气口连接，用于对所述真空腔进行抽真空。2.根据权利要求1所述的真空监控器，其特征在于，所述抽真空组件包括：第一控制阀，包括第一阀体和设置于所述第一阀体上的第一控制开关，所述第一阀体设有第一端口和第二端口，所述第一端口与所述出气口连接；抽真空装置，与所述第一控制阀的第二端口连接。3.根据权利要求2所述的真空监控器，其特征在于，所述抽真空装置包括：压力检测仪，用于检测所述真空腔的压力。4.根据权利要求3所述的真空监控器，其特征在于，所述第一控制阀为单向阀，所述第一控制阀的第一端口为进气端，所述第一控制阀的第二端口为出气端。5.根据权利要求2所述的真空监控器，其特征在于，所述抽真空装置为真空泵。6.根据权利要求1～5中任一项所述的真空监控器，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：姬磊，罗楠，李靖，刘金彪，加新星，李元星，刘文豪，胡斌，党博谭，李端瑞，周杰，祁泽宙，兰代江，刘飞，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：