彩色影像感测装置及其制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种彩色影像感测装置及其制造方法。首先，提供一基板，包括一感测像素阵列于基板的主要区域，一接触垫于基板的外围区域上。形成一保护层于基底上，覆盖感测像素阵列与接触垫。形成一第一平坦层于保护层上。形成一彩色滤光层于第一平坦层上，对应该感测像素阵列区域。形成一第二平坦层于第一平坦层上，覆盖彩色滤光层。定义一第一开口于第二平坦层中，显露出第一平坦层，第一开口位于相对应接触垫的位置，以及施以干蚀刻工艺，以形成一第二开口于第一平坦层与保护层中，显露出接触垫。如此，接触垫开口于彩色滤光层之后形成，因此可避免接触垫表面腐蚀并且可克服现有技术光致抗蚀剂涂布不均的问题。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种彩色影像感测装置的制造方法，特别是涉及一种保护接触垫及避免彩色滤光膜不均的彩色影像感测装置的制造方法。
技术介绍
彩色影像感测装置芯片通常包括感测像素阵列于芯片的主要区域，多个接触垫于该芯片的外围区域上。就传统工艺而言，先于晶片厂内完成感测像素阵列及接触垫部分的前段工艺，再进行彩色滤光膜的制作。图1显示传统的彩色影像感测装置芯片1通常包括感测像素阵列12于芯片1的主要区域，多个接触垫13于该芯片1的外围区域上。在完成前段工艺之前，会在感测像素阵列及接触垫形成一保护层，并于接触垫13处形成开口供后续电连接及测试用。然而，上述开口会造成保护层的断差，致使后续工艺中，彩色滤光层涂布不均，发生旋布后留下的条状缺陷15，称彩色条纹(yellow strip)。甚至，在显影红(R)、绿(G)、蓝(B)各颜色的彩色滤光层的过程中，具强碱性的显影液会使得裸露的接触垫表面氧化或腐蚀，造成后续工艺的问题。美国专利第6,344,369号Huang等人提供一种彩色影像感测装置的的制造方法，能保护接触垫于显影过程中受到显影液坏。图2A-2E显示美国专利第6,344,369号所揭示沿图1的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩色影像感测元件的制造方法，包括下列步骤：提供一基板，包括一感测像素阵列于该基板的主要区域，一接触垫于该基板的外围区域上；形成一保护层于该基底上，覆盖该感测像素阵列与该接触垫；形成一第一平坦层于该保护层上；　 　形成一彩色滤光层于该第一平坦层上，对应该感测像素阵列区域；形成一第二平坦层于该第一平坦层上，覆盖该彩色滤光层；定义一第一开口于该第二平坦层中，显露出该第一平坦层，该第一开口位于相对应该接触垫的位置；以及沿该第一开口 干蚀刻该第一平坦层，以形成一第二开口于该第一平坦层与该保护层中，显露...

【技术特征摘要】
1.一种彩色影像感测元件的制造方法，包括下列步骤提供一基板，包括一感测像素阵列于该基板的主要区域，一接触垫于该基板的外围区域上；形成一保护层于该基底上，覆盖该感测像素阵列与该接触垫；形成一第一平坦层于该保护层上；形成一彩色滤光层于该第一平坦层上，对应该感测像素阵列区域；形成一第二平坦层于该第一平坦层上，覆盖该彩色滤光层；定义一第一开口于该第二平坦层中，显露出该第一平坦层，该第一开口位于相对应该接触垫的位置；以及沿该第一开口干蚀刻该第一平坦层，以形成一第二开口于该第一平坦层与该保护层中，显露出该接触垫。2.如权利要求1所述的彩色影像感测元件的制造方法，其中该保护层包括氧化硅或氮化硅。3.如权利要求1所述的彩色影像感测元件的制造方法，其中该第一平坦层包括高透光度光致抗蚀剂，其透光度大于或等于95％。4.如权利要求1所述的彩色影像感测元件的制造方法，其中形成该彩色滤光层的步骤包括形成一第一彩色层于该第一平坦层上；施以曝光及显影工艺，以形成图案化第一彩色滤光元件于该感测像素阵列上；形成一第二彩色层于该第一平坦层上；施以曝光及显影工艺，以形成图案化第二彩色滤光元件于该感测像素阵列上；形成一第三彩色层于该第一平坦层上；施以曝光及显影工艺，以形成图案化第三彩色滤光元件于该感测像素阵列上。5.如权利要求1所述的彩色影像感测元件的制造方法，其中该第二平坦层由光致抗蚀剂材料所构成。6.如权利要求1所述的彩色影像感测元件的制造方法，其中定义该第一开口的步骤以一显影步骤形成。7.如权利要求1所述的彩色影像感测元件的制造方法，还包括形成一微透镜阵列于该第二平坦层上，对应该感测像素阵列区域。8.一种彩色影像感测元件的制造方法，包括下列步骤提供一基板，包括一感测像素阵列于该基板的主要区域，一接触垫于该基板的外围区域...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡宪庆，钟祥珉，汪嘉将，陈钰琬，陈诗岚，李甫哲，
申请(专利权)人：力晶半导体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]