曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供的曝光装置，能抑制基板台（４）上的配管系统引入部的紊乱，抑制从配管的发尘，以及抑制配管部件表面带静电。本发明专利技术的曝光装置中，通过投影光学系统（照明系统单元）（１），把画在原版面上的图形投影到基板上，用台装置（４）使原版和基板双方、或只使基板相对于该投影光学系统移动，把原版的图形反复曝光到基板上。与台装置的可动部连接着的若干个内外径不同的配管，其外周部的一部分相互接合着，形成为一体化的配管列（２０）或（２１）。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造工程中采用的曝光装置，例如涉及把标线图形投影复制到硅基板上的投影曝光装置。特别涉及把标线图形投影曝光到基板上时，使标线及硅基板相对于投影曝光系统依次移动的标线台、以及在基板台上使标线和基板移动的台装置。
技术介绍
图1A、B是说明本专利技术的
技术介绍
的图，是表示在基板台上的X配管安装、Y配管安装及X配管安装断面的图。如图1A、B所示，压力空气系统是压力空气配管120a至压力空气配管120e，由其供给压力空气。真空系统是真空配管120f和真空配管120g，由其供给基板109的夹头真空空气和基板夹头108的夹头真空空气。冷却液系统是冷却液配管120h和冷却液配管120i，由其供给和回收冷却液。电气系统是电缆120j和电缆120k，由其对微动台107上的照明度传感器112、台基准标记113内的受光传感器以及各驱动部传递信号和供给驱动电流。121是Y配管安装，其构造与X配管安装大体相同，是朝Y方向可动地引入的配管安装。121是安装间结合线材，为了把压力真空空气系统的配管120a～120e、冷却液系统的冷却液配管120h及120i、电气系统的电缆120j及120k成本文档来自技高网...

【技术保护点】
曝光装置，其特征在于，备有投影机构、台装置和曝光机构，　　　　上述投影机构，投影画在原版面上的图形；　　　　上述台装置，使原版和基板中的至少基板，相对于投影机构移动；　　　　上述曝光机构，将上述原版的图形反复曝光到上述基板上；　　　　与上述台装置的可动部连接着的若干配管，其各自外周部的一部分相互接合着，成为一体化的配管列。

【技术特征摘要】
JP 2003-7-8 193632/20031.曝光装置，其特征在于，备有投影机构、台装置和曝光机构，上述投影机构，投影画在原版面上的图形；上述台装置，使原版和基板中的至少基板，相对于投影机构移动；上述曝光机构，将上述原版的图形反复曝光到上述基板上；与上述台装置的可动部连接着的若干配管，其各自外周部的一部分相互接合着，成为一体化的配管列。2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，与上述可动部连接着的电缆或信号缆，通过作为配管列的、一体化配管的一部分的配管中空部。3.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，在上述一体化配管列的外周部，配置了充填着液体或衰减部件的振动衰减配管。4.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，设有覆盖上述一体化配管列的振动衰减配管，在上述一体化配管列与上述振动衰减配管之间的中空部内，充填了液体或衰减部件。5.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，一体化配管列的...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫岛义一，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]