用于外延沉积的反应器及其加热方法技术

本申请涉及一种用于外延沉积的反应器(1)及其加热方法。反应器(1)包括承受器(2)和感应器(4)；感应器(4)适于在其被通电时通过电磁感应加热承受器(2)；感应器(4)包括多个匝(41

【技术实现步骤摘要】
用于外延沉积的反应器及其加热方法
[0001]本申请是申请日为2017年10月30日，申请号为201780067269.3，专利技术名称为“用于外延沉积的反应器的加热方法和用于外延沉积的反应器”的申请的分案申请。
专利

[0002]本专利技术涉及用于外延沉积的反应器的加热方法和用于外延沉积的反应器。
现有技术
[0003]任何外延反应器都包括加热系统以加热待外延生长的基底。
[0004]外延沉积工艺的阶段之前是加热阶段，之后是冷却阶段。
[0005]例如，加热可以是电磁感应类型的加热。
[0006]通常，在这种情况下，加热系统直接加热承受器(其位于外延反应器的反应室内)，并且基底通过来自承受器(其支撑基底)的传导接收热量。
[0007]在这种情况下，加热系统总是包括至少一个感应器。
[0008]过去，本申请人提供了这种感应器的一匝或更多匝是可移动的可能性:专利文件WO9610659A2。
[0009]根据这个解决方案，感应器包括多个刚性圆圈，这些刚性圆圈通过柔性桥电连接和机械连接；单个圆圈借助于单个电动机和安装在电机轴上的单个平移致动器来移动；由所述致动器引起的变形完全由柔性桥承担。
[0010]在开始加热操作之前，并且因此在开始外延沉积之前，匝被定位在期望的位置；这种定位是反应器初始设置的操作之一。
[0011]从公开号为US2010059182、JP2003133245和KR100978567的专利文件中也可以知道这种解决方案。
[0012]用于外延反应器的加热系统的主要目标是在加工期间获得基底的均匀温度。
[0013]用于外延反应器的加热系统的第二目标是在短时间内达到工艺温度。
[0014]根据从公开号为JP2003133245的专利文件中已知的解决方案，在外延沉积工艺之前使整个感应器靠近承受器，以更快地加热承受器，并且在外延沉积工艺之后将整个感应器从承受器移开以更快地冷却承受器。
[0015]概述
[0016]申请人已经通过其进行的实验认识到，不仅在工艺期间，而且还在加热期间，或者更确切地说，在外延沉积工艺之前的加热期间的一个瞬间接一个瞬间，基底的温度均匀是非常有利的；例如，这种优势可以与减少热应力和缺陷，特别是“滑移线(slip lines)”联系在一起。
[0017]然后，申请人为自己设定了一个目标，即提供一种解决方案，使得可以在加热期间和随后的外延沉积期间获得基底的均匀温度。
[0018]申请人还为自己设定了一个目标，即提供一种解决方案，使得可以在短时间内达到工艺温度。
[0019]最后，申请人为自己设定了一个目标，即提供一种不仅有效而且简单的解决方案。
[0020]这些目标基本上是借助于用于外延反应器的加热方法和反应器来实现的，该方法和反应器具有下述项目中所阐明的技术特征。
[0021]本申请提供了以下项目：
[0022]1.一种用于外延沉积的反应器的加热方法，
[0023]其中所述反应器包括承受器和感应器；
[0024]其中所述感应器适于在通电时通过电磁感应加热所述承受器；
[0025]其中所述感应器包括多个匝；
[0026]其中，在外延沉积工艺之前，在所述承受器从第一温度加热到第二温度期间，改变所述感应器的至少一个第一匝相对于所述承受器和相对于所述感应器的其他匝的位置。
[0027]2.根据项目1所述的加热方法，其中，在外延沉积工艺之前，在所述承受器从第一温度加热到第二温度期间，改变所述感应器的至少一个第二匝相对于所述承受器和相对于所述感应器的其他匝的位置。
[0028]3.根据项目1或2所述的加热方法，其中，在外延沉积工艺之前，在所述承受器从所述第一温度加热到所述第二温度期间，重复地改变所述至少一个匝和/或所述至少一个第二匝的位置。
[0029]4.根据前述项目中任一项所述的加热方法，其中，在外延沉积工艺之前，在所述承受器从第一温度加热到第二温度期间，借助于“开环控制”改变所述至少一个匝和/或所述至少一个第二匝的位置。
[0030]5.根据前述项目中任一项所述的加热方法，其中，在外延沉积工艺之前，在所述承受器从第一温度加热到第二温度期间，借助于“开环控制”对所述感应器通电。
[0031]6.根据前述项目中任一项所述的加热方法，其中，在外延沉积工艺期间，不改变所述感应器的匝中的任何一个匝的位置。
[0032]7.根据前述项目中任一项所述的加热方法，其中，在外延沉积工艺期间，借助于“开环控制”对所述感应器通电。
[0033]8.根据前述项目中任一项所述的加热方法，其中，所述第一温度对应于外延沉积工艺的加载温度，和/或其中所述第二温度对应于外延沉积工艺的工艺温度。
[0034]9.根据项目8所述的加热方法，其中，在所述第一温度和所述第二温度之间的至少一个温度间隔中，不改变所述感应器的匝中的任何一个匝的位置。
[0035]10.一种用于外延沉积的反应器，包括：至少一个承受器，其具有盘状部分，所述承受器适于直接或间接支撑一个或更多个基底；以及感应器，其具有匝，所述感应器适于加热所述盘状部分并通过改变所述匝的位置来受到控制，
[0036]特征在于，所述反应器包括：
[0037]‑
第一电机，其适于由于其运动而改变所述感应器的至少一个第一匝的位置，
[0038]‑
第一多个平移致动器，其适于作用在所述至少一个第一匝的相应多个点(图3)上并引起所述至少一个第一匝的平移，以及
[0039]‑
第一传动装置，其适于将所述第一电机的运动传递给所述第一多个致动器。
[0040]11.根据项目10所述的用于外延沉积的反应器，包括：
[0041]‑
第二电机，其适于由于其运动而改变所述感应器的至少一个第二匝的位置，
[0042]‑
第二多个平移致动器，其适于作用在所述至少一个第二匝的相应多个点(图3)上并引起所述至少一个第二匝的平移，以及
[0043]‑
第二传动装置，其适于将所述第二电机的运动传递给所述第二多个致动器。
[0044]12.根据项目10和/或11所述的用于外延沉积的反应器，其中所述第一传动装置和/或所述第二传动装置包括一条和/或两条带或链。
[0045]13.根据项目10或11或12所述的用于外延沉积的反应器，其中所述感应器包括呈单个弹性机械件的连续导体。
[0046]14.根据项目10至13中任一项所述的用于外延沉积的反应器，包括用于检测所述致动器的旋转的电位计。
[0047]15.一种用于外延沉积的反应器，包括特别适于实施根据项目1至9中任一项所述的加热方法的装置，并且优选地包括至少一个电机、至少一个多个致动器和至少一个传动装置。
[0048]附图列表
[0049]从下面结合附图考虑的详细定义中，本专利技术将变得更加显而易见，其中：本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于外延沉积的反应器(1)，包括：至少一个承受器(2)，其具有盘状部分，所述承受器(2)适于直接或间接支撑一个或更多个基底(100)；以及感应器(4)，其具有匝(41
‑
47)，所述感应器(4)适于加热所述盘状部分(2)并通过改变所述匝(41
‑
47)的位置来受到控制，特征在于，所述反应器包括：
‑
第一电机(61)，其适于由于其运动而改变所述感应器(4)的至少一个第一匝(43)的位置，
‑
第一多个平移致动器(62)，其适于作用在所述至少一个第一匝(43)的相应多个点上并引起所述至少一个第一匝(43)的平移，以及
‑
第一传动装置(63)，其适于将所述第一电机(61)的运动传递给所述第一多个平移致动器(62)。2.根据权利要求1所述的用...

【专利技术属性】
技术研发人员：温森佐，
申请(专利权)人：洛佩诗公司，
类型：发明
国别省市：