晶体硅太阳能电池的热处理方法技术

技术编号:3173624 阅读:237 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及太阳电池的生产方法,具体地说是一种晶体硅太阳电池的热处理方法。这种方法包括:a.进舟:将一批硅片,竖插入石英舟中,置于扩散炉的硅碳浆上,将硅片推入有高温度的扩散炉管温区中;b.回温:使扩散炉管温区温度恢复至860~900℃;c.通源:在扩散炉温度达到稳定后,通入含磷的气体源,在硅片上生成含磷的磷硅玻璃氧化层;d.再扩:在不通源的情况下,将磷硅玻璃内和进入硅片中的含磷杂质进一步向硅片内部扩散,起到杂质再分布和结深推进作用;e.降温:然后将扩散炉管温区的炉温由860~900℃降低到730~770℃;f.出舟:将装有扩散好硅片的石英舟拉出扩散温区,到达室温区停留。利用该方法可获得一种太阳电池合适的N区磷杂质分布,并兼有部份的退火吸杂效应,以适应不同硅片材料的加工,同时不增加原有的工艺时间。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及太阳电池的生产方法,具体地说是一种晶体硅太阳电池的热处 理方法。技术背景通过在P型硅片表面掺杂N型杂质,从而形成P-N结的过程,称之为扩散。 通过氮气携带POCl3,并同时通入氧气,使加热炉管中的硅片表面生成含磷的氧 化层,在高温下,磷从氧化层扩散到硅中,从而在P型硅片表面形成一层薄的 重掺杂的N型区。这个扩散过程就是热处理过程,在整个制作工艺中极为重要。传统的扩散方法如表一表一<table>table see original document page 3</column></row><table>这是一种常规的恒温扩散程序,要防止高温下进出舟时硅片容易碎裂,采用较慢的进出舟速度,N型区的杂质分布是遵循常规的余误差分布。
技术实现思路
本专利技术的目的在于设计一种,该方法获得 一种太阳电池合适的N区磷杂质分布,并兼有部份的退火吸杂效应,以适应不 同硅片材料的加工,同时不增加原有的工艺时间。按照本专利技术提供的技术方案,,其特征是a、 进舟将一批硅片,竖插入石英舟中,置于扩散炉的硅碳浆上,将硅片推入有高温度的扩散炉管本文档来自技高网...

【技术保护点】
晶体硅太阳能电池的热处理方法,其特征是:a、进舟:将一批硅片,竖插入石英舟中,置于扩散炉的硅碳浆上,将硅片推入有高温度的扩散炉管温区中,扩散炉管温区的炉温为860~900℃;b、回温:进舟时推入的硅片、石英舟、硅碳浆是室温的 ,会引起扩散炉管高温区温度的下降,需要一个时间,使扩散炉管温区温度恢复至860~900℃;c、通源:在扩散炉温度达到稳定后,通入含磷的气体源,在硅片上生成含磷的磷硅玻璃氧化层,继而使含磷杂质扩散入硅片中;d、再扩:在不通源的 情况下,将磷硅玻璃内和进入硅片中的含磷杂质进一步向硅片内部扩散,起到杂质再分布和结深推进...

【技术特征摘要】
1、晶体硅太阳能电池的热处理方法,其特征是a、进舟将一批硅片,竖插入石英舟中,置于扩散炉的硅碳浆上,将硅片推入有高温度的扩散炉管温区中,扩散炉管温区的炉温为860~900℃;b、回温进舟时推入的硅片、石英舟、硅碳浆是室温的,会引起扩散炉管高温区温度的下降,需要一个时间,使扩散炉管温区温度恢复至860~900℃;c、通源在扩散炉温度达到...

【专利技术属性】
技术研发人员:邵爱军张忠
申请(专利权)人:江阴浚鑫科技有限公司
类型:发明
国别省市:32[中国|江苏]

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