本发明专利技术公开了一种清扫装置，清扫装置用于清扫单晶炉的副室，且包括支架、清扫组件、行走组件、多个弹性伸缩杆和第一驱动组件，行走组件适于支撑在副室的壁面上以沿副室的轴向竖直运动，行走组件包括多个行走架和多组行走轮组，多个行走架沿支架的周向依次设置，每个行走架的径向内端与支架枢转连接，以使每组行走轮组与支架之间的径向距离可调节，每个弹性伸缩杆相对于支架的轴向倾斜设置且长度可调，且每个弹性伸缩杆的长度两端分别与支架和行走架枢转连接，且每个弹性伸缩杆推动行走架以使行走轮组远离支架。根据本发明专利技术的清扫装置，便于实现单晶炉副室的自动化全面清洁，有效提升清洁效率，且保证了操作人员的作业安全。且保证了操作人员的作业安全。且保证了操作人员的作业安全。
【技术实现步骤摘要】
清扫装置
[0001]本专利技术涉及单晶炉清扫
，尤其是涉及一种清扫装置。
技术介绍
[0002]单晶炉是一种在惰性气体(氩气、氦气为主)环境中，用石墨加热器将多晶硅等多晶材料熔化，用直拉法生长无错位单晶的设备。其中，单晶炉拉出的晶棒暂储至单晶炉的副室内。
[0003]由于单晶体是在持续的高温低压保护气体下生产的，这对单晶炉室内的环境要求严格，因此，当晶棒取出后，需要对单晶炉的炉体内壁上附着的氧化物等进行全面清理，特别是副室。但是，由于副室的结构较为特殊，且副室设置位置较高、副室长度远大于其内径(例如内径位于300mm～600mm、长度位于4000mm～5000mm)，导致副室的清理难度较大。
[0004]目前，大部分单晶炉设备的副室均为人工进行清理，例如人工手持可伸缩拖把在副室正下方进行操作，然而，副室的上部难以清洁到位，且工作强度较大、清洁效率较低，人工清理的效果也不太理想，这对洁净度要求极高的半导体设备带来较大的干扰，降低了生产效率。
技术实现思路
[0005]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种清扫装置，所述清扫装置便于实现单晶炉副室的自动化全面清洁，有效提升清洁效率，且保证了操作人员的作业安全。
[0006]根据本专利技术实施例的清扫装置，所述清扫装置用于清扫单晶炉的副室，且包括：支架；清扫组件，所述清扫组件设在所述支架上，且用于清扫所述副室的壁面；行走组件，所述行走组件设在所述支架上且适于支撑在所述副室的壁面上以沿所述副室的轴向竖直运动，所述行走组件包括多个行走架和多组行走轮组，多个所述行走架沿所述支架的周向依次设置，每个所述行走架上设有一组所述行走轮组，且每个所述行走架的径向内端与所述支架枢转连接，以使每组所述行走轮组与所述支架之间的径向距离可调节；多个弹性伸缩杆，多个所述弹性伸缩杆沿所述支架的周向依次设置，每个所述弹性伸缩杆相对于所述支架的轴向倾斜设置且长度可调，且每个所述弹性伸缩杆的长度两端分别与所述支架和所述行走架枢转连接，且每个所述弹性伸缩杆推动所述行走架以使所述行走轮组远离所述支架；第一驱动组件，所述第一驱动组件用于驱动至少一组所述行走轮组运动，以使多组所述行走轮组沿所述副室的壁面滚动。
[0007]根据本专利技术实施例的清扫装置，便于实现单晶炉副室的自动化全面清洁，有效提升了清洁效率，且操作人员在进行清洁作业时无需站在副室的正下方，有效保证了操作人员的作业安全；同时，通过设置弹性伸缩杆，便于保证行走组件稳定支撑于副室的壁面，壁面清扫装置向下脱落，进一步保证了作业安全性。
[0008]在一些实施例中，所述清扫装置还包括：多个滑移支撑件，多个所述滑移支撑件沿
所述支架的周向依次设置，每个所述滑移支撑件包括滑移件和支撑杆，所述滑移件与所述支架沿所述支架的轴向滑移配合，所述支撑杆的长度两端分别与所述滑移件和所述行走架枢转连接。
[0009]在一些实施例中，多个所述滑移支撑件的所述滑移件固定连接。
[0010]在一些实施例中，所述支架形成为筒状结构，所述筒状结构的周壁上形成有贯通的缺口，所述缺口沿所述筒状结构的轴向贯穿所述筒状结构的轴向两端。
[0011]在一些实施例中，所述筒状结构内设有清洁组件，所述清洁组件用于清洁所述单晶炉的牵引绳，所述牵引绳用于牵引籽晶。
[0012]在一些实施例中，所述清扫装置还包括：距离测量组件，所述距离测量组件设于所述支架的顶部，以用于测量所述支架与所述副室顶端的距离。
[0013]在一些实施例中，所述清扫组件可相对所述支架转动，所述清扫装置还包括：
[0014]第二驱动组件，所述第二驱动组件用于驱动所述清扫组件绕所述支架的中心轴线转动，所述清扫组件包括旋转架和第一清扫刷，所述旋转架直接或间接设在所述支架上，所述第一清扫刷为至少一个且沿所述支架的径向设置以用于清扫所述副室的周壁，所述第一清扫刷与所述旋转架可拆卸相连；和/或，所述第一清扫刷通过弹性件与所述旋转架相连，在所述支架的径向上，所述弹性件推动所述第一清扫刷远离所述支架。
[0015]在一些实施例中，所述清扫组件还包括：第二清扫刷，所述第二清扫刷沿所述支架的轴向设置以用于清扫所述副室的顶壁。
[0016]在一些实施例中，所述行走轮组包括沿所述支架的轴向间隔设置的多个行走轮，所述行走架构造成使得所述行走轮组的多个所述行走轮与所述支架之间的径向距离同步调节。
[0017]在一些实施例中，所述行走架包括：第一连杆，所述第一连杆为多个，多个所述第一连杆平行且沿所述支架的轴向间隔设置，多个所述第一连杆的长度相等，每个所述第一连杆的径向内端分别与所述支架枢转连接，所述第一连杆的长度两端之间具有连接部，所述连接部与所述弹性伸缩杆的长度一端枢转连接；第二连杆，所述第二连杆沿所述支架的轴向延伸，且与多个所述第一连杆的径向外端均枢转连接，所述行走轮组的多个所述行走轮沿所述第二连杆的长度方向间隔设于所述第二连杆上。
[0018]本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。
附图说明
[0019]本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0020]图1是根据本专利技术一个实施例的清扫装置的示意图；
[0021]图2是图1中所示的清扫装置的另一个示意图；
[0022]图3是图1中所示的清扫装置的再一个示意图；
[0023]图4是图1中所示的清扫装置的又一个示意图；
[0024]图5是图1中所示的清扫装置的仰视图；
[0025]图6是图1中所示的清扫装置的俯视图。
[0026]附图标记：
[0027]100、清扫装置；
[0028]1、支架；1a、筒状结构；1b、缺口；
[0029]2、清扫组件；21、旋转架；22、第一清扫刷；23、第二清扫刷；
[0030]3、行走组件；
[0031]31、行走架；311、第一连杆；311a、连接部；312、第二连杆；
[0032]32、行走轮组；321、行走轮；
[0033]4、弹性伸缩杆；5、第一驱动组件；
[0034]6、滑移支撑件；61、滑移件；62、支撑杆；
[0035]7、清洁组件；8、距离测量组件；9、第二驱动组件、
[0036]10a、控制器；10b、电源。
具体实施方式
[0037]下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。
[0038]下文的公开提供了许多不同的实施例或例子用来实现本专利技术的不同结构。为了简化本专利技术的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种清扫装置(100)，其特征在于，所述清扫装置(100)用于清扫单晶炉的副室，且包括：支架(1)；清扫组件(2)，所述清扫组件(2)设在所述支架(1)上，且用于清扫所述副室的壁面；行走组件(3)，所述行走组件(3)设在所述支架(1)上且适于支撑在所述副室的壁面上以沿所述副室的轴向竖直运动，所述行走组件(3)包括多个行走架(31)和多组行走轮组(32)，多个所述行走架(31)沿所述支架(1)的周向依次设置，每个所述行走架(31)上设有一组所述行走轮组(32)，且每个所述行走架(31)的径向内端与所述支架(1)枢转连接，以使每组所述行走轮组(32)与所述支架(1)之间的径向距离可调节；多个弹性伸缩杆(4)，多个所述弹性伸缩杆(4)沿所述支架(1)的周向依次设置，每个所述弹性伸缩杆(4)相对于所述支架(1)的轴向倾斜设置且长度可调，且每个所述弹性伸缩杆(4)的长度两端分别与所述支架(1)和所述行走架(31)枢转连接，且每个所述弹性伸缩杆(4)推动所述行走架(31)以使所述行走轮组(32)远离所述支架(1)；第一驱动组件(5)，所述第一驱动组件(5)用于驱动至少一组所述行走轮组(32)运动，以使多组所述行走轮组(32)沿所述副室的壁面滚动。2.根据权利要求1所述的清扫装置(100)，其特征在于，还包括：多个滑移支撑件(6)，多个所述滑移支撑件(6)沿所述支架(1)的周向依次设置，每个所述滑移支撑件(6)包括滑移件(61)和支撑杆(62)，所述滑移件(61)与所述支架(1)沿所述支架(1)的轴向滑移配合，所述支撑杆(62)的长度两端分别与所述滑移件(61)和所述行走架(31)枢转连接。3.根据权利要求2所述的清扫装置(100)，其特征在于，多个所述滑移支撑件(6)的所述滑移件(61)固定连接。4.根据权利要求1所述的清扫装置(100)，其特征在于，所述支架(1)形成为筒状结构(1a)，所述筒状结构(1a)的周壁上形成有贯通的缺口(1b)，所述缺口(1b)沿所述筒状结构(1a)的轴向贯穿所述筒状结构(1a)的轴向两端。5.根据权利要求4所述的清扫装置(100)，其特征在于，所述筒状结构(1a)内设有清洁组件(7)，所述清洁组件(7)用于清洁所述单晶炉的牵引绳，所述牵引绳用于牵引籽晶。6.根据权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：张龙飞，张兆新，
申请(专利权)人：徐州鑫晶半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。