用于热转移的成像系统技术方案

本发明专利技术公开一种用于将材料从施体薄膜选择性地热转移到基体上的光学成像系统。所述成像系统包括光源组件，所述光源组件构造成发射图案化光束。所述图案化光束包括多个分立输出光部分，其中各部分至多部分地重叠。所述成像系统还包括光中继组件，所述光中继组件接收所述多个分立输出光部分并将其投影在转移平面上，从而通过所述多个分立输出光部分大量叠加而形成投影光部分。当将包含可转移材料的施体薄膜置于位于所述转移平面的基体附近时，所述投影光部分能够诱导所述可转移材料转移到所述基体上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术总的说来涉及成像系统。具体地说，本专利技术涉及用于将材料从施体薄膜(donor film)转移到基体的激光感应热成像系统。
技术介绍
像素化显示器通常用于显示信息。其例子包括液晶计算机监视器和电视机、用于例如蜂窝电话等应用场合中的有机发光显示器以及便携式数字视频显示器。显示器中的像素可以利用各种方法例如光刻、光解切除和激光感应热成像(LITI)等方法进行图案化。LITI一直特别适用于有机电子显示器或装置中的有机材料的图案化。
技术实现思路
本专利技术总的说来涉及成像系统。在本专利技术的一个实施例中，用于将材料从施体薄膜选择性地热转移到基体上的光学成像系统包括光源组件，所述光源组件构造成发射图案化光束。所述图案化光束包括多个分立输出光部分，其中各部分至多部分地重叠。所述光学成像系统还包括光中继组件，所述光中继组件接收所述多个分立输出光部分并将其投影在转移平面上，从而通过所述多个分立输出光部分大量叠加而形成投影光部分。当将包含可转移材料的施体薄膜置于位于所述转移平面的基体附近时，所述投影光部分能够诱导所述可转移材料转移到所述基体上。在本专利技术的另一个实施例中，用于将材料从施体薄膜选择性地热转移到基体上的光学成像系统包括光源组件，所述光源组件构造成发射图案化光束。所述图案化光束包括分立输出光部分的输出阵列。所述输出阵列为m行n列，n大于1。列中的分立输出光部分至多部分地重叠。所述光学成像系统还包括光中继组件，所述光中继组件接收所述输出阵列并将其投影在转移平面上，从而在所述转移平面上形成分立投影光部分的投影阵列。所述投影阵列为1行n列。投影列中的每个分立投影光部分通过所述输出阵列的对应列中分立输出光部分基本上完全重叠而形成，使得当将包含可转移材料并且设置在载体附近的施体薄膜置于位于所述转移平面的基体附近时，每个分立投影光部分都能够诱导所述可转移材料从所述载体转移到所述基体上。在本专利技术的另一个实施例中，用于将材料从施体薄膜选择性地热转移到基体上的光学成像系统包括光源，所述光源能够发射图案化光束。所述图案化光束包括两个或更多个发射光部分。每个发射光部分具有沿着第一方向的第一均匀性。所述光学成像系统还包括均光器，所述均光器接收所述两个或更多个发射光部分，使每个发射光部分均匀化并且透射对应的均化光部分。每个透射均化光部分具有沿着第一方向的第三均匀性。每个透射均化光部分的所述第三均匀性大于每个对应发射光部分的所述第一均匀性。所述光学成像系统还包括掩模，所述掩模接收每个透射均化光部分并将每个透射均化光部分图案化成一行沿着所述第一方向的n个分立的光的子部分。n大于20。每个分立的光的子部分具有沿着所述第一方向的长度。所述掩模能够将每个分立的光的子部分的长度以1微米或更高的精度设定为从大约50微米至大约150微米范围内的任何值。所述光学成像系统还包括基体。所述光学成像系统还包括第一透镜系统，所述第一透镜系统将每行n个分立的光的子部分沿着所述第一方向以等于1的放大因子投影在所述基体上，从而形成单一一行沿着所述第一方向的n个分立投影光部分。第一分立投影光部分与第n分立投影光部分之间的距离至少为10毫米。当将包含可转移材料并且设置在载体附近的施体薄膜在所述第一透镜系统与所述基体之间置于所述基体附近时，所述n个分立投影光部分每个都能够诱导所述可转移材料从所述载体转移到所述基体上。在本专利技术的另一个实施例中，用于将材料从施体薄膜选择性地热转移到基体上的光学成像系统包括光源，所述光源包括两组或更多组光条组件。每组光条组件包括两个或更多个光条。所述光条组件组中的每个光条能够发射偏振光。从所述光条组件组中的至少一个光条发出的偏振光的第一偏振方向与从所述光条组件组中的至少另一个光条发出的偏振光的第二偏振方向不同。偏振光束组合器使用所述第一偏振方向与所述第二偏振方向之间的差异而组合从所述光条组件组中的两个或更多个光条发出的偏振光，从而形成组合发射光束。空间滤光器通过至少反射来自一组发光器的组合发射光束和至少透射来自另一组发光器的组合发射光束而组合来自所述两组或多组发光器的组合发射光束。所述组合发射光束的组合形成图案化光束。所述图案化光束包括一个或多个发射光部分。每个发射光部分具有沿着第三方向的第一均匀性。所述光学成像系统还包括均光器，所述均光器接收所述一个或多个发射光部分，使每个发射光部分均匀化并且透射对应的均化光部分。每个透射均化光部分具有沿着第三方向的第三均匀性。每个透射均化光部分的所述第三均匀性大于每个对应发射光部分的所述第一均匀性。所述光学成像系统还包括掩模，所述掩模接收每个透射均化光部分并将每个透射均化光部分图案化成一行沿着所述第三方向的n个分立的光的子部分。n大于20。每个分立的光的子部分具有沿着所述第三方向的长度。所述掩模能够将每个分立的光的子部分的长度以1微米或更高的精度设定为从大约50微米至大约150微米范围内的任何值。所述光学成像系统还包括基体。所述光学成像系统还包括第一透镜系统，所述第一透镜系统将每行n个分立的光的子部分沿着所述第三方向以等于1的放大因子投影在所述基体上，从而形成单一一行沿着所述第三方向的n个分立投影光部分。第一分立投影光部分与第n分立投影光部分之间的距离至少为10毫米。当将包含可转移材料并且设置在载体附近的施体薄膜在所述第一透镜系统与所述基体之间置于所述基体附近时，所述n个分立投影光部分每个都能够诱导所述可转移材料从所述载体转移到所述基体上。附图说明结合附图阅读下面对于本专利技术的各个实施例所进行的详细说明可以更全面地理解和认识本专利技术，其中 图1示出根据本专利技术一个实施例的成像系统的方框图；图2示出根据本专利技术一个实施例的成像系统的三维示意图；图3A和图3B分别示出通过均化器之前和之后的发射光部分的三维示意图；图4A和图4B示出图3A和图3B所示的发射光部分沿着两个不同方向的光束均匀性；图5A和图5B示出发射光部分沿着两个不同方向的发散；图6A和图6B示出均光部分沿着两个不同方向的发散；图7示出根据本专利技术一个实施例由掩模进行图案化的光的一部分的横截面图；图8示出根据本专利技术一个实施例由掩模进行图案化的光的叠加的示意性侧视图；图9示出根据本专利技术一个实施例转移可转移材料的示意性侧视图；图10示出根据本专利技术一个实施例转移可转移材料的示意性侧视图；图11示出根据本专利技术一个实施例的掩模的示意性顶视图；图12示出根据本专利技术一个实施例的掩模的示意性顶视图；图13示出根据本专利技术一个实施例的掩模的示意性顶视图；图14示出根据本专利技术一个实施例的具有预掩模的掩模的示意性侧视图；图15示出根据本专利技术一个实施例的掩模组件的示意性侧视图；图16示出根据本专利技术一个实施例的光条组件的三维示意图；图17示出根据本专利技术一个实施例的光条组件的三维示意图；图18示出根据本专利技术一个实施例的光条组件的三维示意图；图19示出根据本专利技术一个实施例的用于组合两组发射光部分的光组合器的三维示意图；图20A至图20C示出图19所示的两组发射光部分以及该两组发射光部分经组合后所得到的结果的横截面图；图21示出用于组合不同组发射光部分的偏振光束组合器的示意性顶视图；图22示出根据本专利技术一个实施例的光源以及成像系统的一部分的三维示意图；图23示出根据本专利技术一个实施例的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于将材料从施体薄膜选择性地热转移到基体上的光学成像系统，所述光学成像系统包括：光源组件，其构造成发射图案化光束，所述图案化光束包括多个分立输出光部分，其中所述分立输出光部分至多部分地重叠；以及光中继组件，其接收所述多个 分立输出光部分并将所述多个分立输出光部分投影在转移平面上，从而通过所述多个分立输出光部分大量叠加而形成投影光部分，使得当将包含可转移材料并且置于载体附近的施体薄膜置于位于所述转移平面的基体附近时，所述投影光部分能够诱导所述可转移材料从所述载体转移到所述基体上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US 2004-6-9 10/863,9381.一种用于将材料从施体薄膜选择性地热转移到基体上的光学成像系统，所述光学成像系统包括光源组件，其构造成发射图案化光束，所述图案化光束包括多个分立输出光部分，其中所述分立输出光部分至多部分地重叠；以及光中继组件，其接收所述多个分立输出光部分并将所述多个分立输出光部分投影在转移平面上，从而通过所述多个分立输出光部分大量叠加而形成投影光部分，使得当将包含可转移材料并且置于载体附近的施体薄膜置于位于所述转移平面的基体附近时，所述投影光部分能够诱导所述可转移材料从所述载体转移到所述基体上。2.根据权利要求1所述的光学成像系统，其中，所述多个分立输出光部分具有基本上相同的大小。3.一种用于将材料从施体薄膜选择性地热转移到基体上的光学成像系统，所述光学成像系统包括光源组件，其构造成发出图案化光束，所述图案化光束包括分立输出光部分的输出阵列，所述输出阵列为m行n列，n大于1，列中的所述分立输出光部分至多部分地重叠；以及光中继组件，其接收所述输出阵列并将所述输出阵列投影在转移平面上，从而在所述转移平面上形成分立投影光部分的投影阵列，所述投影阵列为1行n列，列中的每个分立投影光部分通过所述输出阵列的对应列中的分立输出光部分基本上完全重叠而形成，使得当将包含可转移材料并且设置在载体附近的施体薄膜置于位于所述转移平面的基体附近时，每个分立投影光部分都能够诱导所述可转移材料从所述载体转移到所述基体上。4.根据权利要求3所述的光学成像系统，其中，m大于1。5.一种用于将材料从施体薄膜选择性地热转移到基体上的光学成像系统，所述光学成像系统包括光源，其能够发出图案化光束，所述图案化光束包括两个或更多个发射光部分，每个发射光部分具有沿着第一方向的第一全发散角和第一均匀性；以及沿着第二方向的第二全发散角和第二均匀性；均光器，其从所述均光器的输入面接收所述两个或更多个发射光部分，所述均光器使每个发射光部分均匀化并且从所述均光器的输出面透射对应的均化光部分，每个透射均化光部分具有沿着所述第一方向的第三全发散角和第三均匀性；以及沿着所述第二方向的第四全发散角和第四均匀性；每个透射均化光部分的所述第三均匀性大于每个对应发射光部分的所述第一均匀性；掩模，其接收每个透射均化光部分并将每个透射均化光部分图案化成一行沿着所述第一方向的n个分立的光的子部分，n大于20，每个分立的光的子部分具有沿着所述第一方向的长度和沿着所述第二方向的高度，所述掩模能够将每个分立的光的子部分的长度以1微米或更高的精度设定为从大约50微米至大约150微米范围内的任何值；基体；以及第一透镜系统，其将每行n个分立的光的子部分沿着所述第一方向以等于1的放大因子投影在所述基体上，从而形成单一一行沿着所述第一方向的n个分立投影光部分，第一分立投影光部分与第n分立投影光部分之间的距离至少为10毫米，使得当将包含可转移材料并且设置在载体附近的施体薄膜在所述第一透镜系统与所述基体之间置于所述基体附近时，所述n个分立投影光部分每个都能够诱导所述可转移材料从所述载体转移到所述基体上。6.根据权利要求5所述的光学成像系统，其中，至少一些所述发射光部分沿着所述第二方向部分地重叠。7.根据权利要求5所述的光学成像系统，其中，所述第一方向与所述第二方向基本上垂直。8.根据权利要求5所述的光学成像系统，其中，所述光源包括第二透镜系统，所述第二透镜系统用于使所述发射的图案化光束沿着第三方向准直。9.根据权利要求8所述的光学成像系统，其中，所述第三方向与所述第一方向和所述第二方向基本上垂直。10.根据权利要求5所述的光学成像系统，其中，所述光源包括多个激光二极管发射器。11.根据权利要求5所述的光学成像系统，其中，所述光源包括一个或多个激光二极管光条，每个光条包括多个激光二极管发射器。12.根据权利要求11所述的光学成像系统，其中，所述光源包括至少两个激光二极管光条。13.根据权利要求11所述的光学成像系统，其中，所述一个或多个激光二极管光条每个都沿着所述第一方向设置。14.根据权利要求5所述的光学成像系统，其中，每个发射光部分的所述第二发散角接近零。15.根据权利要求5所述的光学成像系统，其中，所述均光器包括光学棒。16.根据权利要求5所述的光学成像系统，其中，所述均光器的至少一部分为中空的。17.根据权利要求5所述的光学成像系统，其中，所述均光器的至少一部分为实心的。18.根据权利要求5所述的光学成像系统，其中，所述均光器为锥形的。19.根据权利要求5所述的光学成像系统，其中，所述均光器的输入面为矩形。20.根据权利要求5所述的光学成像系统，其中，所述均光器的输出面为矩形。21.根据权利要求5所述的光学成像系统，其中，所述均光器的输入面为正方形。22.根据权利要求5所述的光学成像系统，其中，所述均光器的输出面为正方形。23.根据权利要求5所述的光学成像系统，其中，所述均光器的输出面与所述均光器的输入面基本上平行。24.根据权利要求5所述的光学成像系统，其中，所述均光器通过反射、全内反射、折射、散射和衍射中的一种或多种方式使每个发射光部分均匀化。25.根据权利要求5所述的光学成像系统，...

【专利技术属性】
技术研发人员：威廉A托尔伯特，詹姆士M纳尔逊，托马斯A伊斯贝里，安德鲁L海托华，迪安法克里斯，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]