一种等离子体涂覆结构制造技术

本申请提供了一种等离子体涂覆结构，包括封闭的加工室，加工室内设有等离子体燃烧器，等离子体束从等离子体燃烧器射出；封闭室内位于等离子体燃烧器的下游设有安装有基材的基材底座，基材底座的一侧固定连接有滑块，滑块滑动设置于封闭室的侧壁上；封闭室的底部设有液压气缸，液压气缸的顶端连接有伸缩杆，伸缩杆的顶部与基材底座固定连接，以驱动基材底座上下移动，本实用新型专利技术等离子体涂覆结构，结构简单，通过在封闭室内设置液压气缸，并通过伸缩杆与基材底座连接，从而驱动基材底座上下移动，通过滑块与封闭室连接，基材底座带动基材上下移动，使等离子体束喷射过程中能均匀的涂覆在基材上，本实用新型专利技术成本低且操作简单便捷，实用性强。实用性强。实用性强。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体涂覆结构


[0001]本申请涉及等离子体涂覆
，特别是一种等离子体涂覆结构。

技术介绍

[0002]等离子体涂覆结构是用电弧将可产生等离子体的气体(如氩、氮和氢等气体)加热和电离，形成高温高速等离子体射流，使粉体或丝材熔化和雾化，并高速喷射到基材表面。
[0003]在等离子体喷射中常见的是，通过过程气体的加热来产生等离子体束，涂覆所需要的材料大多以粉末形态或者也可以流体形态亦即作为气体或液体被加入等离子体束中，基材往往是固定放置于等离子体燃烧器的对侧，因此喷涂时经常出现涂覆不均匀等现象。
[0004]并且运动经过被抽真空的加工室的等离子体束在等离子体燃烧器喷嘴区域中导致抽吸作用。如果针对于反应性过程将气体或液体加入等离子体束中，则可以通过流体变态在等离子体束中产生粉末粒子或颗粒。这可能造成颗粒尤其在等离子体束的边缘被转向，又向喷嘴返回移动，然后通过抽吸作用又被吸入等离子体束中。这样“再循环”的未被熔化或未充分塑化的颗粒或粉末粒子往往造成对在基材上产生的涂层的不希望有的干扰。

技术实现思路

[0005]鉴于所述问题，提出了本申请以便提供克服所述问题或者至少部分地解决所述问题的一种等离子体涂覆结构，包括：
[0006]封闭的加工室，所述加工室内设有用于通过加热过程气体来产生等离子体束的等离子体燃烧器，所述等离子体束从所述等离子体燃烧器射出，并沿所述加工室的纵轴线延伸；
[0007]所述封闭室内位于所述等离子体燃烧器的下游设有安装有基材的基材底座，所述基材底座的一侧固定连接有滑块，所述滑块滑动设置于所述封闭室的侧壁上；
[0008]所述封闭室的底部设有液压气缸，所述液压气缸的顶端连接有伸缩杆，所述伸缩杆的顶部与所述基材底座固定连接，以驱动所述基材底座上下移动。
[0009]进一步地，所述等离子体燃烧器的下游紧邻所述等离子体燃烧器设有限界装置，所述限界装置沿纵轴线延伸，保护等离子体束免受侧向颗粒的侵入。
[0010]进一步地，所述限界装置延伸至与所述基材底座之间的距离至少80％。
[0011]进一步地，所述限界装置呈圆管状。
[0012]进一步地，所述限界装置由金属材料制成。
[0013]进一步地，所述封闭室呈阶梯状，并且其内径沿所述等离子体束的流动方向递增。
[0014]进一步地，所述封闭室内径较小一端的长度大于内径较大一端的长度。
[0015]进一步地，所述滑块的数量为两个，分别设置于所述基材底座一侧的上下两端。
[0016]本申请具有以下优点：
[0017]在本申请的实施例中，通过封闭的加工室，所述加工室内设有用于通过加热过程气体来产生等离子体束的等离子体燃烧器，所述等离子体束从所述等离子体燃烧器射出，
并沿所述加工室的纵轴线延伸；所述封闭室内位于所述等离子体燃烧器的下游设有安装有基材的基材底座，所述基材底座的一侧固定连接有滑块，所述滑块滑动设置于所述封闭室的侧壁上；所述封闭室的底部设有液压气缸，所述液压气缸的顶端连接有伸缩杆，所述伸缩杆的顶部与所述基材底座固定连接，以驱动所述基材底座上下移动。本技术等离子体涂覆结构，结构简单，通过在封闭室内设置液压气缸，并通过伸缩杆与基材底座连接，从而驱动基材底座上下移动，通过滑块与封闭室连接，基材底座带动基材上下移动，使等离子体束喷射过程中能均匀的涂覆在基材上，本技术成本低且操作简单便捷，实用性强。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本申请的技术方案，下面将对本申请的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1是本申请一实施例提供的一种等离子体涂覆结构的结构示意图。
[0020]1、加工室；2、等离子体燃烧器；3、等离子体束；4、基材；5、基材底座；6、滑块；7、液压气缸；8、伸缩杆；9、限界装置。
具体实施方式
[0021]为使本申请的所述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本申请作进一步详细的说明。显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0022]参照图1，示出了本申请一实施例提供的一种等离子体涂覆结构的结构示意图；具体地，所述等离子体涂覆结构可以包括：
[0023]封闭的加工室1，所述加工室1内设有用于通过加热过程气体来产生等离子体束3的等离子体燃烧器2，所述等离子体束3从所述等离子体燃烧器2射出，并沿所述加工室1的纵轴线延伸；
[0024]所述封闭室1内位于所述等离子体燃烧器2的下游设有安装有基材4的基材底座5，所述基材底座5的一侧固定连接有滑块6，所述滑块6滑动设置于所述封闭室1的侧壁上；
[0025]所述封闭室1的底部设有液压气缸7，所述液压气缸7的顶端连接有伸缩杆8，所述伸缩杆8的顶部与所述基材底座5固定连接，以驱动所述基材底座5上下移动。
[0026]在本申请的实施例中，通过在封闭室内设置液压气缸7，并通过伸缩杆8与基材底座5连接，从而驱动基材底座5上下移动，通过滑块6与封闭室1连接，基材底座5带动基材4上下移动，使等离子体束3喷射过程中能均匀的涂覆在基材4上，本技术成本低且操作简单便捷，实用性强。
[0027]下面，将对本示例性实施例中等离子体涂覆结构作进一步地说明。
[0028]参照图1，所述等离子体燃烧器2的下游紧邻所述等离子体燃烧器2设有限界装置9，所述限界装置9沿纵轴线延伸，保护等离子体束免受侧向颗粒的侵入；该限界装置9相对于比较冷的平静的即基本无流动的真空界定了快速的热等离子体束3，由此防止颗粒以不
期望的方式从侧面由真空区被吸入热等离子体束。“侧向”或者说“从侧面”在此系指相对于纵轴线A倾斜或垂直。
[0029]在本实施例中，所述限界装置9延伸至与所述基材底座5之间的距离至少80％。通过该措施，等离子体束3基本上在其从等离子体燃烧器2至基材4的整个长度范围受到防污染保护。
[0030]作为一种示例，所述限界装置9呈圆管状，并且该限界装置9由金属材料制成。
[0031]进一步地，为了更好的执行反应性过程，并且将材料涂覆至基材4上，所述封闭室1内径较小一端的长度大于内径较大一端的长度。
[0032]进一步地，为了方便滑动，所述滑块6的数量为两个，分别设置于所述基材底座一侧的上下两端。
[0033]最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子体涂覆结构，包括封闭的加工室，其特征在于，所述加工室内设有用于通过加热过程气体来产生等离子体束的等离子体燃烧器，所述等离子体束从所述等离子体燃烧器射出，并沿所述加工室的纵轴线延伸；所述封闭的加工室内位于所述等离子体燃烧器的下游设有安装有基材的基材底座，所述基材底座的一侧固定连接有滑块，所述滑块滑动设置于所述封闭的加工室的侧壁上；所述封闭的加工室的底部设有液压气缸，所述液压气缸的顶端连接有伸缩杆，所述伸缩杆的顶部与所述基材底座固定连接，以驱动所述基材底座上下移动。2.根据权利要求1所述的等离子体涂覆结构，其特征在于，所述等离子体燃烧器的下游紧邻所述等离子体燃烧器设有限界装置，所述限界装置沿纵轴线延伸，保护等离子体束免受侧...

【专利技术属性】
技术研发人员：盛伟军，陈江飞，王勇，
申请(专利权)人：东莞景丰塑胶制品有限公司，
类型：新型
国别省市：