一种匀胶装置及匀胶机制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种匀胶装置及匀胶机，包括：圆形的转动载台，用于承载待涂胶的工件，所述转动载台上设有与所述转动载台同圆心的圆形导轨；驱动机构，所述驱动机构驱动所述转动载台转动；以及限位组件，所述限位组件包括至少两根固定的支撑杆，所述支撑杆的支撑端设有与所述圆形导轨配合的滚轮，所述滚轮在所述圆形导轨上随所述转动载台的转动而转动，至少两根支撑杆在所述圆形导轨上均匀分布对所述转动载台形成限位支撑。其通过滚轮与转动载台的配合，形成了对转动载台转动的导向限位，从而减小了转动载台旋转时的晃动幅度，保证了转动载台上晶圆工件的平稳转动。由此可提高晶圆表面涂布的光刻胶厚度的均匀性，提升了产品的质量。量。量。

【技术实现步骤摘要】
一种匀胶装置及匀胶机


[0001]本技术涉及芯片制造领域，尤其涉及一种匀胶装置及匀胶机。

技术介绍

[0002]在芯片制造工艺中，需要对切割出的晶圆进行涂膜，以提高晶圆抵抗氧化以及耐温的能力，晶圆表面涂布的光阻薄膜可为光刻胶，涂胶时必须保证光刻胶厚度的均匀性。光刻胶厚度的均匀性除受到光刻胶本身特性、环境温度等的影响外，还会受到晶圆旋转涂胶时晶圆的晃动幅度的影响，在晶圆旋转的晃动幅度较大时，会严重影响晶圆表面光刻胶厚度的均匀性。
[0003]因此，如何提高晶圆表面光刻胶涂布的均匀性是亟需解决的问题。

技术实现思路

[0004]鉴于上述相关技术的不足，本申请的目的在于提供一种匀胶装置及匀胶机，旨在解决晶圆表面光刻胶涂布的均匀性问题。
[0005]一种匀胶装置，其特征在于，包括：
[0006]圆形的转动载台，用于承载待涂胶的工件，所述转动载台上设有与所述转动载台同圆心的圆形导轨；
[0007]驱动机构，所述驱动机构驱动所述转动载台转动；
[0008]以及限位组件，所述限位组件包括至少两根固定的支撑杆，所述支撑杆的支撑端设有与所述圆形导轨配合的滚轮，所述滚轮在所述圆形导轨上随所述转动载台的转动而转动，所述至少两根支撑杆在所述圆形导轨上均匀分布对所述转动载台形成限位支撑。
[0009]上述匀胶装置通过支撑杆上的滚轮与转动载台的圆形导轨之间的配合，形成了对转动载台外圆周的支撑，从而减小了转动载台旋转时的晃动幅度，保证了转动载台上待涂胶工件即晶圆的平稳转动。由此可提高待涂胶工件即晶圆表面涂布的光刻胶厚度的均匀性，提升了产品的质量。滚轮具有减小摩擦的作用，既可保证限位组件对转动载台转动的限位，也可减小转动载台旋转的阻力。
[0010]可选地，所述圆形导轨包括设置在转动载台侧壁上的第一圆形导轨，所述限位组件包括在所述第一圆形导轨上均匀分布的至少两根第一支撑杆。至少两根第一支撑杆通过滚轮与转动载台侧壁的第一圆形导轨配合，形成了对转动载台外圆周的支撑，从而减小转动载台旋转时的晃动幅度。
[0011]可选地，所述圆形导轨包括设置在所述转动载台远离所述工件的一面上设置的第二圆形导轨，所述限位组件包括在所述第二圆形导轨上均匀分布的至少两根第二支撑杆。至少两根第二支撑杆通过滚轮与转动载台侧壁的第二圆形导轨配合，也可形成对转动载台外圆周的支撑，从而减小转动载台旋转时的晃动幅度。
[0012]基于同样的技术构思，本申请还提供一种匀胶机，包括如上所述的匀胶装置。
[0013]上述匀胶机可减小转动载台旋转时的晃动幅度，保证了转动载台上待涂胶工件即
晶圆的平稳转动，由此提高了晶圆表面涂布的光刻胶厚度的均匀性。
附图说明
[0014]图1为本技术实施例提供的一种匀胶装置示意图；
[0015]图2为图1的A放大图；
[0016]图3为本技术实施例提供的一种限位组件的示意图；
[0017]图4为本技术实施例提供的另一种限位组件的示意图；
[0018]图5为本技术实施例提供的圆形导轨与滚轮配合的另一种示意图；
[0019]图6为图5的B放大图；
[0020]图7为本技术实施例提供的固定支撑杆的另一种示意图；
[0021]图8为本技术另一可选实施例提供的匀胶装置示意图；
[0022]图9为图8的C放大图；
[0023]图10为图8的D
‑
D剖视图；
[0024]图11为本技术又一可选实施例提供的匀胶装置示意图；
[0025]附图标记说明：
[0026]1‑
转动载台，101
‑
圆形导轨，2
‑
驱动机构，3
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限位组件，301
‑
第一支撑杆，302
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第一滚轮，303
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第二支撑杆，304
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第二滚轮，4
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护罩，5
‑
晶圆。
具体实施方式
[0027]为了便于理解本申请，下面将参照相关附图对本申请进行更全面的描述。附图中给出了本申请的较佳实施方式。但是，本申请可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本申请的公开内容理解的更加透彻全面。
[0028]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本申请。
[0029]晶圆表面光刻胶厚度的均匀性会受到晶圆旋转涂胶时晶圆的晃动幅度的影响，在晶圆旋转的晃动幅度较大时，会严重影响晶圆表面光刻胶厚度的均匀性。
[0030]基于此，本申请希望提供一种能够解决上述技术问题的方案，其详细内容将在后续实施例中得以阐述。
[0031]一种匀胶装置，如图1
‑
图6，包括：
[0032]圆形的转动载台1，用于承载待涂胶的工件，所述转动载台1上设有与所述转动载台1同圆心的圆形导轨101；所述工件可随转动载台1一起转动，该工件可为待涂光刻胶的晶圆，但不限于晶圆，也可为其它需要进行表面涂胶加工的零件，如滤光片。
[0033]驱动机构2，所述驱动机构2驱动所述转动载台1转动；
[0034]以及限位组件3，所述限位组件3包括至少两根固定的支撑杆，所述支撑杆的支撑端设有与所述圆形导轨101配合的滚轮，所述滚轮在所述圆形导轨101上随所述转动载台1的转动而转动，所述至少两根支撑杆在所述圆形导轨101上均匀分布对所述转动载台1形成限位支撑。
[0035]示例性的，所述匀胶装置还包括护罩4，所述转动载台1和所述驱动机构2设于所述护罩4内，所述支撑杆固定在所述护罩4的侧壁上。所述护罩4上端为开口，便于待涂胶工件在转动载台1上的安装。护罩4可防止胶在转动载台1转动过程中向四周外洒，由此避免了污染、浪费。或者，如图7，支撑杆还可固定在用于固定本技术匀胶装置的基台上，本实施例选择将支撑杆固定在所述护罩4的侧壁上。
[0036]示例性的，所述圆形导轨101包括设置在转动载台1侧壁上的第一圆形导轨，所述限位组件3包括在所述第一圆形导轨上均匀分布的至少两根第一支撑杆301。至少两根第一支撑杆301通过滚轮与转动载台1侧壁的第一圆形导轨配合，形成了对转动载台1外圆周的支撑，不仅限制了转动载台1转动时圆周的晃动幅度，还可限制转动载台1上下波动的幅度，从而减小转动载台1旋转时的波动。对转动载台1转动的限位好，有利于提高涂胶的均匀性。
[0037]在上述实施方式中，所述第一圆形导轨设置环形槽，所述第一支撑杆301的支撑端设置第一滚轮302，所述第一滚轮302配合在所述环形槽中。所述第一滚轮302配合在环形槽中可形成第一支撑杆301对转动载台1外圆周的支撑。
[0038本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种匀胶装置，其特征在于，包括：圆形的转动载台(1)，用于承载待涂胶的工件，所述转动载台(1)上设有与所述转动载台(1)同圆心的圆形导轨(101)；驱动机构(2)，所述驱动机构(2)驱动所述转动载台(1)转动；以及限位组件(3)，所述限位组件(3)包括至少两根固定的支撑杆，所述支撑杆的支撑端设有与所述圆形导轨(101)配合的滚轮，所述滚轮在所述圆形导轨(101)上随所述转动载台(1)的转动而转动，所述至少两根支撑杆在所述圆形导轨(101)上均匀分布对所述转动载台(1)形成限位支撑。2.如权利要求1所述的匀胶装置，其特征在于，所述匀胶装置还包括护罩(4)，所述转动载台(1)和所述驱动机构(2)设于所述护罩(4)内，所述支撑杆固定在所述护罩(4)的侧壁上。3.如权利要求1所述的匀胶装置，其特征在于，所述圆形导轨(101)包括设置在转动载台(1)侧壁上的第一圆形导轨，所述限位组件(3)包括在所述第一圆形导轨上均匀分布的至少两根第一支撑杆(301)。4.如权利要求3所述的匀胶装置，其特征在于，所述第一圆形导轨设置环形槽，所述第一支撑杆(301)的支撑端设置第一滚轮(302)，所述第一滚轮(302)配合在所述环形槽中。5.如权利要求3所述的匀胶装...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊超超，
申请(专利权)人：重庆康佳光电技术研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：