使用光微影罩幕降低印制于基板上影像的不一致性及影像缩短的方法及光微影罩幕技术

本发明专利技术涉及用光微影罩幕降低印制于基板上影像的不一致性及影像缩短的方法及光微影罩幕。不一致性及影像缩短于使用一光微影罩幕而印制于一基板上的一影像中实质地被降低，其中罩幕图案系包括相邻于一干净区域的至少一线与空间数组。至少一线特征被并入该罩幕图案的该干净区域之内，并且配置于接近该线与空间数组的位置，该线特征具有小于该光学投影系统的一最小分辨率的一线宽度，而该影像系通过使用该光学投影系统照射该光微影罩幕并投射已传输通过该光微影罩幕的光至该基板之上而加以印制。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及关于光微影制程以及罩幕，例如用于半导体装置的制造，并且，更特别相关于在一基板上印制次微米尺寸特征的光微影制程及罩幕。
技术介绍
在现有的光学光微影制程中，具有将被印制于一基板上的各式图案的一光微影罩幕通过一光源而加以照射，该光透过在该罩幕中的开口而加以传输，并典型地以一预定的缩小率，而通过将罩幕图案映像至位于影像投影平面上的一晶片或其它基板上的投影透镜而加以收集。所聚焦的影像系会暴露已事先覆盖于该晶片上的一或多个光阻层，然后，该已暴露的光阻接着利用一显影剂溶液而加以显影，而该显影剂于使用一正光阻时，移除该光阻层已暴露的部分，并于使用一负光阻时，移除该光阻未暴露的部分，结果，该罩幕图案会原原本本地被传输至该光阻之上，而可被使用于接续的蚀刻或掺杂步骤。当引入新一代的较密集及/或较快速的装置时，则较小的尺寸特征即必须被印制于该晶片之表面，延伸光学光微影的限制。而于通常会降低对已印制特征的线宽(critical dimension)的控制的非线型行为(non-linearbehavior)区域中操作时，该光学光微影系统及光阻乃系为需要，再者，当特征尺寸接近或变得小于用于照射本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种使用一光微影罩幕以实质降低印制于一基板上的一影像中的不一致性及影像缩短的方法，其中该光微影罩幕具有包括相邻于至少一干净区域的至少一线与空间数组的一罩幕图案，而该影像通过使用一光学投影系统照射该光微影罩幕并投射已传输通过该光微影罩幕的光至该基板之上而加以印制，该方法包括下列步骤：将至少一线特征并入该罩幕图案的该干净区域之内，其中该线特征被配置于接近该线与空间数组的位置，并具有小于该光学投影系统的一最小分辨率的一线宽度。

【技术特征摘要】
US 2003-4-29 10/4258171.一种使用一光微影罩幕以实质降低印制于一基板上的一影像中的不一致性及影像缩短的方法，其中该光微影罩幕具有包括相邻于至少一干净区域的至少一线与空间数组的一罩幕图案，而该影像通过使用一光学投影系统照射该光微影罩幕并投射已传输通过该光微影罩幕的光至该基板之上而加以印制，该方法包括下列步骤将至少一线特征并入该罩幕图案的该干净区域之内，其中该线特征被配置于接近该线与空间数组的位置，并具有小于该光学投影系统的一最小分辨率的一线宽度。2.根据权利要求1所述的方法，其中相邻的该线与空间数组具有错开的端部。3.根据权利要求1所述的方法，其中该线特征被配置为平行于该线与空间数组的线。4.根据权利要求1所述的方法，其中该线特征被配置在该线与空间数组的线的一垂直方向。5.根据权利要求1所述的方法，其中该罩幕图案的该干净区域包括一不透明区域中之一开口，一部份穿透区域，以及一相移区域的至少其中之一。6.根据权利要求1所述的方法，其中该并入步骤包括并入多个彼此平行排列的该线特征。7.根据权利要求6所述的方法，其中该多个线特征被排列在至少具有一2μm宽度的区域之内。8.一种使用一光学投影系统而于一基板上印制一特征的方法，该方法系包括下列步骤使用一光源照射一光微影罩幕，其中该光微影罩幕具有包括相邻于至少一干净区域的至少一线与空间数组的一罩幕图案，并具有配置于该干净区域中的一线特征，该线特征接近该线与空间数组，并具有小于该光学投影系统的一最小分辨率的一线宽度；以及使用该光学投影系统将已传输通过该光微影罩幕的光投影至该基板之上。9.根据权利要求8所述的方法，其中该线与空间数组包括具有错开的端部的线。10.根据权利要求8所述的方法，其中该线特征被配置为平行于该线与空间数组的线。11.根据权利要求8所述的方法，其中该线特征被配置在该线与空间数组的线的一垂直方向。12.根据权利要求8所述的方法，其中该罩幕图案的该干净区域包括一不透明区域中之一开口，一部份穿透区域，以及一相移区域的至少其中之一。13.根据权利要求8所述的方法，其中还包括将多个各该线特征排列为彼此平行。14.根据权利要求13所述的方法，其中该多个线特征被排列在至少具有一2μm宽度的区域之内。15.一种形成用于一光学投影系统的一光微影罩幕的方法，该方法包括下列步骤提供一罩幕图案，其包括相邻于至少一干净区域的至少一线与空间数组；以及将至少一线特征并入该罩幕图案的该干净区域之内，而该线特征被配置为接近该线与空间数组，并具有小于该光学投影系统的一最小分辨率的一线宽度。16.根据权利要求15所述的方法，其中相邻的该线与空间数组具有错开的端部。17.根据权利要求15所述的方法，其中该线特征被配置为平行于该线与空间数组的线。18.根据权利要求15所述的方法，其中该线特征被配置在该线与空间数组的线的一垂直方向。19.根据权利要求15所述的方法，其中该罩幕图案的该干净区域包括一不透明区域中之一开口，一部份穿透区域，以及一相移区域的至少其中之一。20.根据权利要求15所述的方法，其中该并入步骤还包括并入多个彼此平行排列的该线特征。21.根据权利要求20所述的方法，其中该多个线特征被排列在至少具有一2μm宽度的区域之内。22.一种用于一光学投影系统的光微影罩幕，该光微影罩幕包括一罩幕图案，其系包括相邻于至少一干净区域的至少一线与空间数组；以及至少一线特征，其系被配置于该罩幕图案的该干净区域之内，且该线特征被配置为接近该线与空间数组，并具有小于该光学投影系统的一最小分辨率的一线宽度。23.根据权利要求22所述的光微影罩幕，其中相邻的该线与空间数组系具有错开的端部。24.根据权利要求22所述的光微影罩幕，其中该线特征被配置为平行于该线与空间数组的线。25.根据权利要求22所述的光微影罩幕，其中该线特征被配置在该线与空间数组的线的一垂直方向。26.根据权利要求22所述的光微影罩幕，其中该干净区域包括该罩幕之一不透明区域中之一开口，一部份穿透区域，以及一相移区域的至少其中之一。27.根据权利要求22所述的光微影罩幕，其中还包括多个彼此平行排列的该线特征。28.根据权利要求27所述的光微影罩幕，其中该多个线特征被排列在至少具有一2μm宽度的区域之内。29.一种使用一光微影罩幕以实质降低印制于一基板上之一影像中的不一致性及影像缩短的方法，其中该光微影...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴忠希，P斯佩诺，TA布伦纳，S布特，
申请(专利权)人：因芬尼昂技术股份公司，国际商业机器公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]