真空处理室的盖体开闭机构以及盖体开闭方法技术

本发明专利技术一种真空处理室的盖体开闭机构，在具有基体部以及以可自由装卸的方式设置在该基体部上的盖体的真空处理室，开闭所述盖体，其特征在于，该盖体开闭机构包括：可移动的台车；和设置在所述台车上的支撑所述盖体的支撑部。由此，可节省装置整体的空间，可实现盖体开闭机构的共用造成的成本下降。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真空处理技术，特别是涉及适合下述的真空处理装置等的有效的技术，利用该真空处理装置进行液晶显示装置(LCD)或等离子显示器等的平面显示器用的玻璃基板等的基板运送工序，或对上述玻璃基板进行干蚀刻等的真空处理。
技术介绍
在比如LCD的制造工艺中，相对作为被处理基板的LCD玻璃基板，多采用干蚀刻、溅射、CVD(化学气相生长)等的真空处理。在进行这样的真空处理的真空处理装置中，采用下述的结构，其中，按照与保持真空而进行上述处理的真空处理室邻接的方式，设置真空预备室，在被处理基板的送入送出时，使真空处理内的气氛变化极小。具体来说，比如，在设置于大气侧的容器和进行蚀刻处理等的真空处理室之间，设置有作为真空预备室的负载锁定室，该负载锁定室具有大气侧和真空侧的界面的功能。在该负载锁定室中，由于每当被处理基板通过时，反复进行大气开放和直至达到与真空处理室相同程度的高真空的排气，故在生产量的提高的方面，尽可能地减小容积，缩短直至达到高真空的排气所需时间是重要的因素。由此，负载锁定室内的基板运送所采用的基板运送装置要求可抑制作为设置场所的负载锁定室的容积，作为这样的基板运送装置，比如，人们知道有专利文献1所公开的那样的，连接多个臂的多关节的类型。另外，作为引退状态极力地小，同时可确保大的运送距离的类型，人们还探讨有下述的基板运送装置，其中，具有多个臂直线运动而伸缩的多段伸缩式臂。但是，在最近，人们对LCD玻璃基板的尺寸增加的要求强烈，直至出现一条边超过1m的而小于2m这样的巨大的类型。在比如，于真空处理室和负载锁定室之间，沿水平方向运送这样的巨大的基板的场合，如果为专利文献1中所描述的那样的多关节型，则难于一边极小地减小设置有基板运送装置的负载锁定室，一边确保对于运送来说足够的行程。另外，在上述那样的多段伸缩式臂中，不得不增加臂的叠置段数，以便确保必要的运送距离，由此，运送装置的高度增加，其结果是，设置有运送装置的负载锁定室的高度增加，负载锁定室的尺寸减小具有限制。另一方面，在该真空处理装置的保养管理中，具有从真空处理室的基体部，取下盖体，进行内部清扫的情况。在形成排列有多个真空处理室(真空处理装置)的多腔系统的情况下，如果构成为各个的真空处理室具有盖体的开闭机构，则各个设备的设置底面积增加，效率差。特别是，在对大型的基板进行处理的真空处理装置中，由于单体的设备本身的尺寸也增加，故对于每个真空处理室都设置盖体的开闭机构的情况来说，多腔系统的上述底面积的增加尤其显著。专利文献1日本特开2001-148410号文献
技术实现思路
本专利技术是针对上述的情况而提出的，目的在于提供在多个真空处理室(真空处理装置)中共用的盖体开闭机构。此外，本专利技术的其它的目的在于提供可在不增加高度方向的设置空间的情况下，增加水平方向的运送距离的基板运送装置，以及采用这样的装置的基板运送方法。另外，本专利技术的目的在于提供一种基板运送装置，该基板运送装置可在不增加所设置的真空预备室的容积的情况下，进行通过真空预备室的较大的基板的运送。本专利技术的目的在于提供一种基板运送装置，该基板运送装置可提高较大的基板的真空处理的生产率。为了解决上述课题，本专利技术提供一种真空处理室的盖体开闭机构，在具有基体部以及以可装卸的方式设置在该基体部上的盖体的真空处理室内，开闭上述盖体，其特征在于，该盖体开闭机构包括可移动的台车、和设置在该台车上的支撑上述盖体的支撑部。另外，本专利技术提供一种真空处理室的盖体开闭方法，在具有基体部以及以可装卸的方式设置在该基体部上的盖体的真空处理室内，开闭上述盖体，其特征在于使具有可移动的台车、设置为可在多个上述真空处理室共用的盖体开闭机构，移动至与作为目的的上述真空处理室正对的位置；然后，利用上述盖体开闭机构使上述盖体向上方浮起，使其从上述基体部脱离；然后，使上述盖体向上述台车上移动，开放上述基体部。此外，在本专利技术的其他方面中，提供一种基板运送装置，其特征在于该基板运送装置包括载置基板的支承台；设置于上述支承台的下部的1个或以可滑动的方式叠置的多个板状臂；和臂驱动机构，该臂驱动机构分别设置于上述板状臂上，使位于该板状臂的上侧的上述支承台或上述板状臂滑动，使上述支承台和上述板状臂在收缩状态和伸长状态之间变化，由此，在第一位置和第二位置之间，进行上述基板的运送动作，上述各板状臂包括在其内收容上述臂驱动机构的开口部。另外，本专利技术还提供一种基板运送装置，该基板运送装置设置于真空处理装置中的上述真空预备室中，该真空处理装置包括真空处理室，该真空处理室在真空中，对基板进行处理；和真空预备室，该真空预备室在将上述基板送入送出上述真空处理室的过程中，临时收容该基板，该真空预备室的内部保持真空，其特征在于，该基板运送装置包括载置基板的支承台；设置于上述支承台的下部的1个或以可滑动的方式叠置的多个板状臂；和臂驱动机构，该臂驱动机构分别设置于上述板状臂上，使位于该板状臂的上侧的上述支承台或上述板状臂滑动，使上述支承台和上述板状臂在收缩状态和伸长状态之间变化，由此，在上述真空预备室内的第一位置和上述真空处理室的第二位置之间进行上述基板的运送动作，上述各板状臂包括在其内收容上述臂驱动机构的开口部。此外，本专利技术还提供一种基板运送装置，其特征在于，该基板运送装置包括载置基板的支承台；设置于上述支承台的下部上，以可滑动的方式叠置的多个板状臂；臂驱动机构，该臂驱动机构分别设置于上述板状臂上，使位于该板状臂的上侧的上述支承台或上述板状臂滑动，使上述支承台和上述板状臂在收缩状态和伸长状态之间变化，由此，在第一位置和第二位置之间，进行上述基板的运送动作，上述各板状臂包括在其内，按照沿叠置方向穿过邻接臂相互不重合的位置的方式收容上述臂驱动机构的开口部。还有，本专利技术提供一种基板运送方法，该基板运送方法采用基板运送装置运送基板，该基板运送装置包括载置基板的支承台；设置于上述支承台的下部的1个或以可滑动的方式叠置的多个板状臂；和臂驱动机构，该臂驱动机构分别设置于上述板状臂上，使位于该板状臂的上侧的上述支承台或上述板状臂滑动，其特征在于，形成将上述臂驱动机构收容于上述各板状臂的开口部中的状态，使上述支承台和上述板状臂在收缩状态和伸长状态之间变化，由此，在第一位置和第二位置之间，进行上述基板的运送动作。再有，本专利技术还提供一种真空处理装置，该真空处理装置包括真空处理室，该真空处理室在真空中对基板进行处理；真空预备室，该真空预备室在将上述基板送入送出上述真空处理室的过程中，临时收容该基板，该真空预备室的内部保持真空；基板运送装置，该基板运送装置设置于上述真空预备室中，该基板运送装置在上述真空预备室内的第一位置和上述真空处理室内的第二位置之间，进行上述基板的运送动作，其特征在于，上述基板运送装置包括载置基板的支承台；设置于上述支承台的下部的1个或以可滑动的方式叠置的多个板状臂；和臂驱动机构，该臂驱动机构分别设置于上述板状臂上，使位于该板状臂的上侧的上述支承台或上述板状臂滑动，通过使上述支承台和上述板状臂在收缩状态和伸长状态之间变化，在上述真空预备室内的第一位置和上述真空处理室内的第二位置之间，进行上述基板的运送动作，上述各板状臂包括在其内收容上述臂驱动机构的开口部。此外，本专利技术还提供一种基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空处理室的盖体开闭机构，在具有基体部以及以可自由装卸的方式设置在该基体部上的盖体的真空处理室，开闭所述盖体，其特征在于，该盖体开闭机构包括：可移动的台车；和设置在所述台车上的支撑所述盖体的支撑部。

【技术特征摘要】
JP 2003-5-30 2003-154521;JP 2004-5-17 2004-1468151.一种真空处理室的盖体开闭机构，在具有基体部以及以可自由装卸的方式设置在该基体部上的盖体的真空处理室，开闭所述盖体，其特征在于，该盖体开闭机构包括可移动的台车；和设置在所述台车上的支撑所述盖体的支撑部。2.根据权利要求1所述的真空处理室的盖体开闭机构，其特征在于是配置为多个所述真空处理室所共用的盖体开闭机构。3.根据权利要求1或2所述的真空处理室的盖体开闭机构，其特征在于所述支撑部支撑所述盖体且使其向垂直方向浮起，从所述基体部脱离。4.根据权利要求1或2所述的真空处理室的盖体开闭机构，其特征在于所述支撑部支撑所述盖体且使其移动到所述台车上，打开所述基体部。5.根据权利要求1或2所述的真空处理室的盖体开闭机构，其特征在于所述支撑部是在所述台车上以能够旋转的方式支撑所述盖...

【专利技术属性】
技术研发人员：中山秀树，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]