旋转式石英管清洗干燥装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了旋转式石英管清洗干燥装置，包括底座，设置于底座内并箍持石英管的唇口的承载台，与承载台活动扣合以整体遮蔽石英管的清洗帽，驱动清洗帽作轴向转动的第一驱动装置，整体驱动清洗帽与第一驱动装置沿竖直方向作升降运动的第二驱动装置，与承载台呈竖直设置并贯穿承载台的内喷管，以及驱动内喷管作轴向转动的第三驱动装置；清洗帽的内壁面设置侧向连续间隔布置的若干第一喷嘴，内喷管设置竖直延伸入石英管内部的若干第二喷嘴，当清洗帽与承载台呈扣合状态以整体遮蔽石英管时，清洗帽被第一驱动装置驱动以执行轴向转动。本发明专利技术避免了石英管晃动及清洗干燥过程中对石英管的内外壁面造成划伤问题，并具有更好的清洗效果。果。果。

【技术实现步骤摘要】
旋转式石英管清洗干燥装置


[0001]本专利技术涉及半导体设备耗材清洗设备
，尤其涉及一种旋转式石英管清洗干燥装置。

技术介绍

[0002]石英管是半导体器件制造设备(例如化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、扩散设备(Diff)或者成膜设备(T/F)等)中普遍使用的半导体设备耗材。石英管在前述半导体设备中使用一段时间后其内壁面会残留大量脏污、金属杂质或者固体颗粒；由于石英管造价昂贵，因此通常在被彻底清洗后予以重复使用，以降低半导体器件的制造成本。
[0003]公开号为CN101181711A的中国专利技术专利公开了一种自动立式石英管清洗机及其清洗工艺。该现有技术在清洗过程中需要将支架对石英管起到收容引导作用，以防止石英管在旋转过程中发生倾斜。申请人指出该现有技术在清洗过程中支架会对石英管的外壁面造成划伤及损伤。同时，前述现有技术中石英管的开口朝上设置，由此导致清洗液在清洗过程中会注满整个石英管，这不仅增加了对石英管执行旋转的驱动机构的电力开销，还导致了石英管以竖直姿态转动时的不稳定性现象。此外，在该现有技术中，由于清洗液需要注满整个石英管，因此清洗剂对石英管的内壁面无非实现冲刷，从而存在对石英管的内壁面的清洗效果不佳的缺陷。
[0004]有鉴于此，需要对现有技术中对石英管，尤其是一端具敞口的钟罩式石英管同时执行清洗与干燥处理的装置予以改进。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于揭示一种旋转式石英管清洗干燥装置，用以解决现有技术中对石英管执行清洗与干燥过程中由于转动所导致的晃动的技术问题，并避免在清洗与干燥处理过程中对石英管的内外壁面造成划伤，节约清洗剂及干燥用气体的使用量及能源消耗，减低对石英管执行清洗与干燥的使用成本。
[0006]为实现上述专利技术目的，本专利技术提供了一种旋转式石英管清洗干燥装置，包括：
[0007]底座，设置于底座内并箍持石英管的唇口的承载台，与承载台活动扣合以整体遮蔽石英管的清洗帽，驱动清洗帽作轴向转动的第一驱动装置，整体驱动清洗帽与第一驱动装置沿竖直方向作升降运动的第二驱动装置，与所述承载台呈竖直设置并贯穿承载台的内喷管，以及驱动所述内喷管作轴向转动的第三驱动装置；
[0008]所述清洗帽的内壁面设置侧向连续间隔布置的若干第一喷嘴，所述内喷管设置竖直延伸入石英管内部的若干第二喷嘴，当清洗帽与承载台呈扣合状态以整体遮蔽石英管时，所述清洗帽被第一驱动装置驱动以执行轴向转动。
[0009]作为本专利技术的进一步改进，清洗帽与承载台呈扣合状态时，所述清洗帽与内喷管保持同步同向转动，以分别通过第一喷嘴与第二喷嘴形成的喷射束流对石英管的外壁面与内壁面执行清洗处理和/或干燥处理。
[0010]作为本专利技术的进一步改进，所述承载台的外侧边缘形成部分收容清洗帽的底部的环槽，当清洗帽与承载台呈扣合状态时，清洗帽的底部与环槽沿竖直方向分离，以形成供喷射束流外泄且环形设置的第一泄压通道。
[0011]作为本专利技术的进一步改进，所述承载台沿竖直方向向上形成至少两层直径渐缩且逐级升高布置的定位凸台，所述定位凸台径向向外向下凹陷，以形成供喷射束流外泄且径向设置的第二泄压通道。
[0012]作为本专利技术的进一步改进，所述清洗帽包括：帽体，设置于帽体外侧的至少一个分流管，以及连通分流管并与帽体呈一体式结构的供应管，所述分流管连接设置于清洗帽的内壁面的若干第一喷嘴。
[0013]作为本专利技术的进一步改进，还包括：设置于所述清洗帽顶部的旋转平台，设置于旋转平台下方的定滑环与动滑环，所述定滑环与动滑环之间设置滑片；所述供应管竖直贯穿定滑环及滑片，并与动滑环形成一整体结构，动滑环连接清洗帽，所述第二驱动装置设置沿竖直方向连接所述旋转平台的吊臂；所述供应管沿竖直方向向上贯穿所述旋转平台与吊臂，并在所述第一驱动装置的驱动下转动，以整体驱动清洗帽作轴向转动。
[0014]作为本专利技术的进一步改进，还包括：嵌设于所述底座的密封离合装置，所述内喷管沿竖直方向连续贯穿承载台与密封离合装置，所述内喷管的末端及侧部设置若干第二喷嘴，以通过所述第二喷嘴喷射形成与石英管的内部腔体适配的圆柱状的喷射束流。
[0015]作为本专利技术的进一步改进，所述底座包括：底板，自底板环形布置并向上设置的内环壁，所述内环壁径向向外且水平延伸形成底壁，所述底壁的外侧形成垂直环形围合所述底壁的外环壁，所述底板向上凸设一圆台，所述密封离合装置沿竖直方向贯穿承载台与圆台。
[0016]作为本专利技术的进一步改进，所述密封离合装置包括：同轴纵向布置的轴承座，承托所述承载台的转接筒及隔水环，所述转接筒竖直向下贯穿过所述圆台并压持隔水环，所述承载台上方并围合所述内喷管的径向内侧设置被所述轴承座压持的第一密封圈，所述承载台下方的径向内侧嵌设围合所述内喷管的第二密封圈，所述第二密封圈沿竖直方向被承载台与转接筒所夹持，所述轴承座固定设置于所述承载台上方，以限制所述内喷管沿竖直方向发生位移。
[0017]作为本专利技术的进一步改进，还包括：连接第一喷嘴与第二喷嘴的切换装置，所述切换装置连接清洗液储存装置及气源，以通过所述切换装置控制所述第一喷嘴与第二喷嘴喷射由清洗液和/或气体所形成的喷射束流。
[0018]作为本专利技术的进一步改进，还包括：自上而下平行布置的盖板、顶部安装板、上安装板与下安装板；所述第二驱动装置竖直贯穿顶部安装板，并通过定位架固定于所述盖板；所述底座嵌入设置于所述上安装板，所述底座下方设置承托底座的支架，所述第三驱动装置安装于所述下安装板。
[0019]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0020]首先，在本专利技术中，石英管在执行清洗与干燥处理过程中，被承载台所承载并保持静止，通过清洗帽与内喷管执行同步同向转动，以分别通过第一喷嘴与第二喷嘴形成的喷射束流对石英管的外壁面与内壁面执行清洗处理和/或干燥处理，有效地避免了石英管的晃动问题，并避免了在清洗与干燥处理过程中对石英管的内外壁面造成划伤；
[0021]其次，由于清洗帽与承载台扣合后整体遮蔽石英管后执行清洗与干燥处理，使得第一喷嘴与第二喷嘴形成的喷射束流集中在较小的空间区域中，从而节约了清洗剂及干燥用气体的使用量及能源消耗，减低了对石英管执行清洗与干燥的使用成本，并能够使得喷射束流对石英管的内外壁面具有更好的冲刷效果。
附图说明
[0022]图1为本专利技术旋转式石英管清洗干燥装置中清洗帽上升至最高点状态的立体图；
[0023]图2为本专利技术旋转式石英管清洗干燥装置中清洗帽下降至最低点状态的立体图；
[0024]图3为本专利技术旋转式石英管清洗干燥装置的主视图；
[0025]图4为清洗帽上升至最高点状态时沿图3中A
‑
A向的局部剖视图；
[0026]图5为清洗帽下降至最低点状态时沿图3中A
‑
A向的局部剖视图；
[0027]图6为图4中箭头B所指虚线框的局部放大图；
[0028]图7为清洗帽下降至最低点并与承载台扣合状态的剖本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.旋转式石英管清洗干燥装置，其特征在于，包括：底座，设置于底座内并箍持石英管的唇口的承载台，与承载台活动扣合以整体遮蔽石英管的清洗帽，驱动清洗帽作轴向转动的第一驱动装置，整体驱动清洗帽与第一驱动装置沿竖直方向作升降运动的第二驱动装置，与所述承载台呈竖直设置并贯穿承载台的内喷管，以及驱动所述内喷管作轴向转动的第三驱动装置；所述清洗帽的内壁面设置侧向连续间隔布置的若干第一喷嘴，所述内喷管设置竖直延伸入石英管内部的若干第二喷嘴，当清洗帽与承载台呈扣合状态以整体遮蔽石英管时，所述清洗帽被第一驱动装置驱动以执行轴向转动。2.根据权利要求1所述的旋转式石英管清洗干燥装置，其特征在于，清洗帽与承载台呈扣合状态时，所述清洗帽与内喷管保持同步同向转动，以分别通过第一喷嘴与第二喷嘴形成的喷射束流对石英管的外壁面与内壁面执行清洗处理和/或干燥处理。3.根据权利要求2所述的旋转式石英管清洗干燥装置，其特征在于，所述承载台的外侧边缘形成部分收容清洗帽的底部的环槽，当清洗帽与承载台呈扣合状态时，清洗帽的底部与环槽沿竖直方向分离，以形成供喷射束流外泄且环形设置的第一泄压通道。4.根据权利要求2所述的旋转式石英管清洗干燥装置，其特征在于，所述承载台沿竖直方向向上形成至少两层直径渐缩且逐级升高布置的定位凸台，所述定位凸台径向向外向下凹陷，以形成供喷射束流外泄且径向设置的第二泄压通道。5.根据权利要求1所述的旋转式石英管清洗干燥装置，其特征在于，所述清洗帽包括：帽体，设置于帽体外侧的至少一个分流管，以及连通分流管并与帽体呈一体式结构的供应管，所述分流管连接设置于清洗帽的内壁面的若干第一喷嘴。6.根据权利要求5所述的旋转式石英管清洗干燥装置，其特征在于，还包括：设置于所述清洗帽顶部的旋转平台，设置于旋转平台下方的定滑环与动滑环，所述定滑环与动滑环之间设置滑片；所述供应管竖直贯穿定滑环及滑片，并与动滑环形成一整体结构，动滑环连接清洗帽，所述第二驱动装置设置沿竖直方向...

【专利技术属性】
技术研发人员：华斌，刘国强，李文轩，
申请(专利权)人：智程半导体设备科技昆山有限公司，
类型：发明
国别省市：