工艺系统以及用于输送基片的装置制造方法及图纸

在按本发明专利技术的工艺系统中，通过至少两个相互隔开布置的激励器构成了具有所属的缝隙区域的激励器对，其中在该缝隙区域中设有支承转子的有源磁性支承，其中该工艺系统具有用于在输送线路（Ｔ）上输送基片（２３）的装置，其中该装置具有一个支承模块和一个驱动模块，并且支承模块具有一个带有构造成电磁体的激励器的支承定子和一个带有铁磁体构件的支承转子。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及按独立权利要求前序部分所述的一种工艺系统以及一种用于输送基片的装置。对于制造光学显示器需要越来越大的基片。这种显示器主要用于小型以及中型显示系统，例如手机、DVD播放器、笔记本、电视机、汽车收音机或者工业应用。目前液晶显示器以超过80％的份额占据主流，而作为替代方案的等离子显示器的制造方法目前占据15％的份额，有机发光二极管目前占据2％的份额。特别是对于所述的作为替代方案的制造方法，为了实现表面处理、特别是基片的涂层的高度均匀性，对工艺可靠性提出了越来越高的要求，其中基片的涂层随着基片尺寸越来越大以及基片重量越来越重到目前为止是很难实现的。在EP 0346815 A2中公开了一种具有用于待处理的材料的支承工具和输送工具的真空装置的输送系统。输送工具包括一个有源磁性支承装置，其具有一个近似方形的支承定子和一个将该支承定子部分包围的支承转子。支承定子具有电磁体，其与支承转子的对应配置的铁磁性元件共同作用产生磁性承载区。在已知的系统中的磁性支承装置的工艺稳定调节由于结构引起的不稳定的转子动力学特性是费事的。另外在DE 102 47 909 A1中公开了一种用于输送基片的非接触式支承以及非接触式驱动、停止和定位的载体系统形式的装置。该系统无源地磁性支承在两个支承条上。加速以及减速的驱动通过长定子结构或者短定子结构的线性异步电动机来进行。所述停止借助于涡流制动器实现，该涡流制动器通过升降机构起作用。所述定位通过载体中的永磁体进行。另外设置一个横向稳定装置，其中载体的两侧沿行驶路段布置一个钢带，在载体上两个至四个电励磁系统与钢带相对布置。所述驱动以非接触方式由此实现，即线性电动机的定子沿着行驶路段布置，定子沿所希望的运动方向产生一个行波磁场。载体在其与定子相对的下侧具有线性电动机的一般由铝制成的次级部分。在该次级部分上面作为磁性接地设置了一个实心的钢板，定子的磁通量可以通过该钢板闭合并且由此保证了定子磁通量较小的气隙。本专利技术的任务在于提供一种紧凑的且工艺可靠的工艺系统以及一种用于在涂层工艺线中输送基片、特别是大面积的薄的基片的装置，其中在涂层工艺线中的不同工位之间的基片能够以高的工艺可靠性和动态性移动。该任务按照本专利技术用独立权利要求所述的特征来解决。按照本专利技术的工艺系统包括一个用于在输送线路上输送基片的装置，其中该装置具有一个支承模块和一个驱动模块，并且该支承模块具有一个带构造成电磁体的激励器的支承定子和一个带有铁磁体构件的支承转子。通过至少两个相互间隔布置的激励器构成了一个具有所属的缝隙区域的激励器对，其中在缝隙区域中设置支承转子的有源磁性支承。对于有源磁性支承有一个带有距离传感器的位置调节装置。支承转子在缝隙区域中的磁性支承相对于现有技术加强了按本专利技术的支承模块的动力性并改善了转子动力性。由此该支承模块也可以将非常重的和大的基片，例如尺寸为平方米数量级的板特别可靠地导引通过闸门进入涂层工艺线的不同腔中，而不会由于倾翻使得输送模块钩住或者使基片损坏。由此简化和加速了工艺过程。操作人员不必手工介入将基片从工艺腔中取出并送入后面的工艺腔并重新挂入输送线路。输送线路优选特别是在涂层工艺线的闸门中中断，其中闸门例如将具有不同的压力级或者气氛的腔相互气密地隔开。为了实现特别稳定的支承，支承转子优选在两侧各由两个相对的激励器或者电磁体夹持住。除了这种类别性特征，按本专利技术的用于输送基片的装置还有这样的特征，即通过至少两个相互隔开布置的激励器构成了具有所属缝隙区域的激励器对，并且在缝隙区域中设置支承转子的有源磁性支承。该装置位于壳体的内部，壳体优选由金属制成。这样可以实现例如对阴极和/或其它在涂层工艺线的涂层腔和/或酸洗腔和/或净化腔中以高频运行的元件的电磁相容性(EMV保护)。壳体优选是水冷的。在一种有利的改进方案中，为了在调节装置失灵或者电流中断时夹持支承转子设置了一个阻挡支承装置。其优选布置在装置的壳体的内壁上，例如构造成凸缘或者凸肩，支承转子在下降时可以支承在凸缘或者凸肩上，或者也可以构造成轴颈，其嵌入支承转子对应的空隙中，并且支承转子在失灵的情况下可以支承在轴颈上。另外作为替代方案也可以设置一个稳定模块或者稳定装置用于有源和/或无源横向位置稳定化，其中对于有源横向位置稳定化设置至少一个距离传感器用于距离调节。在载体头和载体之间可以设置一个减振器或者用于有源或无源振动隔离的装置。由此有利的是将基片与载体头隔离了，并且可能的话已经实现横向位置稳定化。模块化的构造简化了安装和维护，这特别是在工厂生产工艺、特别是在大面积基片例如光学显示器等的高精度涂层工艺时是节约成本的。由此可以可靠且位置精确地输送基片，这种基片具有大约1×1m2的尺寸并且厚度通常小于100μm，并且至少有时以大于1m/s的可观的速度进行输送。有利的是该驱动模块包括一个磁性加速装置，其构造成扁平的线性电动机。线性电动机可以具有一个单定子；作为替代方案该线性电动机可以具有一个双定子。另外该线性电动机可以是异步电动机。作为替代方案可以使用同步电动机。不言而喻，线性电动机也可以通过一个圆柱形线性电动机构成。作为替代方案可以设置一个优选为磁动或者气动的脉动装置。驱动模块可以具有一个用于在重力场中加速的装置，特别是一个具有落差的运输线路。有利的是借助于磁性或者电磁性工具制动。在一种优选的改进方案中，驱动模块具有一个T型定子和一个U型梁，定子件以第一纵支脚嵌入U型梁，并以横支脚盖住U型梁的开口端。在横支脚和U型梁的开口端之间的气隙可以大于支承转子的铁磁体构件和电磁体之间的气隙。U型梁优选布置在其中两个电磁体的壳体之间，其中壳体和U型梁的外分界壁之间的气隙大于纵支脚和U型梁内分界壁之间的气隙。由此可用结构空间来补偿例如闸门中的支承模块倾翻时运动的不稳定性，特别是点头运动或者俯仰运动。如果使用同步机构来驱动的话，U型梁优选具有永磁体，或者如果使用异步机构的话，优选制成非磁性金属导轨，特别是用铝或者铝合金制成。在另一种有利的改进方案中，支承模块、驱动模块以及可能的话稳定模块布置在处理腔的屏障后面。该屏障可以是不透光的，这样可以阻止工艺腔中的涂层材料污染该模块。涂层材料可以任意的入射角撞在不透光的屏障上，而基本不能到达屏障的后面。同时存在足够的尺寸足够大的通孔，以便使得在屏障后面的模块侧的空腔中实现抽真空。可以实现模块与基片的有利的隔离。基片可以进行各种不同的处理过程，例如通过辐射热加热，而不会使模块受到显著影响。特别是在基片涂层处理时，特别是在等离子辅助如阴极溅射或者等离子辅助CVD处理(化学气相沉积)时，其中由于在沉积时相对高的局部压力，涂层材料也会以不希望的方式沉积在待涂层区域外面，特别也会沉积在隔板后面，不透光的屏障避免了模块的污染。有利地避免了在模块中的狭小的气隙中混入涂层材料和/或者形成的附加的涂层脱落并污染工艺腔或者这种涂层的材料进入其它的工艺区域。可以避免该模块的费事的净化工步或者甚至是模块的更换。在一种有利的改进方案中，屏障可以至少部分布置在可运动的载体头上。另外通过将屏障用作辐射热的辐射防护，在基片和/或涂层腔和/或可能存在的涂层源的温度方面实现了隔离。这优选可以通过模块区域例如线圈和线圈支架中的冷却来进行支持。同样对屏障也本文档来自技高网...

【技术保护点】
工艺系统，具有用于在输送线路（Ｔ）上输送基片（２３）的装置，其中该装置具有支承模块以及驱动模块，并且该支承模块具有带有构造成电磁体的激励器的支承定子和带有铁磁体构件的支承转子，其特征在于：通过至少两个相互隔开布置的激励器构成了具有所属的缝隙区域的激励器对，并且在该缝隙区域中设有支承转子的有源磁性支承。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】DE 2004-8-2 102004037622.01.工艺系统，具有用于在输送线路(T)上输送基片(23)的装置，其中该装置具有支承模块以及驱动模块，并且该支承模块具有带有构造成电磁体的激励器的支承定子和带有铁磁体构件的支承转子，其特征在于通过至少两个相互隔开布置的激励器构成了具有所属的缝隙区域的激励器对，并且在该缝隙区域中设有支承转子的有源磁性支承。2.按权利要求1所述的工艺系统，其特征在于所述支承定子具有至少两个相互隔开设置的激励器对，所述激励器对分别具有所属的缝隙区域，并且支承转子以其铁磁体构件从两侧作用到缝隙区域中。3.按权利要求1或者2所述的工艺系统，其特征在于所述输送线路(T)具有中断区域。4.按权利要求3所述的工艺系统，其特征在于所述输送线路(T)在涂层工艺线工艺腔(P1、P2、P3)之间的至少一个闸门(S1、S2、S3、S4)区域中中断。5.用于在输送线路(T)上输送基片(23)的装置，具有至少一个支承模块和一个驱动模块，其中支承模块具有带有构造成电磁体的激励器的支承定子和带有铁磁体构件的支承转子，其特征在于通过至少两个相互隔开布置的激励器构成了一个具有所属的缝隙区域的激励器对，并且在缝隙区域中设有支承转子的有源磁性支承。6.按权利要求5所述的装置，其特征在于所述支承定子具有至少两个相互隔开布置的激励器对，所述激励器对分别具有所属的缝隙区域，并且支承转子以其铁磁体构件从两侧嵌入缝隙区域中。7.按权利要求5或者6所述的装置，其特征在于所述支承模块具有用于基片载...

【专利技术属性】
技术研发人员：M勒德，A卡斯帕里，C克勒森，
申请(专利权)人：莱博德光学有限责任公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]