一种RH装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种RH装置，涉及真空处理技术领域，解决了相关技术中真空室下部侧壁耐材被冲击较为严重的技术问题，提高RH脱碳速率和缩短精炼真空时间。本RH装置包括真空室和两个浸渍管，真空室的横截面呈椭圆形设置，两个浸渍管设置于真空室下方，浸渍管均与真空室连通，真空室的椭圆形横截面的长轴方向与两个浸渍管的排列方向一致。从降速和增距两方面，改善改善真空室下部侧壁耐材被冲击较严重的缺陷，提高下部侧壁耐材的使用寿命，有利于持续生产和成本控制。生产和成本控制。生产和成本控制。

【技术实现步骤摘要】
一种RH装置


[0001]本技术涉及真空处理
，尤其涉及一种RH装置。

技术介绍

[0002]在现代化炼钢生产中，精炼真空装置成为了不可或缺的工装，其中RH精炼装置应用最为广泛，研究重点包括如何提升RH精炼脱碳速率。RH精炼装置的真空室内壁包括上、中、下三层侧壁耐材，在RH精炼装置使用过程中，钢液自浸渍管进入真空室后，真空室下部侧壁耐材被冲击较为严重(如图1所示)，使得下部侧壁耐材须定时更换，影响下层耐材的使用寿命，不利于生产和成本控制。

技术实现思路

[0003]本申请提供一种RH装置，解决了相关技术中真空室下部侧壁耐材被冲击较为严重的技术问题。
[0004]本申请提供一种RH装置，包括真空室和两个浸渍管，真空室的横截面呈椭圆形设置，两个浸渍管设置于真空室下方，两个浸渍管均与真空室连通，真空室的椭圆形横截面的长轴方向与两个浸渍管的排列方向一致。
[0005]可选地，浸渍管的横截面均呈椭圆形设置，浸渍管的椭圆形横截面的长轴方向与两个浸渍管的排列方向一致。
[0006]可选地，两个浸渍管的焦点均位于真空室本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种RH装置，其特征在于，包括：真空室，所述真空室的横截面呈椭圆形设置；两个浸渍管，两个所述浸渍管设置于所述真空室下方，且两个所述浸渍管均与所述真空室连通；所述真空室的椭圆形横截面的长轴方向与两个所述浸渍管的排列方向一致。2.如权利要求1所述的RH装置，其特征在于，所述浸渍管的横截面均呈椭圆形设置，所述浸渍管的椭圆形横截面的长轴方向与两个所述浸渍管的排列方向一致。3.如权利要求2所述的RH装置，其特征在于，两个所述浸渍管的焦点均位于所述真空室的椭圆形横截面的长轴上，且两个所述浸渍管对称分布；沿长轴方向，所述浸渍管的管壁与所述真空室的侧壁之间的间距为所述浸渍管的长轴长度的0.25～0.45倍。4.如权利要求1所述的RH装置，其特征在于，所述浸渍管的横截面均呈圆形设置；两个所述浸渍管的横...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙亮，史志强，冀建立，俞学成，江腾飞，常朋飞，高攀，
申请(专利权)人：北京首钢股份有限公司，
类型：新型
国别省市：