与ALD反应器连接的气体分配单元制造技术

本发明专利技术涉及与原子层沉积反应器连接的气体分配单元(10)。该气体分配单元(10)包括：入口表面(14)；出口表面(16)；工艺气体通道(20，40)，其延伸穿过气体分配单元(10)并向入口表面(14)和出口表面(16)开放；阻隔气体入口配件(26，46，30，33)，其在入口表面(14)和出口表面(16)之间被连接至工艺气体通道(20，40)，以将阻隔气体供应至工艺气体通道(20，40)；以及阻隔气体出口配件(28，48，34，39)，其在入口表面(14)和阻隔气体入口配件(26，46，30，33)之间被连接至工艺气体通道(20，40)，以从工艺气体通道(20，40)排放阻隔气体。40)排放阻隔气体。40)排放阻隔气体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】与ALD反应器连接的气体分配单元


[0001]本专利技术涉及与ALD反应器连接的气体分配单元，以及更具体地涉及根据权利要求1的前序部分的气体分配单元。

技术介绍

[0002]反应室是ALD(原子层沉积)反应器的主要部件，其中放置了待处理的基材。ALD工艺基于在基材的表面上至少两种不同前体气体的连续饱和表面反应，其中饱和表面反应在基材的表面上提供涂覆层或膜生长。因此，每个前体气体或工艺气体被单独地供应为与基材的表面接触。前体气体及其之间的吹扫气体以顺序供应脉冲的形式被供应到反应室，以使基材的表面连续地经受至少两种前体气体。
[0003]在ALD反应器中，实现良好的流体动力学和尖锐脉冲是重要的。为了锐化脉冲并且有时也作为仅有的阻隔物，其中使用被称为惰性气体的阀式调节(inert gas valving)的原理，通过惰性气体的适当的供给和流动，反应气体向反应室和基材的流动被阻止。
[0004]上面提到的惰性气体的阀式调节功能是尽可能接近反应室进行的，以防止供给管道或供给通道的后置阻隔段引起前体成分脉冲的拖尾部分(tail)，即从表面释本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种与原子层沉积反应器连接的气体分配单元(10)，所述原子层沉积反应器包括反应室，所述气体分配单元(10)包括用于供给前体气体和阻隔气体的气体通道(20，26，28，30，40，46，48)，其特征在于，所述气体分配单元(10)包括：
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入口表面(14，52)，气体经由所述入口表面(14，52)被供应至所述气体分配单元(10)中；
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出口表面(16，64)，前体气体经由所述出口表面(16，64)从所述气体分配单元(10)被排放；
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工艺气体通道(20，40)，所述工艺气体通道(20，40)延伸穿过所述气体分配单元(10)并向所述入口表面(14，52)和所述出口表面(16，64)开放；
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阻隔气体入口配件(26，46，30，33)，所述阻隔气体入口配件(26，46，30，33)在所述入口表面(14，52)和所述出口表面(16，64)之间被连接至所述工艺气体通道(20，40)，以将阻隔气体供应至所述工艺气体通道(20，40)；以及
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阻隔气体出口配件(28，48，34，39)，所述阻隔气体出口配件(28，48，34，39)在所述入口表面(14，52)和所述阻隔气体入口配件(26，46，30，33)之间被连接至所述工艺气体通道(20，40)，以从所述工艺气体通道(20，40)排放阻隔气体。2.根据权利要求1所述的气体分配单元(10)，其特征在于，所述阻隔气体入口配件(26，46，30，33)包括在所述入口表面(14，52)和所述出口表面(16，64)之间被连接至所述工艺气体通道(30，40)的阻隔气体供应通道(26，46)。3.根据权利要求1或2所述的气体分配单元(10)，其特征在于，所述阻隔气体入口配件(30，33)包括：
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阻隔气体分配腔(32)和阻隔气体入口通道(30)，所述阻隔气体入口通道(30)被设置在所述入口表面(14，52)和所述阻隔气体分配腔(32)之间；或者
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阻隔气体分配腔(32)和阻隔气体入口通道(30)，所述阻隔气体入口通道(30)被设置在所述入口表面(14，52)和所述阻隔气体分配腔(32)之间，并且所述阻隔气体供应通道(26，46)被设置在所述阻隔气体分配腔(32)和所述工艺气体通道(20，40)之间。4.根据权利要求3所述的气体分配单元(10)，其特征在于，所述阻隔气体分配腔(32)被设置在所述入口表面(14，52)和所述出口表面(16，64)之间。5.根据权利要求1或2所述的气体分配单元(10)，其特征在于，所述阻隔气体入口配件(30，33)包括阻隔气体入口通道(30)，所述阻隔气体入口通道(30)在所述入口表面(14，52)和所述阻隔气体供应通道(26，46)之间延伸。6.根据权利要求1至5中任一项所述的气体分配单元(10)，其特征在于，所述阻隔气体出口配件(28，48，34，39)包括阻隔气体排放通道(28，48)，所述阻隔气体排放通道(28，48)在所述入口表面(14，52)和所述阻隔气体供应通道(26，46)之间被连接至所述工艺气体通道(20，40)。7.根据权利要求1至6中任一项所述的气体分配单元(10)，其特征在于，所述阻隔气体出口配件(28，48，34，39)包括阻隔气体收集腔(34)和所述阻隔气体排放通道(28，48)，所述阻隔气体排放通道(28，48)在所述工艺气体通道(20，40)和所述阻隔气体收集腔(34)之间延伸。8.根据权利要求7所述的气体分配单元(10)，其特征在于，所述阻隔气体收集腔(34)被
设置：
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在所述入口表面(14，52)和所述出口表面(16，64)之间；或者
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在所述入口表面(14，52)和所述阻隔气体分配腔(32)之间；或者
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在所述入口表面(14，52)和所述阻隔气体供应通道(26，46)之间。9.根据权利要求2至8中任一项所述的气体分配单元(10)，其特征在于，所述气体分配单元(10)包括：
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第一工艺气体通道(20)，所述第一工艺气体通道(20)延伸穿过所述气体分配单元(10)并向所述入口表面(14，52)和所述出口表面(16，64)开放；
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第二工艺气体通道(40)，所述第二工艺气体通道(40)延伸穿过所述气体分配单元(10)并向所述入口表面(14，52)和所述出口表面(16，64)开放；
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第一阻隔气体供应通道(26)，所述第一阻隔气体供应通道(26)在所述入口表面(14，52)和所述出口表面(16，64)之间被连接至所述第一工艺气体通道(20)；
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第二阻隔气体供应通道(46)，所述第二阻隔气体供应通道(46)在所述入口表面(14，52)和所述出口表面...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：BENEQ有限公司，
类型：发明
国别省市：