当前位置: 首页 > 专利查询>周志洪专利>正文

一种瓷器生产用陶瓷锅上釉装置制造方法及图纸

技术编号:32189386 阅读:19 留言:0更新日期:2022-02-08 15:53
本发明专利技术涉及一种上釉装置,尤其涉及一种瓷器生产用陶瓷锅上釉装置。本发明专利技术提供一种上釉过程中对陶瓷的稳定性较好,而且可快速将陶瓷推送至指定位置进行上釉的瓷器生产用陶瓷锅上釉装置。本发明专利技术提供了这样一种瓷器生产用陶瓷锅上釉装置,包括:第一活动板,第一支撑架上滑动式设有第一活动板;第一压缩弹簧,第一活动板两侧均与第一支撑架之间连接有第一压缩弹簧,第一压缩弹簧绕在第一活动板上;储水箱,第一支撑架上中部设有储水箱。本发明专利技术通过设有限位机构,限位机构与吸紧机构配合,吸紧机构控制陶瓷锅运动,限位机构可配合陶瓷锅运动,同时能对油料进行烘干,进而可提高陶瓷锅上釉的效率。的效率。的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种瓷器生产用陶瓷锅上釉装置


[0001]本专利技术涉及一种上釉装置,尤其涉及一种瓷器生产用陶瓷锅上釉装置。

技术介绍

[0002]陶瓷器是一种外形美观的土制品,人们将黏土烧制成特定形状,随后将其表面打磨光滑,而后在其表面上釉,进而便可制成既实用又美观的陶瓷器,但是现有陶瓷器上釉装置,大多存在上釉过程中对陶瓷的稳定性较差,同时需要人们手动将陶瓷放置在指定位置进行上釉的缺点。
[0003]专利申请号CN2015201148006公开了一种陶瓷上釉机,特别涉及一种具有挂孔的陶瓷制品的陶瓷上釉机,属于陶瓷机械设备领域,包括机架、驱动装置,机架上布置若干传动轮,传动带依次绕过传动轮,传动带上间隔布置有挂钩,沿传动带运行路径依次设置挂钩上阻釉剂预处理区、陶瓷上釉区及晾干区。该专利技术结构简单、操作方便,实现了陶瓷器上釉,但是存在上釉过程中对陶瓷的稳定性较差。
[0004]针对上述现有装置存在的缺点,我们提供这样一种上釉过程中对陶瓷的稳定性较好,而且可快速将陶瓷推送至指定位置进行上釉的瓷器生产用陶瓷锅上釉装置。

技术实现思路

[0005]为了克服存在上釉过程中对陶瓷的稳定性较差,同时需要人们手动将陶瓷放置在指定位置进行上釉的缺点,要解决的技术问题:提供一种上釉过程中对陶瓷的稳定性较好,而且可快速将陶瓷推送至指定位置进行上釉的瓷器生产用陶瓷锅上釉装置。
[0006]技术方案是:一种瓷器生产用陶瓷锅上釉装置,包括有:第一活动板,第一支撑架上滑动式设有第一活动板;第一压缩弹簧,第一活动板两侧均与第一支撑架之间连接有第一压缩弹簧,第一压缩弹簧绕在第一活动板上;储水箱,第一支撑架上中部设有储水箱;盖子,储水箱顶部螺纹式连接有盖子;第二活动板,第一支撑架上中部滑动式设有第二活动板,第二活动板与储水箱滑动式配合;第二压缩弹簧,第二活动板两侧均与第一支撑架之间连接有第二压缩弹簧,第二压缩弹簧绕在第二活动板上;海绵,第二活动板上设有海绵;限位机构,第一支撑架上中部设有限位机构;吸紧机构,第一支撑架中部设有吸紧机构。
[0007]作为优选,限位机构包括有:第二支撑架,第一支撑架上部中间设有第二支撑架;第一活动杆,第二支撑架上部滑动式设有第一活动杆;
第二活动杆,第一活动杆上滑动式设有第二活动杆;第一活动块,第二活动杆两侧均滑动式设有第一活动块;第三压缩弹簧,第一活动块与第二活动杆之间连接有第三压缩弹簧;加热管,第二支撑架内下部均匀设有加热管,加热管的数量为四个;第四压缩弹簧,第一活动杆与第二支撑架之间连接有第四压缩弹簧,第四压缩弹簧绕在第二支撑架上。
[0008]作为优选,吸紧机构包括有:第一支撑柱,第一支撑架底部中间设有第一支撑柱;电机,第一支撑柱上部安装有电机;第一转轴,电机输出轴上端连接有第一转轴,第一转轴与第一支撑架转动式连接;第一齿轮,第一转轴中部设有第一齿轮,第一齿轮与第一支撑架转动式配合;第二齿轮,第一齿轮与第一支撑架中部之间转动式安装有第二齿轮;第二转轴,第二齿轮上中部设有第二转轴;吸盘,第二转轴上部均匀设有吸盘,吸盘的数量为六个。
[0009]作为优选,还包括有推料机构,推料机构包括有:第二支撑柱,第一支撑架下部间隔设有两个第二支撑柱;丝杆,两个第二支撑柱下部之间转动式设有丝杆;第三活动杆,丝杆上螺纹式连接有第三活动杆;第三转轴,第一支撑架下部转动式设有第三转轴;第一锥齿轮组,第三转轴中部与丝杆之间安装有第一锥齿轮组;第一皮带,第三转轴下部与第一转轴中部之间绕设有第一皮带。
[0010]作为优选,还包括有支撑机构,支撑机构包括有:第三支撑柱,第二支撑架中部间隔设有两个第三支撑柱;第四活动杆,两个第三支撑柱之间滑动式设有第四活动杆,第四活动杆上部与第二活动杆配合;第五压缩弹簧,第四活动杆与第三支撑柱之间连接有第五压缩弹簧,第五压缩弹簧绕在第四活动杆上。
[0011]作为优选,还包括有下料机构,下料机构包括有:第四支撑柱,第一支撑架下侧间隔设有两个第四支撑柱;限位杆,两个第四支撑柱之间均匀设有限位杆,限位杆的数量为三根;第二活动块,三根限位杆之间滑动式设有第二活动块,第二活动块与第一支撑架滑动式配合;第六活动杆,相对位于外侧的第四支撑柱上部滑动式设有第六活动杆;第七活动杆,相对位于外侧的第四支撑柱下部滑动式设有第七活动杆;第三活动块,第七活动杆与第六活动杆上部内侧均滑动式设有第三活动块,第三活动块与第二活动块配合;第六压缩弹簧,第七活动杆以及第六活动杆均与第三活动块之间连接有第六压缩弹簧;第一伸缩弹簧,第二活动块与相对位于内侧的第四支撑柱之间连接有第一伸缩弹
簧,第一伸缩弹簧绕在位于中间的限位杆上;第四转轴,相对位于外侧的第四支撑柱中间设有第四转轴;第三活动板,第四转轴上转动式设有第三活动板,第三活动板与第七活动杆以及第六活动杆转动式连接;扭簧,第三活动板与第四支撑柱之间连接有扭簧,扭簧绕在第四转轴上。
[0012]作为优选,还包括有复位机构,复位机构包括有:第五支撑柱,第一支撑架底部均匀设有第五支撑柱,第五支撑柱的数量为四个;第五转轴,位于同一侧的两个第五支撑柱上部之间转动式设有第五转轴;传送带,两个第五转轴之间绕设有传送带;第六转轴,第一支撑架底部转动式设有第六转轴;第二锥齿轮组,第六转轴上部与相对位于外侧的第五转轴之间安装有第二锥齿轮组;第二皮带,第六转轴中部与电机输出轴下部之间绕设有第二皮带;连接块,传送带上设有连接块,连接块与第二活动块配合,连接块与位于内侧的第四支撑柱滑动式连接;第二伸缩弹簧,连接块两侧均与位于内侧的第四支撑柱之间连接有第二伸缩弹簧,第二伸缩弹簧绕在连接块上。
[0013]作为优选,第一支撑架中部设有与第二齿轮配合的圆形齿条。
[0014]本专利技术的有益效果为:1、本专利技术通过设有限位机构,限位机构与吸紧机构配合,吸紧机构控制陶瓷锅运动,限位机构可配合陶瓷锅运动,同时能对油料进行烘干,进而可提高陶瓷锅上釉的效率;2、通过设有推料机构,推料机构可推送陶瓷锅移动,进而可将陶瓷锅快速移动至指定位置,从而可提高陶瓷上釉作业的速率;3、通过设有支撑机构,支撑机构可控制限位机构的运动状态,进而可快速将陶瓷锅限位在指定位置;4、通过设有下料机构,下料机构可对完成上釉的陶瓷锅进行输送,进而可方便人们对上釉完成的陶瓷锅进行收取;5、通过设有复位机构,复位机构可控制下料机构运动复位,进而可使得下料机构进行持续下料。
附图说明
[0015]图1为本专利技术第一种的立体结构示意图。
[0016]图2为本专利技术第二种的立体结构示意图。
[0017]图3为本专利技术限位机构第一部分的立体结构示意图。
[0018]图4为本专利技术限位机构第二部分的立体结构示意图。
[0019]图5为本专利技术吸紧机构第一部分的立体结构示意图。
[0020]图6为本专利技术吸紧机构第二部分的立体结构示意图。
[0021]图7为本专利技术吸紧机构第三部分的立体结构示意图。
[0022]图8为本专利技术推料机构第一部分的立体结构示意图。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种瓷器生产用陶瓷锅上釉装置,其特征在于,包括有:第一活动板(2),第一支撑架(1)上滑动式设有第一活动板(2);第一压缩弹簧(3),第一活动板(2)两侧均与第一支撑架(1)之间连接有第一压缩弹簧(3),第一压缩弹簧(3)绕在第一活动板(2)上;储水箱(4),第一支撑架(1)上中部设有储水箱(4);盖子(5),储水箱(4)顶部螺纹式连接有盖子(5);第二活动板(6),第一支撑架(1)上中部滑动式设有第二活动板(6),第二活动板(6)与储水箱(4)滑动式配合;第二压缩弹簧(7),第二活动板(6)两侧均与第一支撑架(1)之间连接有第二压缩弹簧(7),第二压缩弹簧(7)绕在第二活动板(6)上;海绵(8),第二活动板(6)上设有海绵(8);限位机构(9),第一支撑架(1)上中部设有限位机构(9);吸紧机构(10),第一支撑架(1)中部设有吸紧机构(10)。2.根据权利要求1所述的一种瓷器生产用陶瓷锅上釉装置,其特征在于,限位机构(9)包括有:第二支撑架(91),第一支撑架(1)上部中间设有第二支撑架(91);第一活动杆(92),第二支撑架(91)上部滑动式设有第一活动杆(92);第二活动杆(93),第一活动杆(92)上滑动式设有第二活动杆(93);第一活动块(94),第二活动杆(93)两侧均滑动式设有第一活动块(94);第三压缩弹簧(95),第一活动块(94)与第二活动杆(93)之间连接有第三压缩弹簧(95);加热管(96),第二支撑架(91)内下部均匀设有加热管(96),加热管(96)的数量为四个;第四压缩弹簧(97),第一活动杆(92)与第二支撑架(91)之间连接有第四压缩弹簧(97),第四压缩弹簧(97)绕在第二支撑架(91)上。3.根据权利要求2所述的一种瓷器生产用陶瓷锅上釉装置,其特征在于,吸紧机构(10)包括有:第一支撑柱(101),第一支撑架(1)底部中间设有第一支撑柱(101);电机(102),第一支撑柱(101)上部安装有电机(102);第一转轴(103),电机(102)输出轴上端连接有第一转轴(103),第一转轴(103)与第一支撑架(1)转动式连接;第一齿轮(104),第一转轴(103)中部设有第一齿轮(104),第一齿轮(104)与第一支撑架(1)转动式配合;第二齿轮(106),第一齿轮(104)与第一支撑架(1)中部之间转动式安装有第二齿轮(106);第二转轴(105),第二齿轮(106)上中部设有第二转轴(105);吸盘(107),第二转轴(105)上部均匀设有吸盘(107),吸盘(107)的数量为六个。4.根据权利要求3所述的一种瓷器生产用陶瓷锅上釉装置,其特征在于,还包括有推料机构(11),推料机构(11)包括有:第二支撑柱(111),第一支撑架(1)下部间隔设有两个第二支撑柱(111);
丝杆(112),两个第二支撑柱(111)下部之间转动式设有丝杆(112);第三活动杆(113),丝杆(112)上螺纹式连接有第三活动杆(113);第三转轴(114),第一支撑架(1)下部转动式设有第三转轴(114);第一锥齿轮组(115),第三转轴(114)中部与丝杆(112)之间安装有第一锥齿轮组(115);第一皮带(116),第三转轴(114)下部与第一转轴(103)中部之间绕设有第一皮带(116)。5.根据权利要求4所述的一种瓷器生产用陶瓷锅上釉装置,其特征在于,还包括有支撑机构(12),支撑机构(12)包括有:第三支撑柱(12...

【专利技术属性】
技术研发人员:周志洪
申请(专利权)人:周志洪
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1