光学直写成像装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种光学直写成像装置，包括：第一数字光空间调制器件和第二数字光空间调制器件；第一光源发出具有第一波长的直写光束并投射至第一数字光空间调制器件，被第一数字光空间调制器件通过成像系统反射到涂有光敏材料的成像面；第二光源发出具有第二波长的抑制光束并投射至第二数字光空间调制器件，被第二数字光空间调制器件通过成像系统反射到涂有光敏材料的成像表面；控制模块控制第一数字光空间调制器件和第二数字光空间调制器件动作，以反射携带目标图像信息的光线以及反射携带抑制图像信息的光线；成像系统将上述光线在感光面处汇聚成像，且抑制图像为目标图像的轮廓图像。本发明专利技术实施例的装置，能够达到超衍射极限的解析能力。射极限的解析能力。射极限的解析能力。

【技术实现步骤摘要】
光学直写成像装置


[0001]本专利技术涉及成像设备
，尤其是涉及一种光学直写成像装置。

技术介绍

[0002]在光学直写光刻技术中，解析度受限于光的衍射极限，一般只能做到光波长的一半。其中，在共聚焦显微镜技术中已经应用了一种超衍射极限的技术，如图1所示，超衍射极限技术是采用双光束以对目标图像进行直写光刻，双光束包括一束抑制光束和一束激发光束，抑制光束聚焦成环形，激发光束聚焦在抑制光束的环形中央并形成聚焦光斑，由于环形抑制光束可以提高感光材料对激发光的光化反应的阈值，并且基板表面的光敏材料仅与激发光束产生光敏反应，因此只有在环形抑制光束中央的感光材料才能被激发光束光化，并且可采用如图2所示的一种光学直写成像装置100
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实现激光直写，光源K发出的双光束射入光空间调制器件Q进行调制，并将调制后的光线通过分光元件7
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和成像系统6
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投射至位于曝光台8
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上的涂有光敏材料的基板表面,从而可以使光敏材料的感光解析度远小于衍射极限的限制。现有的光学直写曝光系统的解析度和系统的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学直写成像装置，其特征在于，包括：第一数字光空间调制器件和第二数字光空间调制器件；第一光源，所述第一光源用于发出具有第一波长的直写光束，所述直写光束投射至所述第一数字光空间调制器件，其中，所述直写光束与基板表面上的光敏材料可产生光敏反应；第二光源，所述第二光源用于发出具有第二波长的抑制光束，所述抑制光束投射至所述第二数字光空间调制器件，其中，所述抑制光束与所述基板表面的光敏材料不产生光敏反应，用于抑制所述直写光束与所述光敏材料光敏反应的作用，所述第二波长不等于所述第一波长；控制模块，所述控制模块与所述第一数字光空间调制器件和所述第二数字光空间调制器件连接，用于根据目标图像信息控制所述第一数字光空间调制器件动作，以使所述第一数字光空间调制器件对投射的所述直写光束进行调制并射出携带所述目标图像信息的光线，以及，根据抑制图像信息控制所述第二数字光空间调制器件动作，以使所述第二数字光空间调制器件对投射的所述抑制光束进行调制并射出携带所述抑制图像信息的光线；成像系统，所述成像系统用于将携带所述目标图像信息的光线和携带所述抑制图像信息的光线叠加并投射至所述涂有光敏材料的基板表面，以在所述涂有光敏材料的基板表面形成叠加图像，所述叠加图像包括目标图像和抑制图像，所述抑制图像为所述目标图像的轮廓图像。2.根据权利要求1所述的光学直写成像装置，其特征在于，所述第一数字光空间调制器件与所述第二数字光空间调制器件呈垂直方向设置。3.根据权利要求2所述的光学直写成像装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈东，
申请(专利权)人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：