扫描曝光装置、扫描曝光方法以及物品制造方法制造方法及图纸

本公开涉及扫描曝光装置、扫描曝光方法以及物品制造方法。扫描曝光装置针对由照明光学系统照明的照明区域扫描原版，并且一边与原版的扫描同步地扫描基板，一边对基板进行扫描曝光。扫描曝光装置具备：第1调整机构，在进行基板的第1区域的扫描曝光以及与第1区域部分地重复的第2区域的扫描曝光的模式下调整被照射到第1区域与第2区域的重复区域的曝光光的照度分布；第2调整机构，调整照明区域的形状；以及控制部，在执行以在重复区域的整个区域使曝光量超过目标曝光量的方式使第1调整机构动作的第1调整动作之后，执行以在重复区域使曝光量收敛于目标曝光量的容许范围的方式使第2调整机构动作的第2调整动作。整机构动作的第2调整动作。整机构动作的第2调整动作。

【技术实现步骤摘要】
扫描曝光装置、扫描曝光方法以及物品制造方法


[0001]本专利技术涉及扫描曝光装置、扫描曝光方法以及物品制造方法。

技术介绍

[0002]在专利文献1中，记载有在一边使基板与原版同步地移动一边经由投影光学系统对基板进行曝光的扫描曝光装置中，以使第1拍摄区域与第2拍摄区域部分地重复的方式对第1拍摄区域以及第2拍摄区域进行曝光。在此，第1拍摄区域和第2拍摄区域在与原版以及基板的扫描方向正交的非扫描方向上配置。在专利文献1的曝光方法中，重复进行测量第1拍摄区域与第2拍摄区域重复的连结部的曝光量的第1工序、以及改变设置于投影光学系统与基板之间的可动的遮光构件的位置，从而使该连结部的曝光量变化的第2工序。由此，能够得到连结部(重复区域)的曝光量与遮光构件的位置的关系，基于该关系，根据遮光构件的位置来调整第1拍摄区域以及第2拍摄区域的曝光量的均匀性。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2017
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053888号公报

技术实现思路

[0006]在曝光装置中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种扫描曝光装置，针对由照明光学系统照明的照明区域而扫描原版，并且一边与所述原版的扫描同步地对基板进行扫描，一边对所述基板进行扫描曝光，所述扫描曝光装置的特征在于，具备：第1调整机构，在进行所述基板的第1区域的扫描曝光以及与所述第1区域部分地重复的第2区域的扫描曝光的模式下，调整被照射到所述第1区域与所述第2区域的重复区域的曝光光的照度分布；第2调整机构，调整所述照明区域的形状；以及控制部，在执行以在所述重复区域的整个区域使曝光量超过目标曝光量的方式使所述第1调整机构进行动作的第1调整动作之后，执行以在所述重复区域使曝光量收敛于所述目标曝光量的容许范围的方式使所述第2调整机构进行动作的第2调整动作。2.根据权利要求1所述的扫描曝光装置，其特征在于，所述第1调整机构包括遮光构件，该遮光构件插入于将所述原版的图案投影到所述基板的投影光学系统与所述基板之间的光路。3.根据权利要求2所述的扫描曝光装置，其特征在于，所述遮光构件具有在与所述原版以及所述基板的扫描方向交叉的方向上延伸的边缘。4.根据权利要求1所述的扫描曝光装置，其特征在于，所述第2调整机构包括可变狭缝机构，该可变狭缝机构配置于所述照明光学系统与所述原版之间。5.根据权利要求4所述的扫描曝光装置，其特征在于，所述可变狭缝机构关于与所述原版以及所述基板的扫描方向正交的方向上的多个位置，调整所述扫描方向上的所述照明区域的宽度。6.根据权利要求1所述的扫描曝光装置，其特征在于，所述扫描曝光装置还具备传感器，该传感器检测被照射到配置所述基板的面的光，所述控制部根据所述传感器的检测结果，执行所述第1调整动作以及所述第2调整动作。7.根据权利要求6所述的扫描曝光装置，其特征在于，所述控制部根据所述传感器的检测结果，执行关于所述重复区域而获取沿着与所...

【专利技术属性】
技术研发人员：上野卓郎，板桥宏明，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：