提升物理气相沉积反应炉良率的方法技术

本发明专利技术公开了提升物理气相沉积反应炉良率的方法，包括以下步骤：对物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板和挡板进行喷砂清洁及粗化；将金属颗粒或粉末经金属喷涂技术喷涂在经过喷砂清洁的物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板的外表面和挡板的外表面上，并分别形成物理气相沉积的内壁金属喷涂层、遮覆板外表面金属喷涂层和挡板外表面金属喷涂层；当所述物理气相沉积的内壁金属喷涂层、遮覆板外表面金属喷涂层和挡板外表面金属喷涂层累积金属镀膜到一定程度后，去除金属镀膜。本发明专利技术具有成本低，设计合理，操作简便等优点。操作简便等优点。

【技术实现步骤摘要】
提升物理气相沉积反应炉良率的方法


[0001]本专利技术属于物理气相沉积反应炉
，具体涉及提升物理气相沉积反应炉良率的方法。

技术介绍

[0002]如图1所示，为现有技术中物理气相沉积反应炉实施物理气相沉积工艺的示意图，物理气相沉积工艺主要是在一基板1上沉积一薄膜2，首先利用一个直流电源分别电连接至一个遮覆板3及一个挡板4，遮覆板3与基板1相接触，挡板4与靶材5相接触，然后在遮覆板3及挡板4于物理气相沉积反应炉内形成电场并将离子枪束6击向靶材5，所述靶材5为纯金属的材质制成，所述离子枪束6撞击所述靶材5后，会将所述靶材5上的金属溅射在所述基板1上形成薄膜2。
[0003]然而物理气相沉积反应炉使用一段时间后，会在物理气相沉积反应炉的遮覆板、挡板及物理气相沉积反应炉的内壁上形成金属镀膜(图未示)，这些金属镀膜会在物理气相沉积反应炉持续使用时破裂或剥落，从而产生粉尘离子散布在基板上，从而影响良率，因此现有技术中必须对这些金属镀膜采用酸性或者践行的化学溶液浸泡以去除，专利申请号201210032173.2物理气相沉积的反应室腔体零件的清洁方法采用在遮覆板、挡板及物理气相沉积反应炉的内壁上涂敷中介层且等该中介层表面累积金属镀膜发生破裂或者剥落后，在采用相应的方法去除金属镀膜及中介层，然而去除中介层后，还需重新涂覆中介层再次使用，在该操作过程中需要拆除物理气相沉积反应炉内的各个部件，如遮覆板挡板等进行清洁，且不定期涂覆中介层，成本较高。

技术实现思路

[0004]本专利技术为了解决现有技术中的不足之处，提供一种成本较低的提升物理气相沉积反应炉良率的方法。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案：
[0006]提升物理气相沉积反应炉良率的方法，包括以下步骤：
[0007]S1、对物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板和挡板进行喷砂清洁及粗化；
[0008]S2、将金属颗粒或粉末经金属喷涂技术喷涂在步骤S1中的经过喷砂清洁的物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板的外表面和挡板的外表面上，并分别形成物理气相沉积的内壁金属喷涂层、遮覆板外表面金属喷涂层和挡板外表面金属喷涂层；
[0009]S3、当所述物理气相沉积的内壁金属喷涂层、遮覆板外表面金属喷涂层和挡板外表面金属喷涂层累积金属镀膜到一定程度后，去除金属镀膜。
[0010]优选的，所述步骤S1中是利用喷砂来控制所述物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板的外表面和挡板的外表面的粗糙度。
[0011]优选的，所述物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板的外表面和挡板的外表面的粗糙度均为Ra≧10μm。
[0012]优选的，所述步骤S2中是利用金属喷涂技术来控制物理气相沉积的内壁金属喷涂层、遮覆板外表面金属喷涂层和挡板外表面金属喷涂层的粗糙度。
[0013]优选的，所述物理气相沉积的内壁金属喷涂层、遮覆板外表面金属喷涂层和挡板外表面金属喷涂层的粗糙度均为Ra≧10μm。
[0014]优选的，所述步骤S3中是利用喷砂工艺去除所述金属镀膜。
[0015]优选的，所述步骤S2中的金属颗粒的直径为2
‑
100μm。
[0016]优选的，所述步骤S2中的金属颗粒或粉末喷涂一层或多层。
[0017]采用上述技术方案，本专利技术具有以下有益效果：
[0018](1)本专利技术是通过金属喷涂技术在物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板的外表面和挡板的外表面上形成物理气相沉积的内壁金属喷涂层、遮覆板外表面金属喷涂层和挡板外表面金属喷涂层，然后本专利技术的物理气相沉积反应炉在使用时，金属镀膜附着在物理气相沉积的内壁金属喷涂层、遮覆板外表面金属喷涂层和挡板外表面金属喷涂层上后，由于物理气相沉积的内壁金属喷涂层、遮覆板外表面金属喷涂层和挡板外表面金属喷涂层达到了一定的粗糙度，所以方便清除物理气相沉积的内壁金属喷涂层、遮覆板外表面金属喷涂层和挡板外表面金属喷涂层表面的金属镀膜，设计合理，简单便捷，与现有技术相比，现有技术中的物理气相沉积反应炉需要拆装整体的反应炉及其内部的零部件，且需要清洁的频率高，清洁十分不便，本申请中无需将物理气相沉积反应炉及其中的零部件拆卸进行清洁，且清洁的频率低，单次清洁的成本更低，操作简便，而且本专利技术无需不停附着中介层，与不停涂覆中介层的现有技术相比，清洁成本也更低；
[0019](2)本专利技术对物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板和挡板进行喷砂清洁，可以控制物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板和挡板的粗糙度，便于步骤S2中将金属颗粒或粉末经金属喷涂技术进行喷涂；
[0020](3)本专利技术的步骤S2中是利用金属喷涂技术来控制物理气相沉积的内壁金属喷涂层、遮覆板外表面金属喷涂层和挡板外表面金属喷涂层的粗糙度，便于金属镀膜的附着与去除；
[0021]综上所述，本专利技术具有成本低，设计合理，操作简便等优点。
附图说明
[0022]图1是现有技术中使用的物理气相沉积反应炉的物理气相沉积工艺的结构示意图；
[0023]图2是本专利技术的操作流程图。
具体实施方式
[0024]下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0025]通常在此处附图中描述和显示出的本专利技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本专利技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围，而是仅仅表示本专利技术的选定实施例。
[0026]基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获
得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0027]在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0028]在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0029]如图2所示，本专利技术的提升物理气相沉积反应炉良率的方法，包括以下步骤：
[0030]S1、对物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板和挡板进行喷砂清洁及粗化，本专利技术进行喷砂清洁可以控制物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板的外表面和挡板的外表面的粗糙度，便于后续的金属喷涂；
[0031]S2、将金属颗粒或粉末经金属喷涂技术喷涂在步骤本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.提升物理气相沉积反应炉良率的方法，其特征在于：包括以下步骤：S1、对物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板和挡板进行喷砂清洁及粗化；S2、将金属颗粒或粉末经金属喷涂技术喷涂在步骤S1中的经过喷砂清洁及粗化后的物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板的外表面和挡板的外表面上，并分别形成物理气相沉积的内壁金属喷涂层、遮覆板外表面金属喷涂层和挡板外表面金属喷涂层；S3、当所述物理气相沉积的内壁金属喷涂层、遮覆板外表面金属喷涂层和挡板外表面金属喷涂层累积金属镀膜到一定程度后，去除金属镀膜。2.根据权利要求1所述的提升物理气相沉积反应炉良率的方法，其特征在于：所述步骤S1中是利用喷砂来控制所述物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板的外表面和挡板的外表面的粗糙度。3.根据权利要求2所述的提升物理气相沉积反应炉良率的方法，其特征在于：所述物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板的外表面和挡板的外表面的粗糙度...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨孟，刘飞，游志聪，
申请(专利权)人：东莞美景科技有限公司，
类型：发明
国别省市：