一种交流镀膜电源中等离子体电弧的检测和控制电路制造技术

本实用新型专利技术公开了一种交流镀膜电源中等离子体电弧的检测和控制电路，包括交流镀膜电源、直流DC模块、交流AC斩波模块、逻辑控制模块和等离子腔体；所述直流DC模块、交流AC斩波模块和逻辑控制模块均设置于交流镀膜电源上，直流DC模块连接交流AC斩波模块；所述交流AC斩波模块连接等离子腔体，且交流AC斩波模块与等离子腔体的连接处设置有负载连接线。本实用新型专利技术在判定发生电弧后，电源立刻给出当时输出电压的反向电压，通过电源迅速的吸收中和此时电源内部和负载腔体内的电弧能量，最大限度的降低电弧对腔体内靶材和产品的影响，后续可更快的恢复功率输出，提高生产效率。提高生产效率。提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
一种交流镀膜电源中等离子体电弧的检测和控制电路


[0001]本技术涉及一种交流镀膜电源中等离子体电弧的检测和控制电路。

技术介绍

[0002]如图1所示，为电流弧的处理机制，t1时刻，电流弧发生；电流弧发生后，电源输出电流急剧升高，在t2时刻达到电流弧判定阈值，此时电源认为电弧产生，立刻关断电源，延时至t3时刻恢复输出。
[0003]由于等离子腔体和负载连接线等存在寄生电感和电容，这部分会存储一部分能量，电源关断输出后，该部分能量不会立刻消失，而是在负载上震荡一段时间，消耗在了负载上，这部分能量不是工艺所需要的，会对产品造成损伤，而且这部分的能量也需要一定时间才能消耗完，影响了生产效率。

技术实现思路

[0004]本技术所要解决的技术问题是提供一种交流镀膜电源中等离子体电弧的检测和控制电路，应用于交流镀膜电源等离子体辉光放电过程中出现的电弧进行检测和控制，降低电弧对溅射镀膜的影响。
[0005]本技术交流镀膜电源中等离子体电弧的检测和控制电路是通过以下技术方案来实现的：包括交流镀膜电源、直流DC模块、交流AC斩波模块、逻辑控制模块和等离子腔体；
[0006]直流DC模块、交流AC斩波模块和逻辑控制模块均设置于交流镀膜电源上，直流DC模块连接交流AC斩波模块；交流AC斩波模块连接等离子腔体，且交流AC斩波模块与等离子腔体的连接处设置有负载连接线。
[0007]作为优选的技术方案，交流AC斩波模块和等离子腔体的连接处与逻辑控制模块之间设置有电流导线，且电流导线上设置有输出电流采样，且输出电流采样连接；交流AC斩波模块和等离子腔体的连接处与逻辑控制模块之间设置有两电压导线，且电压导线之间并联有输出电压采样。
[0008]作为优选的技术方案，逻辑控制模块内设置有比较模块、时钟模块和驱动模块。
[0009]本技术的有益效果是：本技术在判定发生电弧后，电源立刻给出当时输出电压的反向电压，通过电源迅速的吸收中和此时电源内部和负载腔体内的电弧能量，最大限度的降低电弧对腔体内靶材和产品的影响，后续可更快的恢复功率输出，提高生产效率。
附图说明
[0010]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提
下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0011]图1为现有技术的电流弧阀值图；
[0012]图2为本技术的结构示意图。
[0013]图3为本技术的电流弧阀值图；
[0014]图4为本技术的实施例图。
具体实施方式
[0015]本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。
[0016]本说明书(包括任何附加权利要求、摘要和附图)中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。
[0017]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“一端”、“另一端”、“外侧”、“上”、“内侧”、“水平”、“同轴”、“中央”、“端部”、“长度”、“外端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0018]此外，在本技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
[0019]本技术使用的例如“上”、“上方”、“下”、“下方”等表示空间相对位置的术语是出于便于说明的目的来描述如附图中所示的一个单元或特征相对于另一个单元或特征的关系。空间相对位置的术语可以旨在包括设备在使用或工作中除了图中所示方位以外的不同方位。例如，如果将图中的设备翻转，则被描述为位于其他单元或特征“下方”或“之下”的单元将位于其他单元或特征“上方”。因此，示例性术语“下方”可以囊括上方和下方这两种方位。设备可以以其他方式被定向，并相应地解释本文使用的与空间相关的描述语。
[0020]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“套接”、“连接”、“贯穿”、“插接”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0021]如图2—图4所示，本技术的一种交流镀膜电源中等离子体电弧的检测和控制电路，包括交流镀膜电源1、直流DC模块2、交流AC斩波模块3、逻辑控制模块4和等离子腔体5；
[0022]直流DC模块2、交流AC斩波模块3和逻辑控制模块4均设置于交流镀膜电源1上，直流DC模块2连接交流AC斩波模块3；交流AC斩波模块3连接等离子腔体5，且交流AC斩波模块3与等离子腔体5的连接处设置有负载连接线8。
[0023]本实施例中，交流AC斩波模块3和等离子腔体5的连接处与逻辑控制模块4之间设置有电流导线，且电流导线上设置有输出电流采样6，且输出电流采样6连接；交流AC斩波模块3和等离子腔体5的连接处与逻辑控制模块4之间设置有两电压导线，且电压导线之间并
联有输出电压采样7。
[0024]本实施例中，逻辑控制模块4内设置有比较模块9、时钟模块10和驱动模块；比较模块9将电源输出电流和电压的采样值于设定的电压弧阈值和电流弧阈值；时钟模块10用于控制电源内部的时间。
[0025]电弧处理方式如图3所示，t1时刻，电流弧发生；电流弧发生后，电源输出电流急剧升高，在t2时刻达到电流弧判定阈值，此时电源认为电弧产生，此时电源立刻关断输出，并反向输出最高电压，在t3时刻，输出电流值为0，此时，电源彻底关断，在延时一段时间，在t4时刻，恢复输出
[0026]以上所述，仅为本技术的具体实施方式，但本技术的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本技术的保护范围之内。因此，本技术的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种交流镀膜电源中等离子体电弧的检测和控制电路，其特征在于：包括交流镀膜电源(1)、直流DC模块(2)、交流AC斩波模块(3)、逻辑控制模块(4)和等离子腔体(5)；所述直流DC模块(2)、交流AC斩波模块(3)和逻辑控制模块(4)均设置于交流镀膜电源(1)上，直流DC模块(2)连接交流AC斩波模块(3)；所述交流AC斩波模块(3)连接等离子腔体(5)，且交流AC斩波模块(3)与等离子腔体(5)的连接处设置有负载连接线(8)。2.根据权利要求1所述的交流镀膜电源中等离子体电弧的...

【专利技术属性】
技术研发人员：阚龙，
申请(专利权)人：上海硬石科技有限公司，
类型：新型
国别省市：