支撑装置制造方法及图纸

一种支撑装置，适用于化学气相沉积机台中，在反应炉内支撑基板用，本发明专利技术的目的在于提供一种能够减少对基板造成刮伤的支撑装置，从而提高产能以及提高合格率，其基座与支撑部分离的设计，可根据不同的工作环境选择最适合的材料来制作支撑部，不需要整体使用同一材料一体成型，不仅可以降低制作成本，同时可以提供便利的更换方式。本发明专利技术的支撑装置包括一基座，一支撑部，一固定部，其中支撑部大体为圆顶的凸粒。在组装支撑装置时，将支撑部置于基座上，再用固定部将基座与支撑部耦合。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

技术介绍
本专利技术涉及一种适用在半导体制作工艺中化学气相沉积机台，在反应炉内支撑基板用的支撑装置，特别是涉及一种配置该种支撑装置的机台。
技术介绍
化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，简称CVD)是一种利用化学反应的方式，在反应炉内将反应物(通常为气体)生成固态的生成物沉积在基板表面的一种薄膜沉积技术，化学气相沉积为半导体制作工艺中最重要且主要的薄膜沉积方法。如图1所示，其为现有化学气相沉积机台的示意图，一玻璃基板10放置在机台12上，通过一机械手臂14传递移动玻璃基板10，此一化学气相沉积机台位于加热反应炉之内。以目前3.5代液晶显示器(LCD)制作工艺而言，玻璃基板10的长度约为650mm-750mm、宽度约为550mm-650mm。由图所示，玻璃基板10因自重将会产生弯曲的现象，因而造成机械手臂14无法进行传送的动作，且此情况随着玻璃基板的尺寸扩大，基板弯曲的情况将会更严重。有鉴于此，为了防止玻璃基板弯曲而影响基板传送，目前的技术是在机台上设置支撑装置，用以支撑基板，使其不会因自重而弯曲。请参见图2，其设置有支撑装置26的化学气相沉积机台22的示意图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种支撑装置，适用于半导体制作工艺的机台，包括：　　　　一基座；　　　　一支撑部，设置于该基座上；　　　　一固定部，耦合该基座与该支撑部。

【技术特征摘要】
1.一种支撑装置，适用于半导体制作工艺的机台，包括一基座；一支撑部，设置于该基座上；一固定部，耦合该基座与该支撑部。2.如权利要求1所述的支撑装置，其中该固定部为一扣环。3.如权利要求2所述的支撑装置，其中该支撑部上还具有一环状凹槽，该扣环与该支撑部卡合于该环状凹槽。4.如权利要求1所述的支撑装置，其中该基座上具有公螺纹，该固定部上具有母螺纹，该公螺纹与该母螺纹螺合。5.如权利要求1所述的支撑装置，其中该基座上具有母螺纹，该固定部上具有公螺纹，该公螺纹与该母螺纹螺合。6.如权利要求1所述的支撑装置，其中该基座的材料为不锈钢。7.如权利要求6所述的支撑装置，其中该支撑部的材料为陶瓷。8.如权利要求6所述的支撑装置，其中该支撑部的材料为工程塑料(PBI)。9.如权利要求6所述的支撑装置，其中该支撑部的材料为石英。10.一种支撑装置，适用于半导体制作工艺的机台，包括一基座，具有一孔洞；一支撑部，穿过该孔洞而突出于该基座；一扣环，与该基座邻接，该扣环卡固该基座与该支撑部。11.如权利要求10所述的支撑装置，其中该支撑部上还具有一环状凹槽，该扣环与该支撑部卡合于该环状凹槽。12.如权利要求10所述的支撑装置，其中该扣环为C型扣环。...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈秋宏，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]