【技术实现步骤摘要】
本申请要求2001年9月5日申请的韩国专利申请第2001-54434号的权益，于是为了实现所有目的通过引用将其结合进来，就象此处对其作了完整阐述一样。附图说明图1是传统静电卡盘的示意性剖视图。在图1中，在金属板10上设有介电层20，在介电层20中插有内电极25。例如，如果将聚酰亚胺层设置在铜电极上，聚酰亚胺层和铜电极就分别变成介电层20和内电极25。晶片30被加载在介电层20上。将处理舱的侧壁50接地。在将晶片30加载到介电层20上并将工艺气体注入到处理舱中后，通过另外的等离子体电极(未示出)施加第一RF功率。结果，在处理舱内产生等离子体40。等离子体40起连接处理舱侧壁50和晶片30的导体的作用。在此，如果向内电极25施加负电压，就会产生使晶片30和金属板10与插入它们中间的介电层20彼此吸引的夹紧力。于是，将晶片30夹持到介电层20上。从第一RF功率的同一电源或从另外电源向金属板10施加第二RF功率，以便使等离子体的正离子由于自偏压而以较高动量与晶片20发生碰撞。特别是，理想的是向诸如活性离子刻蚀(RIE)的等离子体刻蚀过程施加第二RF功率。此外，将晶片30夹持...
【技术保护点】
一种静电卡盘，其包括： 金属板； 位于金属板上的介电层，介电层和金属板具有起模针孔和冷却气体的注入孔； 通过起模针孔上下移动的起模针； 位于起模针孔内表面上的第一保护绝缘体；以及 位于注入孔内表面上的第二保护绝缘体。
【技术特征摘要】
KR 2001-9-5 P-2001-544341.一种静电卡盘，其包括金属板；位于金属板上的介电层，介电层和金属板具有起模针孔和冷却气体的注入孔；通过起模针孔上下移动的起模针；位于起模针孔内表面上的第一保护绝缘体；以及位于注入孔内表面上的第二保护绝缘体。2.根据权利要求1所述的卡盘，其中起模针孔和注入孔竖直地穿过金属板和介电层。3.根据权利要求1所述的卡盘，其中第一和第二保护绝缘体包括陶瓷。4.根据权利要求3所述的卡盘，其中陶瓷具有氮化铝(AlN)和氧化铝(Al2O3)中的一种。5.根据权利要求1所述的卡盘，其中第一和第二保护绝缘体布置在金属板内。6.根据权利要求5所述的卡盘，其中第一和第二保护绝缘体是通过阳极化过程形成的。...
【专利技术属性】
技术研发人员：权奇清，边洪植，李承原，金洪习，韩淳锡，高富珍，金祯植，
申请(专利权)人：周星工程有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]
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