一种支撑装置及CVD反应器制造方法及图纸

本实用新型专利技术实施例公开了一种支撑装置及CVD反应器，涉及产品放置架技术领域。所述支撑装置包括多个支撑柱，多个圆形骨架，第一支撑架以及第二支撑架；多个支撑柱呈圆形布置；多个圆形骨架间隔设置在多个支撑柱上；第一支撑架设置在圆形骨架内，用于支撑产品；第二支撑架设置在支撑柱上，用于固定各支撑柱。本实用新型专利技术实施例提出的支撑装置中，多个圆形骨架间隔设置在多个支撑柱上，每个圆形骨架内均设有用于支撑产品的第一支撑架，从而极大提高了空间利用率，使得支撑装置能够放置更多产品。进一步地，圆形骨架稳定性好，并且，通过第二支撑架能够更好固定支撑柱，使得支撑更加稳定，支撑性更好，有助于上下层空间的气流均匀分布。有助于上下层空间的气流均匀分布。有助于上下层空间的气流均匀分布。

【技术实现步骤摘要】
一种支撑装置及CVD反应器


[0001]本技术涉及产品放置架
，尤其涉及一种支撑装置及CVD反应器。

技术介绍

[0002]CVD是Chemical Vapor Deposition的简称，是指高温下的气相反应。CVD反应器是指用于进行CVD的反应器。CVD反应器中通常设有放置产品的置物架，现有置物架存在如下缺点：
[0003]1、可存放的产品数量少。
[0004]2、支撑性及稳定性差。
[0005]3、干扰气场平均分布。
[0006]4、上下层产品存在气场遮挡等。

技术实现思路

[0007]本技术实施例所要解决的技术问题是现有CVD反应器的置物架可存放的产品数量少及支撑性及稳定性差的问题。
[0008]为了解决上述问题，本技术实施例提出如下技术方案：
[0009]第一方面，本技术实施例提出一种支撑装置，所述支撑装置包括多个支撑柱，多个圆形骨架，第一支撑架以及第二支撑架；多个支撑柱呈圆形布置；多个圆形骨架间隔设置在多个支撑柱上；第一支撑架设置在圆形骨架内，用于支撑产品；第二支撑架本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种支撑装置，其特征在于，包括多个支撑柱，多个圆形骨架，第一支撑架以及第二支撑架；多个支撑柱呈圆形布置；多个圆形骨架间隔设置在多个支撑柱上；第一支撑架设置在圆形骨架内，用于支撑产品；第二支撑架设置在支撑柱上，用于固定各支撑柱。2.根据权利要求1所述的支撑装置，其特征在于，第一支撑架包括多个第一支撑杆，多个第一支撑杆平行设置，第一支撑杆的两端分别与圆形骨架连接。3.根据权利要求2所述的支撑装置，其特征在于，第一支撑杆的两端分别通过石墨铆钉或者碳碳铆钉与圆形骨架连接。4.根据权利要求3所述的支撑装置，其特征在于，第二支撑架包括多个第二支撑杆，多个第二支撑杆交叉设置，第二支撑杆的两端分别与支撑...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱建中，于伟华，鞠德胜，万荣群，
申请(专利权)人：宜兴市海飞陵电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：