温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型涉及晶圆生产领域，特别涉及一种晶圆表面清洗装置。该装置包括升降机构、喷头调节机构、清洗喷头、高度调节杆、支撑杆，高度调节杆一端固定连接、其另一端连接升降机构，升降机构通过旋转来调节在高度调节杆上的高度，支撑杆横向连接在升降机构上，...
该专利属于深圳远荣半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳远荣半导体设备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。