光刻量测机及其操作方法技术

一种光刻量测机的操作方法包括：在旋转基座上放置第一、第二、第三以及第四光罩，其中第一、第二、第三以及第四光罩的每一者具有第一、第二、第三以及第四曝光单元；重叠第一、第二、第三以及第四光罩，使第一光罩的第一曝光单元、第二光罩的第二曝光单元、第三光罩的第三曝光单元以及第四光罩的第四曝光单元相邻排列以形成曝光区；利用图像模拟单元根据曝光区模拟第一坐标信息；利用扫描电子显微镜扫描曝光区，以获得第二坐标信息；以及使用处理器比对第一坐标信息与第二坐标信息。光刻量测机可借由比对第一坐标信息与第二坐标信息以确认第一、第二、第三以及第四光罩是否位于要求位置。置。置。

【技术实现步骤摘要】
光刻量测机及其操作方法


[0001]本专利技术关于一种光刻量测机及一种光刻量测机的操作方法。

技术介绍

[0002]一般而言，当光刻机在光刻第一层光罩时，由于无前层光罩可校正其偏移量，因此第一层光罩的光刻效果由光刻机当日机况决定，易造成第一层光罩的光刻效果产生缺陷。此外，由于光刻机在光刻第一层光罩时，并不具有对准标志(Alignment mark)以提供对准效果，因此机台无法执行自动补偿的操作，而需借由后续量测叠对标志以执行补偿操作。

技术实现思路

[0003]本专利技术的一技术态样为一种光刻量测机。
[0004]根据本专利技术一实施方式，一种光刻量测机包括旋转基座、图像模拟单元、扫描电子显微镜以及处理器。旋转基座配置以放置第一光罩、第二光罩、第三光罩以及第四光罩。第一光罩、第二光罩、第三光罩以及第四光罩的每一者具有第一曝光单元、第二曝光单元、第三曝光单元以及第四曝光单元。第一光罩、第二光罩、第三光罩以及第四光罩交错排列使第一光罩的第一曝光单元、第二光罩的第二曝光单元、第三光罩的第三曝光单元以及第四光罩的第四曝光单元相邻排列以形成曝光区。图像模拟单元配置以根据曝光区模拟第一坐标信息，且第一坐标信息具有第一圆心。扫描电子显微镜配置以扫描曝光区，以获得第二坐标信息，且第二坐标信息具有第二圆心。处理器电性连接图像模拟单元与扫描电子显微镜，且处理器配置以比对第一坐标信息以及第二坐标信息。
[0005]在本专利技术一实施方式中，上述第一光罩的第一曝光单元、第四光罩的第四曝光单元、第二光罩的第二曝光单元以及第三光罩的第三曝光单元呈顺时针方向依序排列。
[0006]在本专利技术一实施方式中，上述当第一坐标信息的第一圆心与第二坐标信息的第二圆心之间具有距离时，处理器配置以根据距离对旋转基座进行补偿操作。
[0007]在本专利技术一实施方式中，上述图像模拟单元根据曝光区模拟的第一坐标信息包括GDS文件格式。
[0008]在本专利技术一实施方式中，上述处理器配置以比对曝光区与第一坐标信息，使曝光区与第一坐标信息重叠。
[0009]在本专利技术一实施方式中，上述第一光罩的第一曝光单元位于第三光罩的第三曝光单元与第三光罩的第一曝光单元之间，且第四光罩的第四曝光单元位于第二光罩的第二曝光单元与第四光罩的第二曝光单元之间。
[0010]本专利技术的另一技术态样为一种光刻量测机的操作方法。
[0011]根据本专利技术一实施方式，一种光刻量测机的操作方法包括：在旋转基座上放置第一光罩、第二光罩、第三光罩以及第四光罩，其中第一光罩、第二光罩、第三光罩以及第四光罩的每一者具有第一曝光单元、第二曝光单元、第三曝光单元以及第四曝光单元；重叠第一光罩、第二光罩、第三光罩以及第四光罩，使第一光罩的第一曝光单元、第二光罩的第二曝
光单元、第三光罩的第三曝光单元以及第四光罩的第四曝光单元相邻排列以形成曝光区；利用图像模拟单元根据曝光区模拟第一坐标信息，其中第一坐标信息具有第一圆心；利用扫描电子显微镜扫描曝光区，以获得第二坐标信息，其中第二坐标信息具有第二圆心；以及使用处理器比对第一坐标信息与第二坐标信息。
[0012]在本专利技术一实施方式中，上述方法还包括当第一坐标信息的第一圆心与第二坐标信息的第二圆心之间具有距离时，根据距离对旋转基座进行补偿操作。
[0013]在本专利技术一实施方式中，上述方法还包括比对曝光区与第一坐标信息，使曝光区与第一坐标信息重叠。
[0014]在本专利技术一实施方式中，上述重叠第一光罩、第二光罩、第三光罩以及第四光罩，使第一光罩的第一曝光单元位于第三光罩的第三曝光单元与第三光罩的第一曝光单元之间，且第四光罩的第四曝光单元位于第二光罩的第二曝光单元与第四光罩的第二曝光单元之间。
[0015]在本专利技术上述实施方式中，由于光刻量测机的图像模拟单元可根据曝光区模拟出第一坐标信息，并且光刻量测机的扫描电子显微镜可扫描曝光区以获得第二坐标信息，因此光刻量测机可借由比对第一坐标信息与第二坐标信息以确认第一光罩、第二光罩、第三光罩以及第四光罩是否位于要求位置。当第一坐标信息与第二坐标信息之间具有距离时，光刻量测机的处理器可根据距离对旋转基座执行补偿操作，以移动第一光罩、第二光罩、第三光罩以及第四光罩至要求位置并进行光刻。由于第一层的光罩(例如第一光罩、第二光罩、第三光罩以及第四光罩)已进行补偿操作且移动至要求位置，后续不同层的光罩与第一层的光罩进行叠对补偿时，可提升不同层之间的叠对效果以提高产品良率。
附图说明
[0016]当结合随附诸图阅读时，得自以下详细描述最佳地理解本专利技术的一实施方式。应强调，根据工业上的标准实务，各种特征并未按比例绘制且仅用于说明目的。事实上，为了论述清楚，可任意地增大或减小各种特征的尺寸。
[0017]图1绘示根据本专利技术一实施方式的光刻量测机的方框图。
[0018]图2绘示位于图1的光刻量测机的旋转基座上的光罩的上视图。
[0019]图3绘示图2的第一光罩与第二光罩、第三光罩以及第四光罩重叠的上视图。
[0020]图4绘示根据本专利技术一实施方式的光刻量测机的操作方法的流程图。
[0021]图5A绘示图1的第一坐标信息的示意图。
[0022]图5B绘示图1的第二坐标信息的示意图。
[0023]图6A绘示当图5A的第一坐标信息与图5B的第二坐标信息重叠时的示意图。
[0024]图6B绘示当图5A的第一坐标信息的第一圆心与图5B的第二坐标信息的第二圆心之间具有距离时的示意图。
[0025]图7A绘示根据本专利技术一实施方式的曝光区的示意图，且图7B绘示图7A的曝光区偏移的示意图。
[0026]图8A绘示根据本专利技术另一实施方式的曝光区的示意图，且图8B绘示图8A的曝光区偏移的示意图。
[0027]图9A绘示根据本专利技术又一实施方式的曝光区的示意图，且图9B绘示图9A的曝光区
偏移的示意图。
具体实施方式
[0028]以下揭示的实施方式内容提供了用于实施所提供的目标的不同特征的许多不同实施方式，或实例。下文描述了元件和布置的特定实例以简化本案。当然，该等实例仅为实例且并不意欲作为限制。此外，本案可在各个实例中重复元件符号及/或字母。此重复用于简便和清晰的目的，且其本身不指定所论述的各个实施方式及/或配置之间的关系。
[0029]诸如“在
……
下方”、“在
……
之下”、“下部”、“在
……
之上”、“上部”等等空间相对术语可在本文中为了便于描述的目的而使用，以描述如附图中所示的一个元件或特征与另一元件或特征的关系。空间相对术语意欲涵盖除了附图中所示的定向之外的在使用或操作中的装置的不同定向。装置可经其他方式定向(旋转90度或以其他定向)并且本文所使用的空间相对描述词可同样相应地解释。
[0030]图1绘示根据本专利技术一实施方式的光刻量测机100的方框图。图2绘示位于图1的光刻量测机100的旋转基座110上的第一光罩200本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻量测机，其特征在于，包含：旋转基座，配置以放置第一光罩、第二光罩、第三光罩以及第四光罩，其中该第一光罩、该第二光罩、该第三光罩以及该第四光罩的每一者具有第一曝光单元、第二曝光单元、第三曝光单元以及第四曝光单元，且该第一光罩、该第二光罩、该第三光罩以及该第四光罩交错排列使该第一光罩的该第一曝光单元、该第二光罩的该第二曝光单元、该第三光罩的该第三曝光单元以及该第四光罩的该第四曝光单元相邻排列以形成曝光区；图像模拟单元，配置以根据该曝光区模拟第一坐标信息，且该第一坐标信息具有第一圆心；扫描电子显微镜，配置以扫描该曝光区，以获得第二坐标信息，且该第二坐标信息具有第二圆心；以及处理器，电性连接该图像模拟单元与该扫描电子显微镜，且该处理器配置以比对该第一坐标信息以及该第二坐标信息。2.根据权利要求1所述的光刻量测机，其中该第一光罩的该第一曝光单元、该第四光罩的该第四曝光单元、该第二光罩的该第二曝光单元以及该第三光罩的该第三曝光单元呈顺时针方向依序排列。3.根据权利要求1所述的光刻量测机，其中当该第一坐标信息的该第一圆心与该第二坐标信息的该第二圆心之间具有距离时，该处理器配置以根据该距离对该旋转基座进行补偿操作。4.根据权利要求1所述的光刻量测机，其中该图像模拟单元根据该曝光区模拟的该第一坐标信息包含GDS文件格式。5.根据权利要求1所述的光刻量测机，其中该处理器配置以比对该曝光区与该第一坐标信息，使该曝光区与该第一坐标信息重叠。6.根据权利要求1所述的光刻量测机，其中该第一光罩的该第一曝光单元位于该第三光罩的...

【专利技术属性】
技术研发人员：傅国贵，
申请(专利权)人：鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：