一种刻蚀机腔体排风结构制造技术

本实用型发明专利技术公开了一种刻蚀机腔体排风结构，包括腔体，设置在腔体内的可上下移动的工作台，所述腔体的底部位于工作台的外侧设置有一组相互独立的排风口，所述排风口上设置有盖板；排风口的下方连接设置有排风管道。可根据各处风压的差异调整对应位置处排风口的开闭，从而使腔体内各处的风压保持一致，保证刻蚀速度的一致性，提高产品刻蚀的质量，可广泛应用于刻蚀机领域。应用于刻蚀机领域。应用于刻蚀机领域。

【技术实现步骤摘要】
一种刻蚀机腔体排风结构


[0001]本技术涉及刻蚀机领域，尤其是涉及一种刻蚀机腔体排风结构。

技术介绍

[0002]刻蚀机是晶片干法刻蚀常用的设备，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。工件送入刻蚀机腔体后，从刻蚀机腔体的顶部向下吹刻蚀气体，刻蚀气体与等离子体进行交换，等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物从排风口抽走。
[0003]现有刻蚀机腔体的排风方式采用的是单面排风，这种排风方式结构简单，便于清理和维修，但在实际生产中发现该结构会导致刻蚀速度不一致的问题。通过分析和实际检测发现，主要是单面排风会使排风口处的气压和其他出气压存在差异，这样一来通入刻蚀气体刻蚀时刻蚀气体在腔内分布不均，会导致排风处的刻蚀效果和其他地方造成差异，从而影响产品刻蚀的一致性和产品刻蚀的质量。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是提供一种刻蚀机腔体排风结构，解决现有刻蚀机腔体排风结构会本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种刻蚀机腔体排风结构，包括腔体(1)，设置在腔体(1)内的可上下移动的工作台(2)，其特征在于：所述腔体(1)的底部位于工作台(2)的外侧设置有一组相互独立的排风口(3)，所述排风口(3)上设置有盖板(4)；排风口(3)的下方连接设置有排风管道(5)。2.如权利要求1所述的刻蚀机腔体排风结构，其特征在于：所述排风口(3)在腔体(1)内设置有一圈。3.如权利要求1所述的刻蚀机腔体排...

【专利技术属性】
技术研发人员：李昌勋，徐良，彭艳亮，刘建哲，汪剑，陈亮，祝小林，
申请(专利权)人：黄山博蓝特半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：