镀膜玻璃制造技术

本实用新型专利技术公开一种镀膜玻璃，包括基层和膜层，所述膜层包括自所述基层的表面向外依次层叠而成的五个电介质层，其中，五个所述电介质层依次包括：第一电介质层为氧化钛层、氧化铌层、硅钛氧化物层、氮化硅铝层、氧化铌锆层、氧化铌钛层或氮化硅锆铝层中的一个或多个；第二电介质层为氧化硼硅层或氧化硅铝层；第三电介质层为氧化钛层、氧化铌层、硅钛氧化物层、氮化硅铝层、氧化铌锆层、氧化铌钛层或氮化硅锆铝层中的一个或多个；第四电介质层为氧化硼硅层或氧化硅铝层；以及第五电介质层为氮化硅铝层、氧化锆层、氧化锡层或氮化硅锆铝层中的一个或多个。本实用新型专利技术镀膜玻璃对热处理具有良好的抵抗力和机械耐久性。好的抵抗力和机械耐久性。好的抵抗力和机械耐久性。

【技术实现步骤摘要】
镀膜玻璃


[0001]本技术涉及功能玻璃领域，特别涉及一种镀膜玻璃。

技术介绍

[0002]包含防眩涂层的增透膜玻璃是一种在玻璃表面沉积多层材料，使太阳光中的可见光能够增透过、减反射。防眩涂层的增透膜通常由包含干涉性薄层的多层组成，当沉积在透明基板上时，这种涂层的功能是减少其光反射并增加其透光率。因此，如此涂覆的基材将使其透射光/反射光之比增加，从而改善置于其后的物体的可见性。现有的大多数镀膜玻璃都进行了优化，以使法向入射时的光反射最小，造成现有的大部分镀膜玻璃存在机械强度较差的问题，影响镀膜玻璃的进一步热处理和成型工艺。

技术实现思路

[0003]本技术的主要目的是提出一种镀膜玻璃，旨在改善现有镀膜玻璃机械强度差的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提出的镀膜玻璃，包括基层和膜层，所述膜层包括自所述基层的表面向外依次层叠而成的五个电介质层，其中，五个所述电介质层依次包括：
[0005]第一电介质层，所述第一电介质层为氧化钛层、氧化铌层、硅钛氧化物层、氮化硅铝层、氧化铌锆层、氧化铌钛层或氮化硅锆铝层中的一个或多个；
[0006]第二电介质层，所述第二电介质层为氧化硼硅层或氧化硅铝层；
[0007]第三电介质层，所述第三电介质层为氧化钛层、氧化铌层、硅钛氧化物层、氮化硅铝层、氧化铌锆层、氧化铌钛层或氮化硅锆铝层中的一个或多个；
[0008]第四电介质层，所述第四电介质层为氧化硼硅层或氧化硅铝层；以及
[0009]第五电介质层，所述第五电介质层为氮化硅铝层、氧化锆层、氧化锡层或氮化硅锆铝层中的一个或多个。
[0010]可选地，所述第一电介质层的厚度不小于10nm，且不超过17nm。
[0011]可选地，所述第一电介质层为氮化硅锆铝层，所述氮化硅锆铝层中锆的质量百分比为18.25％，所述第一电介质层的厚度不小于13nm，且不超过15nm。
[0012]可选地，所述第二电介质层的厚度不小于30nm，且不超过40nm；
[0013]和/或，所述第四电介质层的厚度不小于70nm，且不超过83nm。
[0014]可选地，所述第二电介质层为氧化硼硅层，所述第二电介质层的厚度不小于33nm，且不超过38nm；
[0015]和/或，所述第四电介质层为氧化硼硅层，所述第四电介质层的厚度不小于73nm，且不超过77nm。
[0016]可选地，所述第三电介质层的厚度不小于110nm，且不超过136nm。
[0017]可选地，所述第三电介质层为氮化硅锆铝层，所述氮化硅锆铝层中锆的质量百分比为18.25％，所述第三电介质层的厚度不小于126nm，且不超过134nm。
[0018]可选地，所述第五电介质层的厚度不小于3nm，且不超过10nm。
[0019]可选地，所述第五电介质层为氮化硅锆铝层，所述氮化硅锆铝层中锆的质量百分比为18.25％，所述第五电介质层的厚度不小于4nm，且不超过6nm。
[0020]可选地，所述镀膜玻璃的可见光反射率不超过4.7％，所述镀膜玻璃的颜色为中性色，玻面颜色值为
‑
2.1≤a*≤
‑
0.5，
‑
3≤b*≤
‑
0.5。
[0021]本技术技术方案通过采用第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第四电介质层以及第五电介质层形成膜层，并通过选择对应膜层材料，使得镀膜玻璃的光反射率小于5.0％，可见光透过率高于基层镀膜前的透过率3.7％，对热处理具有良好的抵抗力，具有良好的机械耐久性。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0023]图1为本技术镀膜玻璃一实施例的结构示意图；
[0024]图2为本技术镀膜玻璃成型方法一实施例的流程示意图。
[0025]附图标号说明：
[0026]标号名称标号名称10基层20膜层21第一电介质层22第二电介质层23第三电介质层24第四电介质层25第五电介质层
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[0027]本技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0028]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0029]需要说明，若本技术实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
[0030]另外，若本技术实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本技术要求的保护范围之内。
[0031]本技术提出一种镀膜玻璃，所述镀膜玻璃包括基层10和膜层20，所述基层10作为所述镀膜玻璃的主体结构，所述膜层20覆盖在所述基层10上，以形成功能层。所述膜层20能够起到阻隔对人体的紫外线的作用，部分可见光反射，部分可见光透过所述镀膜玻璃。图1和图2为本技术的实施例所对应的附图。
[0032]请参阅图1，在第一实施例中，所述膜层20包括自所述基层10的表面向外依次层叠而成的五个电介质层，其中，五个所述电介质层依次包括：
[0033]第一电介质层21，所述第一电介质层21为氧化钛层、氧化铌层、硅钛氧化物层、氮化硅铝层、氧化铌锆层、氧化铌钛层或氮化硅锆铝层中的一个或多个；所述第一电介质层21的折射率n 1在1.8至2.3之间。所述第一电介质层21形成于所述基层10表面，可以通过磁控溅射的方式形成上述任一材料层，也可以选取上述材料中的多个材料层叠加形成复合材料层。其中，所述氮化硅锆铝层中锆的质量百分比可以为18.25％。可选地，所述第一电介质层21的厚度不小于10nm，且不超过17nm。所述第一电介质层21的厚度可以为10nm，12nm，13.8nm，15.5nm，17nm，也可以选取上述区间内的其他厚度值。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜玻璃，其特征在于，包括基层和膜层，所述膜层包括自所述基层的表面向外依次层叠而成的五个电介质层，其中，五个所述电介质层依次包括：第一电介质层，所述第一电介质层为氧化钛层、氧化铌层、硅钛氧化物层、氮化硅铝层、氧化铌锆层、氧化铌钛层或氮化硅锆铝层中的一个或多个；第二电介质层，所述第二电介质层为氧化硼硅层或氧化硅铝层；第三电介质层，所述第三电介质层为氧化钛层、氧化铌层、硅钛氧化物层、氮化硅铝层、氧化铌锆层、氧化铌钛层或氮化硅锆铝层中的一个或多个；第四电介质层，所述第四电介质层为氧化硼硅层或氧化硅铝层；以及第五电介质层，所述第五电介质层为氮化硅铝层、氧化锆层、氧化锡层或氮化硅锆铝层中的一个或多个。2.如权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第一电介质层的厚度不小于10nm，且不超过17nm。3.如权利要求2所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第一电介质层为氮化硅锆铝层，所述第一电介质层的厚度不小于13nm，且不超过15nm。4.如权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第二电介质层的厚度不小于30nm，且不超过40nm；和/或，所述第四电介质层的厚度不小于70nm，且不超过83nm。...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾小绵，白振中，
申请(专利权)人：长兴旗滨节能玻璃有限公司，
类型：新型
国别省市：