一种有机发光显示设备，包括： 基底，包括多个薄膜晶体管装置； 显示区，形成在基底上， 其中，显示区包括： 基体层，包括多个像素限定层和电连接到薄膜晶体管装置的多个第一电极； 有机层，覆盖多个像素限定层和多个第一电极，其中，有机层包括设置在第一电极上并设置在像素限定层之间的有机发射层； 第二电极层，完全覆盖基体层和有机层的外围。
【技术实现步骤摘要】
本公开总地涉及一种有机发光显示设备，更具体地讲，涉及一种抵抗有 机发射层因与杂质(例如，氧和潮气)的接触而劣化的有机发光显示设备。
技术介绍
有机发光显示设备具有置于像素电极和相对电极之间的由有机物质形成 的发射层。在有机发光显示设备的实施例中，当向电极施加正电压和负电压 时，从像素电极注入的空穴经过空穴传输层移动到发射层中，从相对电极注 入的电子经过电子传输层移动到发射层。电子和空穴结合，在发射层中形成 激子。随着激子从激发态弛豫(relax)到基态，激子将能量传递给发射层中 的磷光体分子，使得磷光体分子发光，从而形成图像。由于有机发光显示设备的实施例响应时间快、视角宽且对比度极好，所 以它们被认为是下一代的显示装置。然而，包括有机发射层的有机层会受潮 气和氧的影响，因此，当潮气和/或氧渗透到发光单元的显示区中时，装置的 寿命严重受损。在普通的有机发光显示设备中，用金属盖(metal cap)或包封基底包封 显示区的外围，并且用密封剂密封显示区的外围。此外， 一些实施例在密封 的空间内包括吸潮剂。然而，在许多情况下，这些方法没有充分地阻挡外界 的氧或潮气。
技术实现思路
在此提供一种抵抗外界的潮气和氧渗透的有机发光显示设备。 一些实施例提供了一种有机发光显示设备，该有机发光显示设备包括基底，包括多个薄膜晶体管(TFT)装置；显示区，形成在基底上。其中， 显示区包括基体层，包括电连接到TFT装置的第一电极并限定像素区；有 机层，形成在基体层上；第二电极层，以完全覆盖基体层和有机层的结构形 成。有机层可至少包括含有小分子有机物质的发射层。有机层可以是空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层和空 穴阻挡层中的至少一种。基体层还可包括像素限定层，该像素限定层以预定的厚度形成在第一电 极之间。基体层还可包括哑像素区。有机发光显示设备还可包括电极布线部分，所述电极布线部分在显示区 的一侧电连接到第二电极层，可这样形成电极布线部分，使得第二电极层可 覆盖电极布线部分。有机发光显示设备还可包括在TFT装置和第一电极之间的平坦化膜。第二电极层可由光可渗透材料形成。有机发光显示设备还可包括向显示区发送各种信号的装置单元和向显示 区供应电功率的电源单元，其中，装置单元和电源单元形成在基底上。有机发光显示设备还可包括密封显示区的包封结构，包封结构形成在基 底上。可通过在显示区上交替地沉积有机层和无机层来形成包封结构。其它实施例提供了一种有机发光显示设备，该有机发光显示设备包括 基底，包括多个TFT装置；显示区，形成在基底上。其中，显示区包括基 体层，包括电连接到TFT装置的第一电极并限定像素区；有机层，形成在基 体层上；第二电极层，延伸超过有机层的外围大于100pm。有机层包括含有至少 一种小分子有机物质的发射层。有机层是空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层和空穴阻 挡层中的至少一种。基体层还可包括像素限定层，该像素限定层具有预定的厚度并形成在第 一电才及之间。基体层还包括哑像素区。有机发光显示设备还可包括电极布线部分，所述电极布线部分在显示区的一侧电连接到第二电极层，可这样形成电极布线部分，使得第二电极层可 覆盖电极布线部分。有机发光显示设备还可包括在TFT装置和第一电极之间的平坦化膜。第二电极层可由光可渗透材料形成。有机发光显示设备还可包括向显示区发送各种信号的装置单元和/或向 显示区供应电功率的电源单元。有机发光显示设备还可包括形成在基底上并密封显示区的包封结构。可通过交替地沉积有机层和无机层来形成包封结构。其它实施例提供了 一种有机发光显示设备，该有机发光显示设备包括 基底，包括多个薄膜晶体管(TFT)装置；显示区，形成在基底上，其中， 显示区包括基体层，包括多个像素限定层和电连接到TFT装置的多个第一 电极；有机层，覆盖多个像素限定层和多个第一电极，其中，有机层包括有 机发射层，有机发射层设置在第一电极上并在像素限定层之间；第二电极层， 完全覆盖基体层和有机层的外围。在一些实施例中，有机发射层包括至少一种小分子有机物质。在一些实 施例中，有机层包括空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层和 空穴阻挡层中的至少一种。在一些实施例中，基体层还包括哑像素区。一些实施例还包括电极布线部分，所述电极布线部分设置在显示区的一 侧并电连接到第二电极层，其中，第二电极层覆盖电极布线部分。一些实施例还包括在TFT装置和第 一 电极之间的平坦化膜。在一些实施例中，第二电极层包含透明材料。一些实施例还包括被构造为向显示区发送信号的装置单元和向显示区供 应电功率的电源单元，其中，装置单元和电源单元形成在基底上。一些实施例还包括包封结构，包封结构设置在基底上并密封显示区。在 一些实施例中，包封结构包括在显示区设置的交替的有机层和无机层。其它实施例提供了一种有机发光显示设备，该有机发光显示设备包括 基底，包括多个TFT装置；显示区，形成在基底上。其中，显示区包括基 体层，包括多个像素限定层和电连接到TFT装置的多个第一电极；有机层， 覆盖多个像素限定层和多个第一电极，其中，有机层包括有机发射层，有机 发射层设置在第一电极上并在像素限定层之间；第二电极层，覆盖有机层，并在有机层的外围的周围形成具有大于大约lOOμm的宽度的容限。在一些实施例中，有机发射层包括至少一种小分子有机物质。在一些实施例中，有机层包括空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层和空穴阻挡层中的至少一种。在一些实施例中，基体层还包括哑像素区。一些实施例还包括电极布线部分，所述电极布线部分设置在显示区的一 侧并电连接到第二电极层，其中，第二电极层覆盖电极布线部分。一些实施例还包括设置在TFT装置和第一电极之间的平坦化膜。 在一些实施例中，第二电极层包含透明材料。一些实施例还包括被构造为向显示区发送信号的装置单元和向显示区供 应电功率的电源单元中的至少一个。一些实施例还包括包封结构，包封结构设置在基底上并密封显示区。在 一些实施例中，包封结构包括在显示区设置的交替的有机层和无机层。附图说明通过参照附图详细地描述本专利技术的示例性实施例，本专利技术的上述和其它 特征及优点将变得更加清楚，在附图中图1是根据一个实施例的有机发光显示设备的示意性平面图2是沿着剖面线I1-II截取的图1中的设备的剖视图3是图2中的局部(detail) III的放大图4是根据另一实施例的有机发光显示设备的平面图5是沿着剖面线V-V截取的图4中的设备的剖对见图6是根据对比例的有机发光显示设备的平面图7是沿着剖面线VII-VII截取的图6中的设备的剖视图8是根据又一 实施例的有机发光显示设备的示意性平面图9是根据又一实施例的有机发光显示设备的示意性平面图10是根据又 一 实施例的有机发光显示设备的示意性平面图ll是沿着图10中的剖面线XI-XI截取的剖视图12和图13是根据其它实施例的有机发光显示设备的示意性剖视图。具体实施例方式现在将参照附图来更充分地描述特定实施例，示例性实施例示出在附图中。图1至图3示出了根据一个实施例的有机发光显示设备。图1是当前实 施例的有机发光显示设备的示意性平面图。图2是沿着剖面线II-II截取的 图1中的设备的剖视图，图3是图2中的局部III的放大本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种有机发光显示设备，包括：基底，包括多个薄膜晶体管装置；显示区，形成在基底上，其中，显示区包括：基体层，包括多个像素限定层和电连接到薄膜晶体管装置的多个第一电极；有机层，覆盖多个像素限定层和多个第一电极，其中，有机层包括设置在第一电极上并设置在像素限定层之间的有机发射层；第二电极层，完全覆盖基体层和有机层的外围。
【技术特征摘要】
1、一种有机发光显示设备，包括基底，包括多个薄膜晶体管装置；显示区，形成在基底上，其中，显示区包括基体层，包括多个像素限定层和电连接到薄膜晶体管装置的多个第一电极；有机层，覆盖多个像素限定层和多个第一电极，其中，有机层包括设置在第一电极上并设置在像素限定层之间的有机发射层；第二电极层，完全覆盖基体层和有机层的外围。2、 如权利要求1所述的有机发光显示设备，其中，有机发射层包括至少 一种小分子有机物质。3、 如权利要求2所述的有机发光显示设备，其中，有机层包括空穴注入 层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层和空穴阻挡层中的至少一种。4、 如权利要求1所述的有机发光显示设备，其中，基体层还包括哑像素区。5、 如权利要求1所述的有机发光显示设备，还包括电极布线部分，所述 电极布线部分设置在显示区的一侧并电连接到第二电极层，其中，第二电极 层覆盖电极布线部分。6、 如权利要求1所述的有机发光显示设备，还包括在薄膜晶体管装置和 第 一 电极之间的平坦化膜。7、 如权利要求1所述的有机发光显示设备，其中，第二电极层包含透明 材料。8、 如权利要求1所述的有机发光显示设备，还包括被构造为向显示区发 送信号的装置单元和向显示区供应电功率的电源单元，其中，装置单元和电 源单元形成在基底上。9、 如权利要求1所述的有机发光显示设备，还包括设置在基底上并密封 显示区的包封结构。10、 如权利要求9所述的有机发光显示设备，其中，包封结构包括在显 示区设置的交替的有机层和无机层。11、 一种有机发光显示设备，包括...
【专利技术属性】
技术研发人员：崔元奎，白智然，
申请(专利权)人：三星SDI株式会社，
类型：发明
国别省市：KR
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