湿法处理装置及湿法处理设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种湿法处理装置和湿法处理设备。湿法处理装置包括：喷淋模块和保护模块。喷淋模块，包括输送部和喷嘴，其中所述喷嘴固定设置于所述输送部的一端；以及设置于所述喷淋模块上的保护模块，包括固定部和保护部，所述固定部固定在所述输送部上，所述保护部可运动的设置在所述固定部上，且所述保护部相对于所述固定部运动以使得所述保护模块具有第一状态或第二状态，其中，在所述第一状态，所述保护部包容所述喷嘴，以及在所述第二状态，所述喷嘴裸露于所述保护部之外。所述喷嘴裸露于所述保护部之外。所述喷嘴裸露于所述保护部之外。

【技术实现步骤摘要】
湿法处理装置及湿法处理设备


[0001]本技术涉及半导体设计及制造领域，更具体地，涉及一种湿法处理装置和湿法处理设备。

技术介绍

[0002]在半导体器件的制造工艺中，包括大量的湿法处理工艺，例如湿法刻蚀以及湿法清洗等。在湿法处理工艺中，需要将溶液喷淋至待处理物体表面。然而，当处理工艺结束后可能仍会有少量残留的溶液滴落至待处理物体表面，这种现象将会在一定程度上损坏待处理物体。
[0003]此外，通常情况下为满足半导体器件的制造工艺需求，往往需要进行多种湿法工艺处理，例如需要进行湿法刻蚀以及湿法清洗等。然而，由于湿法刻蚀以及湿法清洗等工艺中使用的溶液不同，目前的湿法工艺处理机台通常会搭配至少四种以上的化学溶液，如用于刻蚀和清洗的酸性溶液、碱性溶液、异丙醇(IPA)溶液以及去离子水(DIW)等。
[0004]然而，由于多种不同特性的溶液不能共用管道，需要将多种溶液分别设置于不同管道中。因此，在实际应用中，机台上的运动机构通常会同时搭载装有不同溶液的多个管道。但是，这样会导致运动机构工作时多个管道会产生联动现象，对多个管道内液柱的稳定性提出了巨大的挑战。例如，当装有氢氟酸刻蚀液的管道的喷嘴在对晶圆进行刻蚀处理时，扫描臂移动带来的抖动就有可能使得装有臭氧清洗液的管道内的液体滴落在晶圆上，进而容易导致晶圆的报废。

技术实现思路

[0005]本技术提供了一种可至少部分解决现有技术中存在的上述问题的湿法处理装置和湿法处理设备。
[0006]本技术一方面提供了一种湿法处理装置。所述湿法处理装置包括：喷淋模块，包括输送部和喷嘴，其中所述喷嘴固定设置于所述输送部的一端；以及设置于所述喷淋模块上的保护模块，包括固定部和保护部，所述固定部固定在所述输送部上，所述保护部可运动的设置在所述固定部上，且所述保护部相对于所述固定部运动以使得所述保护模块具有第一状态或第二状态，其中，在所述第一状态，所述保护部包容所述喷嘴，以及在所述第二状态，所述喷嘴裸露于所述保护部之外。
[0007]在一个实施方式中，所述固定部设置有容纳腔，其中，在所述第一状态，所述保护部伸出所述容纳腔外；在所述第二状态，所述保护部容纳于所述容纳腔。
[0008]在一个实施方式中，所述保护部包括相对的固定端和自由端，所述固定端可转动的设置于所述固定部上，所述自由端靠近所述固定部运动可达所述第二状态，所述自由端远离所述固定部运动可达所述第一状态。
[0009]在一个实施方式中，所述装置还包括回吸所述输送部内的处理液的回吸模块，所述回吸模块设置于所述输送部上，且与所述输送部连通。
[0010]在一个实施方式中，所述装置还包括用于检测所述保护模块是否存在所述处理液的检测模块，所述检测模块设置在所述保护部上。
[0011]在一个实施方式中，所述装置还包括驱动模块和控制模块，其中，所述驱动模块分别与所述控制模块和所述保护部连接；所述控制模块控制所述驱动模块，驱动所述保护部相对于所述固定部的运动。
[0012]在一个实施方式中，所述装置包括多个所述喷淋模块，每个所述喷淋模块上设置一个所述保护模块，所述驱动模块的数量为至少一个，所述驱动模块与至少一个所述保护部连接。
[0013]本技术另一方面提供了一种湿法处理设备。该湿法处理设备包括上述湿法处理装置；以及承载待处理物体的承载装置，喷淋时，所述承载装置位于所述湿法处理装置的下方。
[0014]在一个实施方式中，所述承载装置带动所述待处理物体旋转。
[0015]在一个实施方式中，所述待处理物体包括半导体器件。
[0016]根据本申请提供的湿法处理装置及设备可至少具有以下其中之一的优点：
[0017]1)将保护模块设置喷淋模块上，当喷淋模块停止工作后，保护模块的保护部可包容喷嘴，以避免处理液滴落至待处理物体表面，从而可以防止对待处理物体造成损坏；
[0018]2)本申请通过在保护部上设置检测模块，可以检测保护模块是否存在处理液，有利于实时反馈保护模块上是否存在处理液，以便于及时检修喷淋模块，如喷淋模块上的回吸模块；
[0019]3)本申请提供的保护模块可设置于输送部靠近喷嘴的一端，保护模块不会直接接触处理液以及喷淋模块内部，可以有效避免保护模块带入新的颗粒物杂质至经喷嘴喷出的处理液中，进而减少因颗粒物杂质随处理液一起滴落至晶圆表面而造成晶圆报废的几率；以及
[0020]4)将保护模块设置喷淋模块上，当喷淋模块停止工作后，保护模块的保护部可包容喷嘴，可以起到保护喷嘴的作用，当多个喷淋模块中部分喷淋模块工作时，可以防止产生的飞溅液体对未工作的喷淋模块的喷嘴造成污染。
附图说明
[0021]通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显。其中：
[0022]图1A和1B分别是根据本申请的示例性实施方式的处于不工作状态和工作状态的湿法处理装置的结构示意图；
[0023]图2是根据本申请的另一示例性实施方式的湿法处理装置的结构示意图；
[0024]图3是根据本申请的另一示例性实施方式的湿法处理装置的示意性框图；以及
[0025]图4是根据本申请的示例性实施方式的湿法处理设备的示意性框图。
具体实施方式
[0026]为了更好地理解本申请，将参考附图对本申请的各个方面做出更详细的说明。应理解，这些详细说明只是对本申请的示例性实施方式的描述，而非以任何方式限制本申请
的范围。在说明书全文中，相同的附图标号指代相同的元件。表述“和/或”包括相关联的所列项目中的一个或多个的任何和全部组合。
[0027]应注意，在本说明书中，第一、第二、第三等的表述仅用于将一个特征与另一个特征区分开来，而不表示对特征的任何限制，尤其不表示任何的先后顺序。因此，在不背离本申请的教导的情况下，本申请中讨论的第一状态也可被称作第二状态，第一喷淋模块也可被称作第二喷淋模块，反之亦然。
[0028]在附图中，为了便于说明，已稍微调整了部件的厚度、尺寸和形状。附图仅为示例而并非严格按比例绘制。如在本文中使用的，用语“大致”、“大约”以及类似的用语用作表近似的用语，而不用作表程度的用语，并且旨在说明将由本领域普通技术人员认识到的、测量值或计算值中的固有偏差。
[0029]此外，在本文中，当描述一个部分位于另一部分“上”时，例如“在
……
上”、“在
……
之上”和“在
……
上方”的含义应以最宽泛的方式来解释，使得“在
……
上”不仅意味着“直接在某物上”，而且还包括其间具有中间特征或层的“在某物上”的含义，并且“在
……
之上”或“在
……
上方”并非绝对表示以重力方向为基准位于之上之意，也不仅意味着“在某物之上”或“在某物上方”的含义，而且还可以包括其间没有中间特征或层的“在某物之上”或“在某物上方”的含义(即，直接在某物本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种湿法处理装置，其特征在于，所述装置包括：喷淋模块，包括输送部和喷嘴，其中所述喷嘴固定设置于所述输送部的一端；以及设置于所述喷淋模块上的保护模块，包括固定部和保护部，所述固定部固定在所述输送部上，所述保护部可运动的设置在所述固定部上，且所述保护部相对于所述固定部运动以使得所述保护模块具有第一状态或第二状态，其中，在所述第一状态，所述保护部包容所述喷嘴，以及在所述第二状态，所述喷嘴裸露于所述保护部之外。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述固定部设置有容纳腔，其中，在所述第一状态，所述保护部伸出所述容纳腔外；在所述第二状态，所述保护部容纳于所述容纳腔。3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述保护部包括相对的固定端和自由端，所述固定端可转动的设置于所述固定部上，所述自由端靠近所述固定部运动可达所述第二状态，所述自由端远离所述固定部运动可达所述第一状态。4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括回吸所述输送部内的处理液的回吸模块，所述回吸模块设置于所述输送部上，且与所述输送部连...

【专利技术属性】
技术研发人员：祝君龙，赖睿彬，李君，夏余平，杜明利，
申请(专利权)人：长江存储科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：