一种测量大口径平面光学元件表面平均高反射率的方法技术

本发明专利技术提供一种测量大口径平面光学元件表面平均高反射率的方法，将特定口径的单色平行光束注入平行平面型初始腔，利用探测器记录初始腔衰荡信号，提取初始腔光腔衰荡时间常数t0；在初始腔中加入待测大口径光学元件构成折叠型测试腔，提取测试腔衰荡时间常数t1，结合初始腔腔长L0及测试腔腔长L1计算待测大口径光学元件在特定口径内的平均高反射率数值R

【技术实现步骤摘要】
一种测量大口径平面光学元件表面平均高反射率的方法


[0001]本专利技术涉及光腔衰荡
，具体涉及一种测量大口径平面光学元件表面平均高反射率的方法，可一次性获取大口径光学元件在特定口径内的平均反射率结果。

技术介绍

[0002]近年来，高反射率元件(R>99.9％)在引力波探测、激光陀螺、高精度吸收光谱检测和大型激光系统中取得了越来越广泛的应用，同时，高反射元件的反射率也越来越高。国内外现有报道的最高反射率光学元件已达99.99984％(G.Rempe,R.J.Thompson,H.J.Kimble.Measurement ofultralow losses in an optical interferometer.Opt.Lett.,1992,17(5):363
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365.)。随着高反射率元件的广泛应用和高反射膜系镀制工艺的发展进步，精确测量高反射率变得尤为重要。国内外研究现状表明，光腔衰荡(Cavity ring
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down，CRD)技术是目前唯一能精确测量高反射率的方法(李斌成,龚元.本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种测量大口径平面光学元件表面平均高反射率的方法，其特征在于，实现步骤如下：步骤(1)、搭建平行平面型初始衰荡腔，向初始衰荡腔内注入单色平行光束，利用可变光阑选择合适的光束口径；单色平行光束可以为脉冲光束或连续光束；如果采用连续光束，需要在光源和衰荡腔之间加入光开关模块；光束注入后精密调节初始衰荡腔，测量腔长L0，利用探测器采集初始衰荡腔的光腔衰荡信号，提取光腔衰荡时间常数t0；步骤(2)、在初始衰荡腔中根据待测光学元件入射角度要求加入待测光学元件，构成测试衰荡腔，向测试衰荡腔内注入经可变光阑调制的单色平行光束；精密调节测试衰荡腔，测量腔长L1，利用探测器采集测试衰荡腔的光腔衰荡信号，提取光腔衰荡时间常数t1；步骤(3)、根据公式R
x
＝exp[(L0t1‑
L1t0)/(t1t0c)]计算待测光学元件高反射率数值，公式中c为真空中光速，c＝3
·
108m/s。2.根据权利要求1所述的一种测量大口径平面光学元件表面平均高反射率的方法，其特征在于：步骤(1)所述的初始衰荡腔可以为两块平面高反射镜...

【专利技术属性】
技术研发人员：何星，田中州，王帅，赖柏衡，赵旺，杨平，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：