一种晶圆表面清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及晶圆生产领域，特别涉及一种晶圆表面清洗装置。该装置包括升降机构、喷头调节机构、清洗喷头、高度调节杆、支撑杆，高度调节杆一端固定连接、其另一端连接升降机构，升降机构通过旋转来调节在高度调节杆上的高度，支撑杆横向连接在升降机构上，喷头调节机构设置在支撑杆上，清洗喷头连接在喷头调节机构上，根据晶圆的位置喷头调节机构调整清洗喷头的朝向对准晶圆表面。本装置采用兆声波发声器，使液体产生高频振荡来对晶圆表面进行清洗，对残留物有较强的清洗效果；利用升降机构调节装置与晶圆的相对高度，再利用喷头调节机构，使清洗喷头对准晶圆表面，使清洗喷头喷出的液体相对晶圆表面有最佳清洗角度。的液体相对晶圆表面有最佳清洗角度。的液体相对晶圆表面有最佳清洗角度。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆表面清洗装置


[0001]本技术涉及晶圆生产领域，特别涉及一种晶圆表面清洗装置。

技术介绍

[0002]本技术涉及晶圆生产领域，特别涉及一种晶圆表面清洗装置。

技术实现思路

[0003]本技术提供一种晶圆表面清洗装置，旨在解决现有清洗机构清洗效果差，无法适应晶圆各个角度结构的问题。
[0004]本技术提供一种晶圆表面清洗装置，包括升降机构、喷头调节机构、清洗喷头、高度调节杆、支撑杆，所述高度调节杆一端固定连接、其另一端连接升降机构，所述升降机构通过旋转来调节在高度调节杆上的高度，所述支撑杆横向连接在升降机构上，所述喷头调节机构设置在支撑杆上，所述清洗喷头连接在喷头调节机构上，根据晶圆的位置所述喷头调节机构调整清洗喷头的朝向对准晶圆表面。
[0005]作为本技术的进一步改进，所述喷头调节机构包括横向支架和角度支架，所述横向支架的上端在支撑杆上移动并通过紧固件固定在支撑杆上的任一位置，所述横向支架的下端连接角度支架，所述清洗喷头连接在角度支架上。
[0006]作为本技术的进一步改进，所述角度支架的顶端与横本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆表面清洗装置，其特征在于，包括升降机构、喷头调节机构、清洗喷头、高度调节杆、支撑杆，所述高度调节杆一端固定连接、其另一端连接升降机构，所述升降机构通过旋转来调节在高度调节杆上的高度，所述支撑杆横向连接在升降机构上，所述喷头调节机构设置在支撑杆上，所述清洗喷头连接在喷头调节机构上，根据晶圆的位置所述喷头调节机构调整清洗喷头的朝向对准晶圆表面。2.根据权利要求1所述的晶圆表面清洗装置，其特征在于，所述喷头调节机构包括横向支架和角度支架，所述横向支架的上端在支撑杆上移动并通过紧固件固定在支撑杆上的任一位置，所述横向支架的下端连接角度支架，所述清洗喷头连接在角度支架上。3.根据权利要求2所述的晶圆表面清洗装置，其特征在于，所述角度支...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄海荣，谢柏弘，何若飞，
申请(专利权)人：深圳远荣半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：