一种施釉装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种施釉装置，包括釉斗、第一钟罩和第二钟罩，第一钟罩呈上下敞口状，第一钟罩和第二钟罩之间形成贮釉空间，贮釉空间底部开设有导流口，从釉斗下釉口流出的釉料暂时贮存在贮釉空间，当釉料充满贮釉空间后从第一钟罩溢出到第二钟罩，形成施釉釉幕，从而完成施釉。施釉完成后，由于贮釉空间的底部开设有导流口，将导流口打开，贮釉空间内未能溢出的釉料即可从导流口排出，方便清洗贮釉空间内沉积的釉料，防止釉料沉积腐蚀施釉装置，提高设备使用寿命，还可以提高生产效率。还可以提高生产效率。还可以提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
一种施釉装置


[0001]本技术涉及陶瓷施釉
，尤其涉及一种施釉装置。

技术介绍

[0002]随着陶瓷行业的工艺革新，目前陶瓷行业在传统普通淋抛釉装饰材料的基础上，出现了干粒釉新型装饰材料，从而出现了适应淋抛釉和干粒釉的带有釉槽的施釉装置。干粒釉釉料中的固体粒径大，传统普通淋抛釉釉料中的固体粒径大于325目，而干粒釉目数普遍低于250目，且干粒釉都是由胶水悬浮剂与熔块混合。因而干粒釉粘度较大、易沉淀和腐蚀性强，不仅容易在釉槽沉淀堆积不易清洗，影响施釉装置的使用寿命，而且在陶瓷生产过程中需要大量时间去清洗施釉装置，影响生产效率。

技术实现思路

[0003]本技术提供一种施釉装置，以解决现有技术的施釉装置釉槽不易清洗，影响施釉装置使用寿命和生产效率的问题。
[0004]本技术提供如下技术方案：
[0005]一种施釉装置，包括：
[0006]釉斗，用于储放釉料，具有下釉口；
[0007]第一钟罩，呈上下敞口状，上敞口对应所述下釉口设置；
[0008]第二钟罩，贴合设置在所述第一钟罩下方，以封闭所述第一钟罩的下敞口，使得所述第一钟罩和所述第二钟罩之间形成贮釉空间，用于贮存所述下釉口流出的釉料，从所述第一钟罩溢出的釉料经第二钟罩形成施釉釉幕；
[0009]其中，所述贮釉空间的底部开设有导流口。
[0010]优选地，所述导流口对称开设在所述贮釉空间的底部。
[0011]进一步地，所述施釉装置还包括：
[0012]稳釉结构，设置在所述贮釉空间内，所述稳釉结构围设形成第一空间，所述下釉口流出的釉料依次流入所述第一空间、所述贮釉空间。
[0013]进一步地，所述施釉装置还包括：
[0014]滤网，设置在所述第一空间内，所述滤网围设形成第二空间，所述下釉口流出的釉料依次流入所述第二空间、所述第一空间。
[0015]优选地，所述稳釉结构和所述滤网为可拆卸结构。
[0016]优选地，所述釉斗的内壁涂覆有不沾涂层，所述不沾涂层包括聚四氟乙烯涂层。
[0017]可选地，所述釉斗设置有第一球阀，用于控制所述下釉口的流量。
[0018]可选地，所述施釉装置还包括：
[0019]导流管，所述导流管的一端连接所述导流口，另一端设置第二球阀。
[0020]优选地，所述施釉装置还包括：
[0021]金属环，设置在所述第一钟罩的上敞口处，所述金属环形成有豁口。
[0022]可选地，所述釉斗设置有上釉口和回釉口，所述回釉口的位置高于所述上釉口的位置。
[0023]本技术的有益效果至少包括：
[0024]本技术的施釉装置包括釉斗、第一钟罩和第二钟罩，第一钟罩呈上下敞口状，第一钟罩和第二钟罩之间形成贮釉空间，贮釉空间底部开设有导流口，从釉斗下釉口流出的釉料暂时贮存在贮釉空间，当釉料充满贮釉空间后从第一钟罩溢出到第二钟罩，形成施釉釉幕，从而完成施釉。施釉完成后，由于贮釉空间的底部开设有导流口，将导流口打开，贮釉空间内未能溢出的釉料即可从导流口排出，方便清洗贮釉空间内沉积的釉料，防止釉料沉积腐蚀施釉装置，提高设备使用寿命，还可以提高生产效率。
附图说明
[0025]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0026]图1示出了本技术施釉装置的剖面示意图；
[0027]图2示出了本技术施釉装置的钟罩结构立体图；
[0028]图3示出了本技术施釉装置的钟罩侧面示意图；
[0029]图4示出了图3中A
‑
B的剖面示意图。
[0030]主要元件符号说明：
[0031]1‑
釉斗；2
‑
第一球阀；3
‑
第一钟罩；4
‑
第二钟罩；5
‑
第二球阀；6
‑
滤网；7
‑
回釉口；8
‑
导流管；9
‑
上釉口；10
‑
稳釉结构；11
‑
金属环；12
‑
导流口；13
‑
贮釉空间；14
‑
第一空间；15
‑
第二空间；16
‑
下釉口；100
‑
施釉装置。
具体实施方式
[0032]下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0033]需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。相反，当元件被称作“直接在”另一元件“上”时，不存在中间元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
[0034]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0035]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0036]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在模板的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在限制本技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0037]釉是覆盖在陶瓷制品表面的无色或有色的玻璃质薄层。施釉工艺是陶瓷器制作工艺技术的一种，是指在成型的陶瓷坯体表面施以釉浆的过程。施釉主要有蘸釉、荡釉、浇釉、刷釉、洒釉、轮釉、淋釉等七种方法。本技术提供一种施釉装置100，用于淋釉施工工艺，请参阅图1，包括：釉斗1、第一钟罩3和第二钟罩4。
[0038]请参阅图1，釉斗1用于储放釉料，具有下釉口16。具体的，釉斗1为本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种施釉装置，其特征在于，包括：釉斗，用于储放釉料，具有下釉口；第一钟罩，呈上下敞口状，上敞口对应所述下釉口设置；第二钟罩，贴合设置在所述第一钟罩下方，以封闭所述第一钟罩的下敞口，使得所述第一钟罩和所述第二钟罩之间形成贮釉空间，用于贮存所述下釉口流出的釉料，从所述第一钟罩溢出的釉料经第二钟罩形成施釉釉幕；其中，所述贮釉空间的底部开设有导流口。2.根据权利要求1所述的施釉装置，其特征在于，所述导流口对称开设在所述贮釉空间的底部。3.根据权利要求1或2所述的施釉装置，其特征在于，所述施釉装置还包括：稳釉结构，设置在所述贮釉空间内，所述稳釉结构围设形成第一空间，所述下釉口流出的釉料依次流入所述第一空间、所述贮釉空间。4.根据权利要求3所述的施釉装置，其特征在于，所述施釉装置还包括：滤网，设置在所述第一空间内，所述滤网围设形成第...

【专利技术属性】
技术研发人员：张良，刘俊荣，
申请(专利权)人：佛山欧神诺陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：