【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体器件的制造，具体地说，涉及对用于测量微电子特征尺寸的计量工具的失效的识别。
技术介绍
在微电子器件制造过程中，通过执行光刻处理以形成制造微电子电路的特征和器件以及在晶片的衬底上的其它特征的一系列工具处理半导体晶片。光刻系统通过将掩膜图形的图像投影在晶片上复制电路图形，并由暴露图形的成像工具和涂覆、烘焙和显影衬底的处理工具组成。该图形可能由不同尺寸和密度的特征组成，所有的这些特征同时必须以符合设计的尺寸印刷。正如在此所使用的，术语“临界尺寸(CD)”或“临界宽度”是指通过光刻系统可以同时制造的图形或特征的最小尺寸。这种处理具有广泛的工业应用，包括半导体、平板显示器、微型机械和磁头的制造。一般在每个处理步骤之后，使用计量工具测量并控制在晶片上的任何误差，即微电子电路本身的一部分或者晶片上印刷的专用目标的图像尺寸。这种电路部分、目标和其它的特征将被总体地称为微电子特征，除非另有说明。计量工具使用所谓的“配方(制法)”来测量所需的微电子特征。这种配方一般包括微电子特征的映射图和针对工具光学测量系统的指令，以便通过相对于工具旋转和平移晶片使要测量的特...
【技术保护点】
一种识别用于测量微电子特征所需尺寸的计量工具中的失效的方法，包括：提供运行多个配方以测量微电子特征所需尺寸的计量工具，每个配方包括用于测量微电子特征中的至少一个尺寸的一组指令；提供用于计量工具的误差记录，在该误差记录中存储有 微电子特征尺寸的测量中的失效；从存储在误差记录中的失效中，确定由计量工具所使用的配方的误差的归一化数量；识别在误差记录中具有最大归一化误差数量的一个或多个配方；在由计量工具执行的作业列表中，识别所述一个或多个被识别的 具有最大归一化误差数量的配方；从所述一个或多个被识别的具有最...
【技术特征摘要】
US 2005-6-22 11/160,4041.一种识别用于测量微电子特征所需尺寸的计量工具中的失效的方法，包括提供运行多个配方以测量微电子特征所需尺寸的计量工具，每个配方包括用于测量微电子特征中的至少一个尺寸的一组指令；提供用于计量工具的误差记录，在该误差记录中存储有微电子特征尺寸的测量中的失效；从存储在误差记录中的失效中，确定由计量工具所使用的配方的误差的归一化数量；识别在误差记录中具有最大归一化误差数量的一个或多个配方；在由计量工具执行的作业列表中，识别所述一个或多个被识别的具有最大归一化误差数量的配方；从所述一个或多个被识别的具有最大归一化误差数量的配方，确定在所述一个或多个配方中的误差的原因；改变具有最大归一化误差数量的一个或多个被识别的配方以校正其中的误差；和跟踪具有所述已经改变的一个或多个配方的计量工具作业以确定是否已经校正了误差的原因。2.如权利要求1的方法，进一步包括在识别具有最大归一化误差数量的配方之前，确定该误差是否由计量工具所使用的配方引起；仅使用由配方引起的误差来识别具有最大归一化误差数量的一个或多个配方并确定其中误差的原因。3.如权利要求1的方法，进一步包括概括存储在误差记录中的失效，并将概括的失效数据存储在数据库中。4.如权利要求1的方法，其中提供多个计量工具，每个工具具有多个配方，其中在误差记录中存储有针对多个计量工具的在微电子特征尺寸的测量中的失效，其中识别具有最大归一化误差数量的一个或多个配方并确定每个计量工具的误差的原因。5.如权利要求1的方法，其中提供多个计量工具，每个工具具有多个配方，其中在误差记录中存储有针对多个计量工具的在微电子特征尺寸的测量中的失效，以及包括识别在多个计量工具中具有误差的公共配方并确定在这种公共配方中的误差的原因。6.如权利要求1的方法，其中在误差记录中存储的计量工具失效包括从由硬件失效和软件失效组成的组中选择的失效，其中软件失效包括重新启动的情况。7.如权利要求6的方法，进一步包括概括存储在误差记录中的失效，并将概括的失效数据存储在数据库中。8.如权利要求1的方法，进一步包括在识别具有最大归一化误差数量的配方之前，确定这些误差是否由计量工具所使用的配方引起，如果这些误差不是由计量工具所使用的配方引起，则修复具有不是由配方引起的失效的计量工具。9.一种识别用于测量微电子特征所需尺寸的计量工具系统中的失效的方法，包括提供具有多个计量工具的计量工具系统，每个工具运行多个配方以测量微电子特征所需尺寸，每个配方包括用于测...
【专利技术属性】
技术研发人员：埃里克P索莱基，周麟，萨拉赫凯伊，
申请(专利权)人：国际商业机器公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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