【技术实现步骤摘要】
交叉引用此专利申请为2000年8月8日提交的序列号为NO.09/633978的美国专利的系列申请。背景本专利技术总的涉及光刻曝光设备，并尤其涉及一种例如可以用于半导体集成电路器件的制作的光刻系统。在常规的模拟光刻系统中，光刻设备需要一个用于将图象印刷到目标目标主体上的掩模。该目标目标主体例如可以包括用于制作集成电路的涂覆了光致抗蚀剂的半导体衬底、用于蚀刻的铅框制作的金属衬底或用于印刷电路板制作的导体板等。带有图案的掩模或光掩模例如可以包含多个线条或结构。在光刻曝光中，必须利用一些机械控制方式和复杂的校准机构将目标主体与掩膜非常精确地校准。在此引为参考的美国专利US5,691,541公开了一种无刻线的数字光刻系统。该数字系统采用了一种脉冲的或选通的准分子激光器，将光束反射离开可编程的数字反射镜装置(DMD)，而该反射镜装置用于将图象组件(如金属线条)投影到衬底上。衬底安置在一个于脉冲序列期间移动的台座上。在此因为参考的与2000年1月10日提交的美国专利USS/N09/480,796公开了另一种数字光刻系统，它将移动的数字象素图案投影到目标主体的特定部位。“部位”一词...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.用于在一个对象上进行数字光刻的一种方法，所述方法包括以下步骤把一个第一象素曝光于所述对象的一个第一地点上；把所述对象重新定位，从而使一个第二象素与所述第一地点相对准；以及把所述第二象素曝光于所述对象的所述第一地点上，从而使来自所述第二象素的曝光与来自所述第一象素的曝光部分但不是全部地重叠。2.根据权利要求1的方法，进一步包括对所述对象进行重新定位，从而使一个第三象素与所述第一地点相对准；以及把所述第三象素暴露于所述对象的所述第一地点上，从而使来自所述第三象素的曝光与来自所述第一象素的曝光的另一个部分相重叠。3.根据权利要求2的方法，其中来自所述第一、第二和第三象素的曝光是非直线地排列的。4.根据权利要求1的方法，其中所述第一和第二象素位于一个象素板的一个公共的列上，所述方法进一步包括在对所述第二象素进行曝光之后，对用于在所述第一地点上进行曝光的一个第三象素进行重新定位，所述第三象素位于所述象素的一个不同的列上；以及把所述第三象素曝光于所述对象的所述第一地点上，从而使来自所述第三象素的曝光与来自所述第一象素和来自所述第二象素的曝光部分但不是全部地重叠。5.根据权利要求5的方法，进一步包括在对所述第二象素进行曝光之后，对所述对象进行重新定位，从而使一个第三象素与所述第一地点相对准；以及把所述第三象素暴露于所述对象的所述第一地点上，从而使来自所述第三象素的曝光与来自所述第一象素的全部曝光和来自所述第二象素的一部分曝光相重叠。6.根据权利要求1的方法，进一步包括把一层光刻胶加到所述对象上，其中所述光刻胶响应于所接收的曝光量。7.根据权利要求1的方法，进一步包括在曝光期间把所述第一和第二象素减小至焦点。8.用于在一个对象上进行光刻的一种方法，所述方法包括以下步骤给包括第一多个象素的一个第一数字图案提供给一个数字象素板；把所述第一多个象素暴露于所述对象的多个地点上，这些地点中的每一个地点都具有沿着一个方向的长度和沿着另一个方向的宽度；沿着所述一个方向，相对于所述数字象素板，对所述对象扫描小于所述长度的一个距离；把包括第二多个象素的一个第二数字图案提供给所述数字象素板；把所述第二多个象素曝光于所述对象的所述多个地点上；从而使得被曝光的第二多个象素与被曝光的第一多个象素相重叠。9.根据权利要求8的方法，进一步包括沿着所述其他方向，相对于所述数字象素板，在小于所述宽度的一个距离上，对所述对象进行重新定位；把包括第三多个象素的一个第三数字图案提供给所述数字象素板；把所述第三多个象素曝光于所述对象的所述多个地点上；从而使所述第三多个象素与所述曝光的第二多个象素相重叠。10.根据权...
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